公开(公告)号：US20100174103A1

公开(公告)日：2010-07-08

申请号：US12527327

申请日：2008-02-12

申请人： Hisashi Nakagawa ,  Youhei Nobe ,  Hitoshi Katou ,  Kenji Ishizuki ,  Terukazu Kokubo

发明人： Hisashi Nakagawa ,  Youhei Nobe ,  Hitoshi Katou ,  Kenji Ishizuki ,  Terukazu Kokubo

IPC分类号： C07F7/18 ,  C09D7/00 ,  C23C16/00

CPC分类号： H01B3/46 ,  C07F7/1804 ,  C08G77/50 ,  C09D4/00 ,  C23C16/401 ,  C23C16/56 ,  H01L21/02126 ,  H01L21/02216 ,  H01L21/02274 ,  H01L21/31633 ,  C08G77/00 ,  C08G77/04

摘要： A silicon-containing film-forming material includes at least one organosilane compound shown by the following general formula (1). wherein R1 to R6 individually represent a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, a vinyl group, a phenyl group, a halogen atom, a hydroxyl group, an acetoxy group, a phenoxy group, or an alkoxy group, provided that at least one of R1 to R6 represents a halogen atom, a hydroxyl group, an acetoxy group, a phenoxy group, or an alkoxy group, and n represents an integer from 0 to 3.

摘要翻译： 含硅成膜材料包含至少一种由以下通式（1）表示的有机硅烷化合物。 其中R1至R6各自表示氢原子，具有1至4个碳原子的烷基，乙烯基，苯基，卤原子，羟基，乙酰氧基，苯氧基或烷氧基， R 1〜R 6中的至少一个表示卤素原子，羟基，乙酰氧基，苯氧基或烷氧基，n表示0〜3的整数。

公开(公告)号：US20100261925A1

公开(公告)日：2010-10-14

申请号：US12668523

申请日：2008-07-08

申请人： Hisashi Nakagawa ,  Youhei Nobe ,  Kenji Ishizuki ,  Terukazu Kokubo

发明人： Hisashi Nakagawa ,  Youhei Nobe ,  Kenji Ishizuki ,  Terukazu Kokubo

IPC分类号： C07F7/18

CPC分类号： C07F7/1876

摘要： A method of producing a silicon compound shown by the following general formula (7) includes reacting an organomagnesium compound shown by the following general formula (1) with an organosilane compound shown by the following general formula (2) in a solvent that contains at least one compound selected from a compound shown by the following general formula (3), a compound shown by the following general formula (4), a compound shown by the following general formula (5), and a compound shown by the following general formula (6).

摘要翻译： 由以下通式（7）表示的硅化合物的制造方法包括将下述通式（1）表示的有机镁化合物与下述通式（2）所示的有机硅烷化合物反应至至少含有 一种选自下述通式（3）表示的化合物，下述通式（4）所示的化合物，下述通式（5）所示的化合物，以下通式（ 6）。

公开(公告)号：US20100007025A1

公开(公告)日：2010-01-14

申请号：US12278224

申请日：2007-01-31

申请人： Hisashi Nakagawa ,  Tatsuya Yamanaka ,  Masahiro Akiyama ,  Terukazu Kokubo ,  Youhei Nobe

发明人： Hisashi Nakagawa ,  Tatsuya Yamanaka ,  Masahiro Akiyama ,  Terukazu Kokubo ,  Youhei Nobe

IPC分类号： H01L21/31 ,  H01L23/48 ,  C08G77/04

CPC分类号： C09D183/04 ,  C08G77/60 ,  C09D183/14 ,  H01B3/46 ,  H01L21/02126 ,  H01L21/02216 ,  H01L21/02282 ,  H01L21/02348 ,  H01L21/3122 ,  H01L21/316 ,  C08L83/00

摘要： An insulating-film-forming composition for a semiconductor device comprising an organic silica sol with a carbon atom content of 11 to 17 atom % and an organic solvent is disclosed. The organic silica sol comprises a hydrolysis-condensation product P1 and a hydrolysis-condensation product P2. The hydrolysis-condensation product P1 is obtained by hydrolyzing and condensing (A) a silane monomer comprising a hydrolyzable group and (B) a polycarbosilane comprising a hydrolyzable group in the presence of (C) a basic catalyst, and the hydrolysis-condensation product P2 is obtained by hydrolyzing and condensing (D) a silane monomer comprising a hydrolyzable group.

