公开(公告)号：US07612867B2

公开(公告)日：2009-11-03

申请号：US12222483

申请日：2008-08-11

申请人： Gerard Van Schothorst ,  Fransiscus Hendrikus Van Deuren ,  Jan Van Eijk ,  Erik Roelof Loopstra ,  Robert-Han Munnig Schmidt ,  Felix Godfried Peter Peeters

发明人： Gerard Van Schothorst ,  Fransiscus Hendrikus Van Deuren ,  Jan Van Eijk ,  Erik Roelof Loopstra ,  Robert-Han Munnig Schmidt ,  Felix Godfried Peter Peeters

IPC分类号： G03B27/54 ,  G03B27/72

CPC分类号： G03F7/70066 ,  G03F7/70191

摘要： A lithographic apparatus including means for selectively transmitting a projection beam before imaging the patterned projection beam onto a substrate. The means may include any of the following: a selectively transmitting device disposed downstream of a patterning device in the direction of the projection beam, a fixed and a moving set of masking blades in a scanning system or an array of switchable elements. The means may be provided to a mask table/holder or to a frame or structure of the lithographic projection apparatus.

摘要翻译： 一种光刻设备，包括用于在将图案化的投影光束成像到衬底上之前选择性地透射投影光束的装置。 该装置可以包括以下任何一种：在投影光束的方向上布置在图案形成装置的下游的选择性发射装置，扫描系统中的固定的和可移动的掩蔽刀片组，或可切换元件的阵列。 该装置可以提供给掩模台/保持器或光刻投影装置的框架或结构。

公开(公告)号：US07248339B2

公开(公告)日：2007-07-24

申请号：US10880606

申请日：2004-07-01

申请人： Gerard Van Schothorst ,  Jan Van Eijk ,  Erik Roelof Loopstra ,  Robert-Han Munnig Schmidt ,  Felix Godfried Peter Peeters

发明人： Gerard Van Schothorst ,  Jan Van Eijk ,  Erik Roelof Loopstra ,  Robert-Han Munnig Schmidt ,  Felix Godfried Peter Peeters

IPC分类号： G03B27/58

CPC分类号： F16F7/1005 ,  G03F7/709

摘要： A lithographic apparatus is presented in which vibrations induced by reaction forces exerted on a base frame BF by accelerations within the apparatus are eliminated without the need for complex positioning systems and several balance masses. This is achieved by using feed-forward control to apply a compensating force using actuators to the base frame, based on knowledge of the movements and accelerations of the substrate table and other parts within the apparatus.

摘要翻译： 提出了一种光刻设备，其中消除了由设备内的加速度施加在基架BF上的反作用力引起的振动，而不需要复杂的定位系统和几个平衡块。 这是通过使用前馈控制来实现的，其基于对基板台和设备内的其它部件的运动和加速度的了解，将使用致动器的补偿力施加到基架上。

公开(公告)号：US20090002676A1

公开(公告)日：2009-01-01

申请号：US12222483

申请日：2008-08-11

申请人： Gerard Van Schothorst ,  Fransiscus Hendrikus Van Deuren ,  Jan Van Eijk ,  Erik Roelof Loopstra ,  Robert-Han Munnig Schmidt ,  Felix Godfried Peter Peeters

发明人： Gerard Van Schothorst ,  Fransiscus Hendrikus Van Deuren ,  Jan Van Eijk ,  Erik Roelof Loopstra ,  Robert-Han Munnig Schmidt ,  Felix Godfried Peter Peeters

IPC分类号： G03B27/72

CPC分类号： G03F7/70066 ,  G03F7/70191

摘要： A lithographic apparatus including means for selectively transmitting a projection beam before imaging the patterned projection beam onto a substrate. The means may include any of the following: a selectively transmitting device disposed downstream of a patterning device in the direction of the projection beam, a fixed and a moving set of masking blades in a scanning system or an array of switchable elements. The means may be provided to a mask table/holder or to a frame or structure of the lithographic projection apparatus.

