公开(公告)号：US09436082B2

公开(公告)日：2016-09-06

申请号：US13341067

申请日：2011-12-30

申请人： Deyan Wang ,  Shintaro Yamada ,  Cong Liu ,  Mingqi Li ,  Joon-Seok Oh ,  Chunyi Wu ,  Doris Kang ,  Cheng-Bai Xu

发明人： Deyan Wang ,  Shintaro Yamada ,  Cong Liu ,  Mingqi Li ,  Joon-Seok Oh ,  Chunyi Wu ,  Doris Kang ,  Cheng-Bai Xu

IPC分类号： G03F7/004 ,  G03F7/30 ,  G03F7/039 ,  G03F7/11

CPC分类号： G03F7/0046 ,  G03F7/0397 ,  G03F7/11 ,  G03F7/30

摘要： New photoresist compositions are provided that comprise one or more materials that have base-reactive groups and are particularly useful for dry lithography. Particularly preferred photoresists of the invention can exhibit reduced defects following development of a coating layer of the resist.

摘要翻译： 提供新的光致抗蚀剂组合物，其包含一种或多种具有碱反应性基团并且特别用于干式光刻的材料。 本发明的特别优选的光致抗蚀剂可以在抗蚀剂的涂层开发之后表现出减少的缺陷。

公开(公告)号：US20120171626A1

公开(公告)日：2012-07-05

申请号：US13341067

申请日：2011-12-30

申请人： Deyan WANG ,  Shintaro Yamada ,  Cong Liu ,  Mingqi Li ,  Joon-Seok Oh ,  Chunyi Wu ,  Doris Kang ,  Cheng-Bai Xu

发明人： Deyan WANG ,  Shintaro Yamada ,  Cong Liu ,  Mingqi Li ,  Joon-Seok Oh ,  Chunyi Wu ,  Doris Kang ,  Cheng-Bai Xu

IPC分类号： G03F7/20

CPC分类号： G03F7/0046 ,  G03F7/0397 ,  G03F7/11 ,  G03F7/30

摘要： New photoresist compositions are provided that comprise one or more materials that have base-reactive groups and are particularly useful for dry lithography. Particularly preferred photoresists of the invention can exhibit reduced defects following development of a coating layer of the resist.

摘要翻译： 提供新的光致抗蚀剂组合物，其包含一种或多种具有碱反应性基团并且特别用于干式光刻的材料。 本发明的特别优选的光致抗蚀剂可以在抗蚀剂的涂层开发之后表现出减少的缺陷。

公开(公告)号：US09156785B2

公开(公告)日：2015-10-13

申请号：US13296949

申请日：2011-11-15

申请人： Emad Aqad ,  Mingqi Li ,  Cheng-Bai Xu ,  Deyan Wang ,  Cong Liu ,  Joon Seok Oh ,  Shintaro Yamada

发明人： Emad Aqad ,  Mingqi Li ,  Cheng-Bai Xu ,  Deyan Wang ,  Cong Liu ,  Joon Seok Oh ,  Shintaro Yamada

IPC分类号： G03F7/004 ,  G03F7/30 ,  C07C303/32 ,  C07C309/19 ,  C07C309/24 ,  C08F220/22 ,  C08F228/02 ,  C07C309/04 ,  C07C309/08 ,  C07C309/06 ,  C07C309/12 ,  C07C309/20 ,  C07C309/23 ,  C07C381/12 ,  G03F7/38 ,  C07C63/72 ,  C07C309/17 ,  G03F7/038 ,  G03F7/039 ,  G03F7/20

CPC分类号： C07C381/12 ,  C07C63/72 ,  C07C303/32 ,  C07C309/04 ,  C07C309/06 ,  C07C309/08 ,  C07C309/12 ,  C07C309/17 ,  C07C309/19 ,  C07C309/20 ,  C07C309/23 ,  C07C309/24 ,  C07C2602/42 ,  C08F220/22 ,  C08F228/02 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/0382 ,  G03F7/0397 ,  G03F7/2041 ,  G03F7/38

摘要： This invention relates to new photoacid generator compounds and photoresist compositions that comprise such compounds. In particular, the invention relates to photoacid generator compounds that comprise base-cleavable groups.

