公开(公告)号：US20180039173A1

公开(公告)日：2018-02-08

申请号：US15666731

申请日：2017-08-02

申请人： Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.

发明人： Jun Hatakeyama ,  Masaki Ohashi

IPC分类号： G03F7/004 ,  G03F7/038 ,  G03F7/16 ,  C08F224/00 ,  G03F7/38 ,  G03F7/32 ,  C08F220/28 ,  C08F220/18 ,  G03F7/039 ,  G03F7/20

CPC分类号： G03F7/0045 ,  C07C69/63 ,  C07C303/32 ,  C07C309/04 ,  C07C309/06 ,  C07C309/17 ,  C07C309/19 ,  C07C309/23 ,  C07C309/24 ,  C08F212/02 ,  C08F220/18 ,  C08F220/22 ,  C08F220/24 ,  C08F220/28 ,  C08F220/38 ,  C08F224/00 ,  C08F228/02 ,  C08F2220/185 ,  C08F2220/1866 ,  C08F2220/281 ,  C08F2220/282 ,  C08F2220/283 ,  C08F2220/303 ,  C08F2220/382 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/0048 ,  G03F7/0382 ,  G03F7/0392 ,  G03F7/0397 ,  G03F7/162 ,  G03F7/168 ,  G03F7/2004 ,  G03F7/2006 ,  G03F7/2037 ,  G03F7/2041 ,  G03F7/322 ,  G03F7/325 ,  G03F7/38

摘要： A resist composition comprising a base polymer and a sulfonium or iodonium salt of iodinated phenoxy or iodinated phenylalkoxy-containing fluorinated sulfonic acid offers a high sensitivity and minimal LWR or improved CDU independent of whether it is of positive or negative tone.

公开(公告)号：US20160145205A1

公开(公告)日：2016-05-26

申请号：US14952420

申请日：2015-11-25

申请人： SUMITOMO CHEMICAL COMPANY, LIMITED

发明人： Hiromu SAKAMOTO ,  Koji ICHIKAWA

IPC分类号： C07C309/17 ,  G03F7/039 ,  G03F7/16 ,  C08F220/68 ,  G03F7/38 ,  G03F7/32 ,  C07C321/20 ,  C08F224/00 ,  G03F7/20

CPC分类号： C08F228/02 ,  C07C69/54 ,  C07C69/653 ,  C07C303/32 ,  C07C309/04 ,  C07C309/06 ,  C07C309/07 ,  C07C309/17 ,  C07C309/20 ,  C07C309/22 ,  C07C309/23 ,  C07C381/12 ,  C07C2603/74 ,  C08F220/18 ,  C08F220/20 ,  C08F226/06 ,  C08F2220/1858 ,  C08F2220/1883 ,  C08F2220/1891 ,  C08F2220/301 ,  C08F2220/303 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/0397 ,  G03F7/38

摘要： A salt represented by formula (1): wherein Q1 and Q2 independently represent a fluorine atom or a C1 to C6 perfluoroalkyl group, R1 and R2 each independently represent a hydrogen atom, a fluorine atom or a C1 to C6 perfluoroalkyl group, z represents an integer of 0 to 6, R3 represents a hydrogen atom, a fluorine atom, a C1 to C12 alkyl group or a C1 to C12 fluorinated alkyl group, R4 represents a C1 to C12 fluorinated alkyl group, L2 represents a single bond, a C1 to C12 divalent saturated hydrocarbon group, etc., R5 represents a hydrogen atom, a halogen atom or a C1 to C6 alkyl group that may have a halogen atom, L1 represents a group represented by formula (b1-1), etc., * represents a bonding site to —CR3R4; Lb2 and Lb3 each independently represent a single bond or a C1 to C22 divalent saturated hydrocarbon group; Z+ represents an organic cation.

摘要翻译： 由式（1）表示的盐：其中Q1和Q2独立地表示氟原子或C1〜C6全氟烷基，R1和R2各自独立地表示氢原子，氟原子或C1〜C6全氟烷基，z表示 0〜6的整数，R3表示氢原子，氟原子，C1〜C12烷基或C1〜C12氟化烷基，R4表示C1〜C12氟化烷基，L2表示单键，C1〜 C12二价饱和烃基等，R5表示氢原子，卤素原子或可具有卤素原子的C1〜C6烷基，L1表示由式（b1-1）表示的基团等，*表示 与-CR3R4的结合位点; Lb2和Lb3各自独立地表示单键或C1〜C22二价饱和烃基; Z +表示有机阳离子。

公开(公告)号：US20120129108A1

公开(公告)日：2012-05-24

申请号：US13296949

申请日：2011-11-15

申请人： Emad AQAD ,  Mingqi LI ,  Cheng-Bai XU ,  Deyan WANG ,  Cong LIU ,  Joon Seok OH ,  Shintaro YAMADA