公开(公告)号：US07423730B2

公开(公告)日：2008-09-09

申请号：US10848586

申请日：2004-05-19

申请人： Gerard Van Schothorst ,  Fransiscus Hendrikus Van Deuren ,  Jan Van Eijk ,  Erik Roelof Loopstra ,  Robert-Han Munnig Schmidt ,  Felix Godfried Peter Peeters

发明人： Gerard Van Schothorst ,  Fransiscus Hendrikus Van Deuren ,  Jan Van Eijk ,  Erik Roelof Loopstra ,  Robert-Han Munnig Schmidt ,  Felix Godfried Peter Peeters

IPC分类号： G03B27/72

CPC分类号： G03F7/70066 ,  G03F7/70191

摘要： A lithographic apparatus including means for selectively transmitting a projection beam before imaging the patterned projection beam onto a substrate. The means may include any of the following: a selectively transmitting device disposed downstream of a patterning device in the direction of the projection beam, a fixed and a moving set of masking blades in a scanning system or an array of switchable elements. The means may be provided to a mask table/holder or to a frame or structure of the lithographic projection apparatus.

摘要翻译： 一种光刻设备，包括用于在将图案化的投影光束成像到衬底上之前选择性地透射投影光束的装置。 该装置可以包括以下任何一种：在投影光束的方向上布置在图案形成装置的下游的选择性发射装置，扫描系统中的固定的和可移动的掩蔽刀片组，或可切换元件的阵列。 该装置可以提供给掩模台/保持器或光刻投影装置的框架或结构。

公开(公告)号：US07110086B2

公开(公告)日：2006-09-19

申请号：US10864805

申请日：2004-06-10

申请人： Erik Roelof Loopstra ,  Robert-Han Munnig Schmidt

发明人： Erik Roelof Loopstra ,  Robert-Han Munnig Schmidt

IPC分类号： G03B27/42 ,  G03B27/58 ,  H02K41/00

CPC分类号： G03F7/70766 ,  G03F7/70716 ,  G03F7/70758 ,  G03F7/709

摘要： A movable stage system capable of operating in a lithographic apparatus, is presented. The movable stage system includes a base, a platform that is movable relative to the base, a balance mass that is movable relative to the base and is configured to compensate for forces generated by a movement of the platform, and a drive mechanism configured to move the platform and the balance mass relative to the base. The drive mechanism comprises at least one belt transmission that couples the platform and the balance mass such that when the platform moves along a direction, the balance mass is moved in an at least partially opposite direction, and a driving device configured to mechanically engage the balance mass or the platform to directly drive the platform or the balance mass.

摘要翻译： 提出了一种能够在光刻设备中工作的可移动平台系统。 可移动平台系统包括基座，可相对于基座移动的平台，可相对于基座移动的平衡块，其构造成补偿由平台的运动产生的力;以及驱动机构，其构造成移动 平台和平衡质量相对于基座。 所述驱动机构包括至少一个皮带传动装置，其连接所述平台和所述平衡块，使得当所述平台沿着一个方向移动时，所述平衡块沿至少部分相反的方向移动，并且驱动装置构造成机械地接合所述平衡 质量或平台直接驱动平台或平衡块。

公开(公告)号：US09696633B2

公开(公告)日：2017-07-04

申请号：US13582725

申请日：2011-03-14

申请人： Johannes Onvlee ,  Robert-Han Munnig Schmidt

发明人： Johannes Onvlee ,  Robert-Han Munnig Schmidt

IPC分类号： G03B27/42 ,  G03B27/52 ,  G03F7/20 ,  B65H23/24

CPC分类号： G03F7/70258 ,  B65H23/245 ,  B65H2406/311 ,  G03F7/70275 ,  G03F7/70283 ,  G03F7/70391 ,  G03F7/70525 ,  G03F7/70583 ,  G03F7/707 ,  G03F7/70775 ,  G03F7/70816

摘要： A substrate handling apparatus for handling a substrate is disclosed. The substrate handling apparatus includes a substrate feeding device to feed the substrate towards an exposure area, a substrate receiving device to receive the substrate from the exposure area, and a substrate stabilization device to maintain, at least in the exposure area, the substrate substantially flat at an exposure height and/or tilt, the substrate stabilization device configured for contactless stabilization of the flexible substrate.