摘要翻译： 公开了一种用于半导体器件的绝缘膜形成组合物，其包含碳原子数为11至17原子％的有机硅溶胶和有机溶剂。 有机硅溶胶包括水解缩合产物P1和水解缩合产物P2。 水解缩合产物P1是通过在（C）碱性催化剂存在下（A）包含可水解基团的硅烷单体和（B）包含可水解基团的聚碳硅烷（A）和水解缩合产物P2 是通过水解和冷凝（D）包含可水解基团的硅烷单体获得的。

公开(公告)号：US07893538B2

公开(公告)日：2011-02-22

申请号：US12278224

申请日：2007-01-31

申请人： Hisashi Nakagawa ,  Tatsuya Yamanaka ,  Masahiro Akiyama ,  Terukazu Kokubo ,  Youhei Nobe

发明人： Hisashi Nakagawa ,  Tatsuya Yamanaka ,  Masahiro Akiyama ,  Terukazu Kokubo ,  Youhei Nobe

IPC分类号： H01L23/48

CPC分类号： C09D183/04 ,  C08G77/60 ,  C09D183/14 ,  H01B3/46 ,  H01L21/02126 ,  H01L21/02216 ,  H01L21/02282 ,  H01L21/02348 ,  H01L21/3122 ,  H01L21/316 ,  C08L83/00

摘要： An insulating-film-forming composition for a semiconductor device comprising an organic silica sol with a carbon atom content of 11 to 17 atom % and an organic solvent is disclosed. The organic silica sol comprises a hydrolysis-condensation product P1 and a hydrolysis-condensation product P2. The hydrolysis-condensation product P1 is obtained by hydrolyzing and condensing (A) a silane monomer comprising a hydrolyzable group and (B) a polycarbosilane comprising a hydrolyzable group in the presence of (C) a basic catalyst, and the hydrolysis-condensation product P2 is obtained by hydrolyzing and condensing (D) a silane monomer comprising a hydrolyzable group.

摘要翻译： 公开了一种用于半导体器件的绝缘膜形成组合物，其包含碳原子数为11至17原子％的有机硅溶胶和有机溶剂。 有机硅溶胶包括水解缩合产物P1和水解缩合产物P2。 水解缩合产物P1是通过在（C）碱性催化剂存在下（A）包含可水解基团的硅烷单体和（B）包含可水解基团的聚碳硅烷（A）和水解缩合产物P2 是通过水解和冷凝（D）包含可水解基团的硅烷单体获得的。

公开(公告)号：US08093419B2

公开(公告)日：2012-01-10

申请号：US12473861

申请日：2009-05-28

申请人： Youhei Nobe ,  Hisashi Nakagawa ,  Kang-go Chung

发明人： Youhei Nobe ,  Hisashi Nakagawa ,  Kang-go Chung

IPC分类号： C07F7/08

CPC分类号： C07F7/1876

摘要： A method of producing an organosilicon compound includes substituting at least an OR1 group of a compound shown by the following general formula (1) to obtain a compound shown by the following general formula (2), Si(OR1)3-mY1m—R2—Si(OR3)3-nY2n  (1) Si(OR4)3-mY1m—R2—Si(OR4)3-nY2n  (2).

摘要翻译： 一种生产有机硅化合物的方法包括用至少一种OR1基团取代由以下通式（1）表示的化合物，得到下列通式（2）表示的化合物：Si（OR 1）3-mY1m-R2- Si（OR3）3-nY2n（1）Si（OR4）3-mY1m-R2-Si（OR4）3-nY2n（2）。

公开(公告)号：US20090299086A1

公开(公告)日：2009-12-03

申请号：US12473861

申请日：2009-05-28

申请人： Youhei NOBE ,  Hisashi Nakagawa ,  Kang-go Chung

发明人： Youhei NOBE ,  Hisashi Nakagawa ,  Kang-go Chung

IPC分类号： C07F7/08

CPC分类号： C07F7/1876

摘要： A method of producing an organosilicon compound includes substituting at least an OR1 group of a compound shown by the following general formula (1) to obtain a compound shown by the following general formula (2), Si(OR1)3-mY1m—R2—Si(OR3)3-nY2n  (1) Si(OR4)3-mY1m—R2—Si(OR4)3-nY2n  (2).