发明人： Emad AQAD ,  Mingqi LI ,  Cheng-Bai XU ,  Deyan WANG ,  Cong LIU ,  Joon Seok OH ,  Shintaro YAMADA

IPC分类号： G03F7/20 ,  C08G75/00 ,  C07C309/19

CPC分类号： C07C381/12 ,  C07C63/72 ,  C07C303/32 ,  C07C309/04 ,  C07C309/06 ,  C07C309/08 ,  C07C309/12 ,  C07C309/17 ,  C07C309/19 ,  C07C309/20 ,  C07C309/23 ,  C07C309/24 ,  C07C2602/42 ,  C08F220/22 ,  C08F228/02 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/0382 ,  G03F7/0397 ,  G03F7/2041 ,  G03F7/38

摘要： This invention relates to new photoacid generator compounds and photoresist compositions that comprise such compounds. In particular, the invention relates to photoacid generator compounds that comprise base-cleavable groups.

摘要翻译： 本发明涉及包含这些化合物的新的光酸产生剂化合物和光致抗蚀剂组合物。 特别地，本发明涉及包含可碱基裂解基团的光酸产生剂化合物。

公开(公告)号：US5064641A

公开(公告)日：1991-11-12

申请号：US439977

申请日：1989-11-22

申请人： Gerard Lang ,  Serge Forestier ,  Claudine Morie ,  Alain Lagrange

发明人： Gerard Lang ,  Serge Forestier ,  Claudine Morie ,  Alain Lagrange

IPC分类号： A61K8/00 ,  A61K8/46 ,  A61K8/92 ,  A61Q1/00 ,  A61Q1/02 ,  A61Q1/12 ,  A61Q17/04 ,  C07C309/23 ,  C07C309/24 ,  C09K3/00

CPC分类号： C07C309/23 ,  A61K8/466 ,  A61Q1/02 ,  A61Q17/04 ,  C07C309/24 ,  C07C2102/42

摘要： Polyvalent metal salt of a sulphonated derivative of benzylidenecamphor having the general formula: ##STR1## in which M.sup.n+ denotes a polyvalent metal cation in which n is equal to 2, 3 or 4; andOne of the symbols X.sub.1 or X.sub.2 denotes a hydrogen atom, the other denoting one of the following radicals Y.sub.1 Y.sub.2 : ##STR2## where M.sup.n+ has the same meaning as above. Cosmetic composition screening out UV rays of wavelengths 280-380 nm, containing the compound of formula (I) as well as, optionally, other sunscreens.

摘要翻译： 具有以下通式的亚苄基a磺酸衍生物的多价金属盐：其中Mn +表示n等于2,3或4的多价金属阳离子; 符号X 1或X 2中的一个表示氢原子，另一个表示以下基团之一Y 1 Y 2：其中Mn +具有与上述相同的含义。 化妆品组合物筛选出包含式（I）化合物以及任选的其它防晒剂的280-380nm波长紫外线。

公开(公告)号：US20160332962A1

公开(公告)日：2016-11-17

申请号：US15152705

申请日：2016-05-12

申请人： Janssen Pharmaceutica NV

发明人： Cheng Yi Chen ,  Oliver Floegel ,  Michael Justus ,  Adrian Maurer ,  Karl Reuter ,  Tobias Strittmatter ,  Tobias Wedel

IPC分类号： C07C309/23 ,  C07C225/20

CPC分类号： C07C309/23 ,  C07B2200/07 ,  C07B2200/13 ,  C07C225/20 ,  C07C309/19 ,  C07C2601/14 ,  C07C2602/42 ,  H05K999/99

摘要： The present invention is directed to processes for the preparation of esketamine. The present invention is further directed to processes for the resolution of S-ketamine from a racemic or enantiomerically enriched mixture of ketamine. The present invention is further directed to an (S)-CSA salt of S-ketamine, more particularly a monohydrate form of the (S)-CSA salt of S-ketamine, and to an (R)-CSA salt of R-ketamine.

摘要翻译： 本发明涉及制备西沙酮的方法。 本发明还涉及从氯胺酮的外消旋或对映体富集的混合物中分离S-氯胺酮的方法。 本发明还涉及S-氯胺酮的（S）-CSA盐，更特别是S-氯胺酮的（S）-CSA盐的一水合物形式和R-氯胺酮的（R）-CSA盐 。

公开(公告)号：US20130058990A1

公开(公告)日：2013-03-07

申请号：US13634194

申请日：2011-03-07

申请人： Herve Richard ,  Benoit Muller

发明人： Herve Richard ,  Benoit Muller

IPC分类号： A61K8/49 ,  A61K8/42 ,  A61K8/44 ,  A61K8/46 ,  A61K8/11 ,  C07D295/145 ,  C07C229/46 ,  C07C317/48 ,  C07D277/04 ,  C07D263/06 ,  C07D211/46 ,  A61Q17/04 ,  C07C309/18