摘要翻译： 本发明涉及包含这些化合物的新的光酸产生剂化合物和光致抗蚀剂组合物。 特别地，本发明涉及包含可碱基裂解基团的光酸产生剂化合物。

公开(公告)号：US11106137B2

公开(公告)日：2021-08-31

申请号：US13297258

申请日：2011-11-15

申请人： Deyan Wang ,  Cong Liu ,  Mingqi Li ,  Joon Seok Oh ,  Cheng-Bai Xu ,  Doris H. Kang ,  Clark H. Cummins ,  Matthias S. Ober

发明人： Deyan Wang ,  Cong Liu ,  Mingqi Li ,  Joon Seok Oh ,  Cheng-Bai Xu ,  Doris H. Kang ,  Clark H. Cummins ,  Matthias S. Ober

IPC分类号： G03F7/20 ,  G03F7/004 ,  G03F7/039

摘要： New photoresist compositions are provided that are useful for immersion lithography. Preferred photoresist compositions of the invention comprise one or more materials that comprise one or more base reactive groups and (i) one or more polar groups distinct from the base reactive groups, and/or (ii) at least one of the base reactive groups is a non-perfluorinated base reactive group. Particularly preferred photoresists of the invention can exhibit reduced leaching of resist materials into an immersion fluid contacting the resist layer during immersion lithography processing.

公开(公告)号：US20130244178A1

公开(公告)日：2013-09-19

申请号：US13607728

申请日：2012-09-09

申请人： Gregory P. Prokopowicz ,  Gerhard Pohlers ,  Cong Liu ,  Chunyi Wu ,  Cheng-Bai Xu ,  Joon Seok Oh

发明人： Gregory P. Prokopowicz ,  Gerhard Pohlers ,  Cong Liu ,  Chunyi Wu ,  Cheng-Bai Xu ,  Joon Seok Oh

IPC分类号： G03F7/004 ,  G03F7/20

CPC分类号： G03F7/004 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/20

摘要： New photoresist compositions are provided that comprise a component that comprises two or more amide groups. Preferred photoresists of the invention may comprise a resin with photoacid-labile groups; a photoacid generator compound; and a multi-amide component that can function to decrease undesired photogenrated-acid diffusion out of unexposed regions of a photoresist coating layer

摘要翻译： 提供新的光致抗蚀剂组合物，其包含包含两个或多个酰胺基团的组分。 本发明优选的光致抗蚀剂可以包含具有光酸不稳定基团的树脂; 光致酸发生剂化合物; 以及可以起到减少光致抗蚀剂涂层的未曝光区域中不期望的光致酸扩散的作用的多酰胺组分

公开(公告)号：US08603728B2

公开(公告)日：2013-12-10

申请号：US13482559

申请日：2012-05-29

申请人： Gregory P. Prokopowicz ,  Gerhard Polhers ,  Mingqi Li ,  Chunyi Wu ,  Cong Liu ,  Cheng-bai Xu

发明人： Gregory P. Prokopowicz ,  Gerhard Polhers ,  Mingqi Li ,  Chunyi Wu ,  Cong Liu ,  Cheng-bai Xu

IPC分类号： G03F7/039 ,  C08F214/18 ,  C08F218/14 ,  C08F22/14

CPC分类号： C08F214/186 ,  C08F214/18 ,  C08F220/28 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/0397 ,  C08F2220/283 ,  C08F2220/185 ,  C08F220/32

摘要： A copolymer comprises the polymerized product of a base-soluble monomer of formula (I): wherein Ra is H, F, C1-10 alkyl, or C1-10 fluoroalkyl, L1 is an m valent C2-30 alkylene, C3-30 cycloalkylene, C6-30 arylene, C7-30 aralkylene group, X1 is independently a base-soluble organic group comprising β-diketone, β-ester-ketone, β-di-ester, or a combination comprising at least one of the foregoing; and an additional monomer copolymerizable with the base-soluble monomer of formula (I).

摘要翻译： 共聚物包含式（I）的可溶于碱的单体的聚合产物：其中R a是H，F，C 1-10烷基或C 1-10氟代烷基，L 1是m价C 2-30亚烷基，C 3-30亚环烷基 ，C 6-30亚芳基，C 3-30亚烷基，X 1独立地是包含β-二酮，β-酯 - 酮，β-二酯或包含前述的至少一种的组合的基础可溶性有机基团; 和可与式（I）的碱溶性单体共聚的另外的单体。

公开(公告)号：US20120301823A1

公开(公告)日：2012-11-29

申请号：US13482559

申请日：2012-05-29

申请人： Gregory P. Prokopowicz ,  Gerhard Pohlers ,  Mingqi Li ,  Chunyi Wu ,  Cong Liu ,  Cheng-bai Xu

发明人： Gregory P. Prokopowicz ,  Gerhard Pohlers ,  Mingqi Li ,  Chunyi Wu ,  Cong Liu ,  Cheng-bai Xu