公开(公告)号：US07016020B2

公开(公告)日：2006-03-21

申请号：US10846832

申请日：2004-05-17

申请人： Robert-Han Munnig Schmidt

发明人： Robert-Han Munnig Schmidt

IPC分类号： G03B27/58 ,  G03B27/62 ,  H02K41/00

CPC分类号： G03F7/70758 ,  H02K41/0356 ,  H02K2201/18

摘要： A positioning device for positioning an object is presented. The positioning device includes a first drive unit and a second drive unit for positioning the object. The first drive unit has a first part connected to the object and a second part connected to a first part of the second drive unit. The positioning device further includes a permanent magnet system constructed and arranged to provide at least part of the force for accelerating or decelerating the object.

摘要翻译： 提出了一种用于定位物体的定位装置。 定位装置包括用于定位物体的第一驱动单元和第二驱动单元。 第一驱动单元具有连接到物体的第一部分和连接到第二驱动单元的第一部分的第二部分。 该定位装置还包括永磁体系统，其构造和布置成提供用于加速或减速物体的至少一部分力。

公开(公告)号：US06498350B2

公开(公告)日：2002-12-24

申请号：US09739106

申请日：2000-12-19

申请人： Yim Bun P. Kwan ,  Engelbertus A. F. van de Pasch ,  Andreas B. G. Ariens ,  Edwin J. Buis ,  Jan F. Hoogkamp ,  Robert-Han Munnig Schmidt

发明人： Yim Bun P. Kwan ,  Engelbertus A. F. van de Pasch ,  Andreas B. G. Ariens ,  Edwin J. Buis ,  Jan F. Hoogkamp ,  Robert-Han Munnig Schmidt

IPC分类号： H01J3713

CPC分类号： G03F7/70733 ,  G03F7/70716

摘要： In a multi-table lithographic apparatus in which substrate tables may be exchanged between a first working zone where substrates are loaded onto and removed from the table and a second working zones where wafers are exposed, collision prevention means are provided to prevent collisions between tables in the exchange process. The collision prevention means may be formed of a labyrinth or a revolving door. The exchange process may be controlled by shuttles, optionally including drive means, that are interlinked so that the tables can only be exchanged between zones together.

摘要翻译： 在其中衬底台可以在其中将基板装载到桌子上并从桌子上移除的第一工作区域和其中晶片暴露的第二工作区域之间进行交换的多工位平版印刷设备中，提供了防止碰撞的装置， 交流过程。 碰撞防止装置可以由迷宫式或旋转门形成。 交换过程可以通过彼此连接的梭子（可选地包括驱动装置）来控制，使得表只能在区域之间交换。

公开(公告)号：US08368868B2

公开(公告)日：2013-02-05

申请号：US12627087

申请日：2009-11-30

申请人： Johannes Petrus Martinus Bernardus Vermeulen ,  Marcel Koenraad Marie Baggen ,  Hans Butler ,  Henrikus Herman Marie Cox ,  Jan Van Eijk ,  Andre Bernardus Jeunink ,  Nicolaas Rudolf Kemper ,  Robert-Han Munnig Schmidt ,  Engelbertus Antonius Fransiscus Van Der Pasch ,  Marc Wilhelmus Maria Van Der Wijst ,  Theodorus Petrus Maria Cadee ,  Fransiscus Mathijs Jacobs ,  Christiaan Louis Valentin