CPC分类号： A61K8/35 ,  A61K8/40 ,  A61K8/41 ,  A61K8/44 ,  A61K8/46 ,  A61K8/466 ,  A61K8/49 ,  A61K8/4926 ,  A61Q17/04 ,  C07C229/30 ,  C07C229/46 ,  C07C255/30 ,  C07C255/31 ,  C07C309/12 ,  C07C309/14 ,  C07C309/15 ,  C07C309/22 ,  C07C309/23 ,  C07C317/48 ,  C07C2601/16 ,  C07D211/46 ,  C07D263/14 ,  C07D277/10

摘要： The present invention relates to a cosmetic composition containing a combination i) of at least one screening agent of the dibenzoylmethane derivative type and ii) of at least one particular hydrophilic or water-soluble merocyanin UV-screening agent, especially corresponding to one of the formulae (I) or (II) below: in which at least one or two of the radicals contain: either an alkylsulfonate radical in its acid or salified form, or one or two hydroxyl radicals. The invention also relates to a process for the radiation-photostabilization of at least one screening agent of the dibenzoylmethane derivative type with an effective amount of at least one particular hydrophilic or water-soluble merocyanin UV-screening agent, especially corresponding to one of the formulae (I) or (II).

摘要翻译： 本发明涉及包含至少一种二苯甲酰甲烷衍生物类型的筛选剂的组合i）和ii）至少一种特别亲水或水溶性的花青素UV-筛选剂的化妆品组合物，特别是对应于式 （I）或（II）：其中至少一个或两个基团含有：其酸或盐化形式的烷基磺酸根基团或一个或两个羟基基团。 本发明还涉及至少一种二苯甲酰甲烷衍生物类型的筛选剂与有效量的至少一种特别的亲水或水溶性的花青素UV-筛选剂的辐射光稳定化方法，特别是对应于式 （I）或（II）。

公开(公告)号：US08043786B2

公开(公告)日：2011-10-25

申请号：US10547769

申请日：2004-02-20

申请人： Satoshi Ebata ,  Yong Wang ,  Isao Nishimura

发明人： Satoshi Ebata ,  Yong Wang ,  Isao Nishimura

IPC分类号： G03F7/039 ,  G03F7/038 ,  C07C317/04 ,  C07C309/80

CPC分类号： C07C309/19 ,  C07C309/17 ,  C07C309/23 ,  C07C381/12 ,  C07C2602/42 ,  C07C2603/86 ,  C07D207/46 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/0382 ,  G03F7/0392 ,  G03F7/0397 ,  G03F7/0757 ,  Y10S430/106 ,  Y10S430/111 ,  Y10S430/115 ,  Y10S430/122 ,  Y10S430/126

摘要： The invention provides novel acid generators which are unproblematic in combustibility and accumulation inside the human body and can generate acids having high acidities and high boiling points and exhibiting properly short diffusion lengths in resist coating films and which permit the formation of resist patterns excellent smoothness with little dependence on the denseness of a mask pattern; sulfonic acids generated from the acid generators; sulfonyl halides useful as raw material in the synthesis of the acid generators; and radiation-sensitive resin compositions containing the acid generators. The acid generators have structures represented by the general formula (I), wherein R1 is a monovalent substituent such as alkoxycarbonyl, alkylsulfonyl, or alkoxysulfonyl; R2 to R4 are each hydrogen or alkyl; k is an integer of 0 or above; and n is an integer of 0 to 5. Among the radiation-sensitive resin compositions, a positive one contains a resin having acid-dissociable groups in addition to the above acid generator, while a negative one contains an alkali-soluble resin and a crosslinking agent in addition to the acid generator.

摘要翻译： 本发明提供了新颖的酸产生剂，其在人体内的可燃性和积聚中是无问题的，并且可以产生具有高酸度和高沸点的酸，并且在抗蚀剂涂膜中显示适当短的扩散长度，并且允许形成抗蚀剂图案，具有极好的平滑性 依赖于掩模图案的致密度; 酸产生器产生的磺酸; 用于合成酸发生剂的原料的磺酰卤; 和含有酸发生剂的辐射敏感性树脂组合物。 酸产生剂具有由通式（I）表示的结构，其中R 1是一价取代基，例如烷氧基羰基，烷基磺酰基或烷氧基磺酰基; R2至R4各自为氢或烷基; k为0以上的整数; 并且n为0〜5的整数。在这些辐射敏感性树脂组合物中，除了上述酸产生剂之外，阳性物质含有具有酸解离基团的树脂，而负极性物质含有碱溶性树脂和交联 除酸产生剂外还可加入。