IPC分类号： C08F224/00 ,  G03F7/004

CPC分类号： C08F214/186 ,  C08F214/18 ,  C08F220/28 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/0397 ,  C08F2220/283 ,  C08F2220/185 ,  C08F220/32

摘要： A copolymer comprises the polymerized product of a base-soluble monomer of formula (I): wherein Ra is H, F, C1-10 alkyl, or C1-10 fluoroalkyl, L1 is an m valent C2-30 alkylene, C3-30 cycloalkylene, C6-30 arylene, C7-30 aralkylene group, X1 is independently a base-soluble organic group comprising β-diketone, β-ester-ketone, β-di-ester, or a combination comprising at least one of the foregoing; and an additional monomer copolymerizable with the base-soluble monomer of formula (I).

摘要翻译： 共聚物包含式（I）的可溶于碱的单体的聚合产物：其中R a是H，F，C 1-10烷基或C 1-10氟烷基，L 1是m价的C 2-30亚烷基，C 3-30亚环烷基 ，C 6-30亚芳基，C 3-30亚烷基，X 1独立地为包含二 - 二酮，二酯 - 酮，二 - 二酯的基础可溶性有机基团，或包含至少一种 前面的; 和可与式（I）的碱溶性单体共聚的另外的单体。

公开(公告)号：US20140065540A1

公开(公告)日：2014-03-06

申请号：US14076724

申请日：2013-11-11

申请人： Deyan Wang ,  Chunyi Wu ,  Cong Liu ,  Gerhard Pohlers ,  Cheng-bai Xu ,  George G. Barclay

发明人： Deyan Wang ,  Chunyi Wu ,  Cong Liu ,  Gerhard Pohlers ,  Cheng-bai Xu ,  George G. Barclay

IPC分类号： G03F7/004

CPC分类号： G03F7/0397 ,  C08F220/18 ,  C08F220/24 ,  C08F220/32 ,  C08F220/34 ,  C08F220/36 ,  C08F220/38 ,  C08F220/58 ,  C08F226/06 ,  C08F2220/1833 ,  C08F2220/283 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/09 ,  G03F7/2041

摘要： A polymer includes the polymerized product of monomers including a nitrogen-containing monomer comprising formula (Ia), formula (Ib), or a combination of formulas (Ia) and (Ib), and an acid-deprotectable monomer having the formula (II): wherein a, L1, LN, Ra, Rb, Rc, and X are defined herein. The polymer is a useful component of a photoresist composition.

摘要翻译： 聚合物包括包含式（Ia），式（Ib）或式（Ia）和（Ib）的组合的含氮单体的单体的聚合产物和具有式（II）的酸可脱保护的单体， ：其中a，L1，LN，Ra，Rb，Rc和X在本文中定义。 聚合物是光致抗蚀剂组合物的有用组分。

公开(公告)号：US08722825B2

公开(公告)日：2014-05-13

申请号：US13482574

申请日：2012-05-29

申请人： Deyan Wang ,  Chunyi Wu ,  Cong Liu ,  Gerhard Pohlers ,  Cheng-bai Xu ,  George G. Barclay

发明人： Deyan Wang ,  Chunyi Wu ,  Cong Liu ,  Gerhard Pohlers ,  Cheng-bai Xu ,  George G. Barclay

IPC分类号： C08F226/06 ,  C08F214/18 ,  C08F220/34

CPC分类号： G03F7/0397 ,  C08F220/18 ,  C08F220/24 ,  C08F220/32 ,  C08F220/34 ,  C08F220/36 ,  C08F220/38 ,  C08F220/58 ,  C08F226/06 ,  C08F2220/1833 ,  C08F2220/283 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/09 ,  G03F7/2041

摘要： A polymer comprises the polymerized product of monomers comprising a nitrogen-containing monomer comprising formula (Ia), formula (Ib), or a combination of formulas (Ia) and (Ib), and an acid-deprotectable monomer having the formula (II): wherein a is 0 or 1, each Ra is independently H, F, C1-10 alkyl, or C1-10 fluoroalkyl, L1 is a straight chain or branched C1-20 alkylene group, or a monocyclic, polycyclic, or fused polycyclic C3-20 cycloalkylene group, each Rb is independently H, C1-10 alkyl, C3-20 cycloalkyl, C3-20 heterocycloalkyl, an aliphatic C5-20 oxycarbonyl, or a C1-30 acyl group optionally including a heteroatom substituent group, where each Rb is separate or at least one Rb is attached to an adjacent Rb; LN is a nitrogen-containing monocyclic, polycyclic, or fused polycyclic C3-20 heterocycloalkylene group, and X is H, C1-10 alkyl, aliphatic C5-20 oxycarbonyl, or a C1-30 acyl group optionally including a heteroatom substituent group; and each Rc is independently C1-10 alkyl, C3-20 cycloalkyl, or C3-20 heterocycloalkyl, wherein each Rc is separate or at least one Rc is attached to an adjacent Rc.