发明人： Johannes Petrus Martinus Bernardus Vermeulen ,  Marcel Koenraad Marie Baggen ,  Hans Butler ,  Henrikus Herman Marie Cox ,  Jan Van Eijk ,  Andre Bernardus Jeunink ,  Nicolaas Rudolf Kemper ,  Robert-Han Munnig Schmidt ,  Engelbertus Antonius Fransiscus Van Der Pasch ,  Marc Wilhelmus Maria Van Der Wijst ,  Theodorus Petrus Maria Cadee ,  Fransiscus Mathijs Jacobs ,  Christiaan Louis Valentin

IPC分类号： G03B27/42

CPC分类号： G03B27/42 ,  G03F7/707 ,  G03F7/70775 ,  G03F7/70816 ,  G03F7/70866

摘要： A lithographic apparatus includes a position controller configured to control a position of a patterning device in its planar direction by selectively pressing at least one of the side faces of the patterning device. The position controller includes a gas pressure supply and one or more outflow openings directed towards at least one side face of the patterning device so as to exert pressurized gas on this side face in order to control the position of the patterning device in its planar direction in a contactless manner.

摘要翻译： 光刻设备包括位置控制器，其被配置为通过选择性地按压图案形成装置的侧面中的至少一个来控​​制图案形成装置在其平面方向上的位置。 位置控制器包括气体压力供给器和朝向图案形成装置的至少一个侧面的一个或多个流出开口，以在该侧面上施加加压气体，以便控制图案形成装置在其平面方向上的位置 一个非接触的方式。

公开(公告)号：US20100159399A1

公开(公告)日：2010-06-24

申请号：US12627087

申请日：2009-11-30

申请人： Johannes Petrus Martinus Bernardus VERMEULEN ,  Marcel Koenraad Marie Baggen ,  Hans Butler ,  Henrikus Herman Marie Cox ,  Jan Van Eijk ,  Andre Bernardus Jeunink ,  Nicolaas Rudolf Kemper ,  Robert-Han Munnig Schmidt ,  Engelbertus Antonius Fransiscus Van Der Pasch ,  Marc Wilhelmus Maria Van Der Wijst ,  Theodorus Petrus Maria Cadee ,  Fransiscus Mathijs Jacobs ,  Christiaan Louis Valentin

发明人： Johannes Petrus Martinus Bernardus VERMEULEN ,  Marcel Koenraad Marie Baggen ,  Hans Butler ,  Henrikus Herman Marie Cox ,  Jan Van Eijk ,  Andre Bernardus Jeunink ,  Nicolaas Rudolf Kemper ,  Robert-Han Munnig Schmidt ,  Engelbertus Antonius Fransiscus Van Der Pasch ,  Marc Wilhelmus Maria Van Der Wijst ,  Theodorus Petrus Maria Cadee ,  Fransiscus Mathijs Jacobs ,  Christiaan Louis Valentin

IPC分类号： G03B27/42 ,  G03F7/20

CPC分类号： G03B27/42 ,  G03F7/707 ,  G03F7/70775 ,  G03F7/70816 ,  G03F7/70866

摘要： A lithographic apparatus includes a position controller configured to control a position of a patterning device in its planar direction by selectively pressing at least one of the side faces of the patterning device. The position controller includes a gas pressure supply and one or more outflow openings directed towards at least one side face of the patterning device so as to exert pressurized gas on this side face in order to control the position of the patterning device in its planar direction in a contactless manner.

摘要翻译： 光刻设备包括位置控制器，其被配置为通过选择性地按压图案形成装置的侧面中的至少一个来控​​制图案形成装置在其平面方向上的位置。 位置控制器包括气体压力供给器和朝向图案形成装置的至少一个侧面的一个或多个流出开口，以在该侧面上施加加压气体，以便控制图案形成装置在其平面方向上的位置 一个非接触的方式。