公开(公告)号：US20050176982A1

公开(公告)日：2005-08-11

申请号：US10660255

申请日：2003-09-11

申请人： Kyoichi Tomita ,  Shinji Ishii

发明人： Kyoichi Tomita ,  Shinji Ishii

IPC分类号： C07C25/02 ,  C07C25/18 ,  C07C303/32 ,  C07C305/04 ,  C07C305/06 ,  C07C309/04 ,  C07C309/06 ,  C07C309/23 ,  C07C309/24 ,  C07C309/25 ,  C07C309/29 ,  C07C309/30 ,  C07C309/33 ,  C07C309/39 ,  C07C309/43 ,  C07C381/12 ,  C07F9/09 ,  C07F9/40 ,  C07F9/02

CPC分类号： C07C381/12 ,  C07C25/02 ,  C07C25/18 ,  C07C303/24 ,  C07C303/32 ,  C07C2602/42 ,  C07F9/09 ,  C07F9/4075 ,  C07C309/06 ,  C07C309/23 ,  C07C309/29 ,  C07C309/39 ,  C07C309/43 ,  C07C305/04

摘要： The invention provides a high-yield method for producing onium salt derivatives useful as agents, such as acid-generators, employed in chemically amplified resists; and to provide novel onium salt derivatives. Reaction of an onium salt derivative containing a halide anion or a carboxylate anion with a sulfonic acid ester derivative or a phosphoric acid derivative provides an onium sulfate derivative or an onium phosphate derivative at high yield.

摘要翻译： 本发明提供了一种用于生产用作化学放大抗蚀剂中的酸产生剂的鎓盐衍生物的高产率方法; 并提供新的鎓盐衍生物。 含有卤化物阴离子或羧酸根阴离子的鎓盐衍生物与磺酸酯衍生物或磷酸衍生物的反应以高收率得到硫酸鎓衍生物或者磷酸鎓衍生物。

公开(公告)号：US06620957B1

公开(公告)日：2003-09-16

申请号：US09890842

申请日：2001-08-03

申请人： Kyoichi Tomita ,  Shinji Ishii

发明人： Kyoichi Tomita ,  Shinji Ishii

IPC分类号： C07C30500

CPC分类号： C07C381/12 ,  C07C25/02 ,  C07C25/18 ,  C07C303/24 ,  C07C303/32 ,  C07C2602/42 ,  C07F9/09 ,  C07F9/4075 ,  C07C309/06 ,  C07C309/23 ,  C07C309/29 ,  C07C309/39 ,  C07C309/43 ,  C07C305/04

摘要： The invention provides a high-yield method for producing onium salt derivatives useful as agents, such as acid-generators, employed in chemically amplified resists; and to provide novel onium salt derivatives. Reaction of an onium salt derivative containing a halide anion or a carboxylate anion with a sulfonic acid ester derivative or a phosphoric acid derivative provides an onium sulfate derivative or an onium phosphate derivative at high yield.

摘要翻译： 本发明提供了一种用于生产用作化学放大抗蚀剂中的酸产生剂的鎓盐衍生物的高产率方法; 并提供新的鎓盐衍生物。 含有卤化物阴离子或羧酸根阴离子的鎓盐衍生物与磺酸酯衍生物或磷酸衍生物的反应以高收率得到硫酸鎓衍生物或者磷酸鎓衍生物。

公开(公告)号：US20240352040A1

公开(公告)日：2024-10-24

申请号：US18293374

申请日：2022-08-02

申请人： GENFLEET THERAPEUTICS (SHANGHAI) INC. ,  ZHEJIANG GENFLEET THERAPEUTICS CO., LTD.

发明人： Fusheng ZHOU ,  Yuanzhi TAO ,  Jinzhu ZHAO ,  Jiong LAN

IPC分类号： C07D519/00 ,  A61K31/185 ,  A61K31/194 ,  A61K31/4375 ,  C07C55/22 ,  C07C57/145 ,  C07C57/15 ,  C07C309/04 ,  C07C309/23 ,  C07C309/24

CPC分类号： C07D519/00 ,  A61K31/185 ,  A61K31/194 ,  A61K31/4375 ,  C07C55/22 ,  C07C57/145 ,  C07C57/15 ,  C07C309/04 ,  C07C309/23 ,  C07C309/24 ,  C07B2200/13 ,  C07C2601/14 ,  C07C2601/16

摘要： Disclosed are a crystal form of a RIPK1 inhibitor, an acid salt thereof, and a crystal form of an acid salt thereof. The crystal form of the RIPK1 inhibitor, the acid salt thereof, and the crystal form of the acid salt thereof have advantages of good stability and low hygroscopicity, and same have good pharmaceutical prospects.