摘要翻译： 聚合物包含包含式（Ia），式（Ib）或式（Ia）和（Ib）的组合的含氮单体的单体的聚合产物和具有式（II）的酸可去保护的单体， ：其中a为0或1，每个R a独立地为H，F，C 1-10烷基或C 1-10氟烷基，L 1为直链或支链C 1-20亚烷基，或单环，多环或稠合多环C3 -20个亚环烷基，每个R b独立地为H，C 1-10烷基，C 3-20环烷基，C 3-20杂环烷基，脂族C 5-20氧羰基或任选地包含杂原子取代基的C1-30酰基，其中每个R b 是分开的或至少一个Rb连接到相邻的Rb; LN是含氮单环，多环或稠合多环C 3-20杂环亚烷基，X是H，C 1-10烷基，脂肪族C 5-20氧羰基或任选包含杂原子取代基的C 1-3酰基; 并且每个R c独立地为C 1-10烷基，C 3-20环烷基或C 3-20杂环烷基，其中每个R c是分开的或至少一个R c连接到相邻的Rc。

公开(公告)号：US20130137035A1

公开(公告)日：2013-05-30

申请号：US13482574

申请日：2012-05-29

申请人： Deyan Wang ,  Chunyi Wu ,  Cong Liu ,  Gerhard Pohlers ,  Cheng-bai Xu ,  George G. Barclay

发明人： Deyan Wang ,  Chunyi Wu ,  Cong Liu ,  Gerhard Pohlers ,  Cheng-bai Xu ,  George G. Barclay

IPC分类号： C08F220/34 ,  C08F226/06

CPC分类号： G03F7/0397 ,  C08F220/18 ,  C08F220/24 ,  C08F220/32 ,  C08F220/34 ,  C08F220/36 ,  C08F220/38 ,  C08F220/58 ,  C08F226/06 ,  C08F2220/1833 ,  C08F2220/283 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/09 ,  G03F7/2041

摘要： A polymer comprises the polymerized product of monomers comprising a nitrogen-containing monomer comprising formula (Ia), formula (Ib), or a combination of formulas (Ia) and (Ib), and an acid-deprotectable monomer having the formula (II): wherein a is 0 or 1, each Ra is independently H, F, C1-10 alkyl, or C1-10 fluoroalkyl, L1 is a straight chain or branched C1-20 alkylene group, or a monocyclic, polycyclic, or fused polycyclic C3-20 cycloalkylene group, each Rb is independently H, C1-10 alkyl, C3-20 cycloalkyl, C3-20 heterocycloalkyl, an aliphatic C5-20 oxycarbonyl, or a C1-30 acyl group optionally including a heteroatom substituent group, where each Rb is separate or at least one Rb is attached to an adjacent Rb; LN is a nitrogen-containing monocyclic, polycyclic, or fused polycyclic C3-20 heterocycloalkylene group, and X is H, C1-10 alkyl, aliphatic C5-20 oxycarbonyl, or a C1-30 acyl group optionally including a heteroatom substituent group; and each Rc is independently C1-10 alkyl, C3-20 cycloalkyl, or C3-20 heterocycloalkyl, wherein each Rc is separate or at least one Rc is attached to an adjacent Rc.

摘要翻译： 聚合物包含包含式（Ia），式（Ib）或式（Ia）和（Ib）的组合的含氮单体的单体的聚合产物和具有式（II）的酸可去保护的单体， ：其中a为0或1，每个R a独立地为H，F，C 1-10烷基或C 1-10氟烷基，L 1为直链或支链C 1-20亚烷基，或单环，多环或稠合多环C3 -20个亚环烷基，每个R b独立地为H，C 1-10烷基，C 3-20环烷基，C 3-20杂环烷基，脂族C 5-20氧羰基或任选地包含杂原子取代基的C1-30酰基，其中每个R b 是分开的或至少一个Rb连接到相邻的Rb; LN是含氮单环，多环或稠合多环C 3-20杂环亚烷基，X是H，C 1-10烷基，脂肪族C 5-20氧羰基或任选包含杂原子取代基的C 1-3酰基; 并且每个R c独立地为C 1-10烷基，C 3-20环烷基或C 3-20杂环烷基，其中每个R c是分开的或至少一个R c连接到相邻的Rc。