摘要翻译： 一种生产有机硅化合物的方法包括用至少一种OR1基团取代由以下通式（1）表示的化合物，得到下列通式（2）表示的化合物：Si（OR 1）3-mY1m-R2- Si（OR3）3-nY2n（1）Si（OR4）3-mY1m-R2-Si（OR4）3-nY2n（2）。

公开(公告)号：US20100140754A1

公开(公告)日：2010-06-10

申请号：US12377420

申请日：2007-08-14

申请人： Masahiro Akiyama ,  Hisashi Nakagawa ,  Terukazu Kokubo

发明人： Masahiro Akiyama ,  Hisashi Nakagawa ,  Terukazu Kokubo

IPC分类号： H01L29/06 ,  H01L21/31 ,  C07F7/08

CPC分类号： C23C16/401 ,  C09D183/14 ,  H01L21/02126 ,  H01L21/02216 ,  H01L21/02274 ,  H01L21/3122 ,  H01L21/31633

摘要： Disclosed is a silicon-containing film-forming material which contains an organosilane compound represented by the following general formula (1). (In the formula, R1-R4 may be the same or different and represent a hydrogen atom, an alkyl group having 1-4 carbon atoms, a vinyl group or a phenyl group; R5 represents an alkyl group having 1-4 carbon atoms, an acetyl group or a phenyl group; n represents an integer of 1-3; and m represents an integer of 1-2.)

摘要翻译： 公开了含有由以下通式（1）表示的有机硅烷化合物的含硅成膜材料。 （式中，R 1 -R 4可以相同或不同，表示氢原子，具有1-4个碳原子的烷基，乙烯基或苯基; R 5表示具有1-4个碳原子的烷基， 乙酰基或苯基; n表示1-3的整数，m表示1-2的整数。）

公开(公告)号：US20110042789A1

公开(公告)日：2011-02-24

申请号：US12934806

申请日：2009-03-24

申请人： Hisashi Nakagawa ,  Yohei Nobe ,  Kang-go Chung ,  Ryuichi Saito ,  Terukazu Kokubo

发明人： Hisashi Nakagawa ,  Yohei Nobe ,  Kang-go Chung ,  Ryuichi Saito ,  Terukazu Kokubo

IPC分类号： H01L21/31 ,  H01L23/28 ,  C07F7/08

CPC分类号： C23C16/401 ,  C07F7/1804 ,  H01L21/02126 ,  H01L21/02203 ,  H01L21/02211 ,  H01L21/02274 ,  H01L21/31633 ,  H01L21/31695 ,  H01L23/5329 ,  H01L2924/0002 ,  H01L2924/00

摘要： A chemical vapor deposition material includes an organosilane compound shown by the following general formula (1). wherein R1 and R2 individually represent a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, a vinyl group, or a phenyl group, R3 and R4 individually represent an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, an acetyl group, or a phenyl group, m is an integer from 0 to 2, and n is an integer from 1 to 3.

摘要翻译： 化学气相沉积材料包括由以下通式（1）表示的有机硅烷化合物。 其中R1和R2各自表示氢原子，具有1至4个碳原子的烷基，乙烯基或苯基，R 3和R 4各自表示具有1至4个碳原子的烷基，乙酰基或 苯基，m为0〜2的整数，n为1〜3的整数。

公开(公告)号：US08089341B2

公开(公告)日：2012-01-03

申请号：US11718257

申请日：2005-11-01

申请人： Hisashi Nakagawa ,  Takehiko Anegawa ,  Yoshihiro Yano ,  Takayuki Chikada

发明人： Hisashi Nakagawa ,  Takehiko Anegawa ,  Yoshihiro Yano ,  Takayuki Chikada

IPC分类号： B60R25/00

CPC分类号： G07C9/00111 ,  G06Q10/063 ,  G06Q10/0631 ,  G06Q10/06311 ,  G06Q10/063112 ,  G06Q10/063114 ,  G06Q10/0633 ,  G06Q10/06398 ,  G06Q10/1097 ,  G07C9/00103

摘要： A management system manages use of management object provided in facilities by using an information storage medium of a user. An entrance management apparatus, provided in the vicinity of an entrance of the facilities, stores use permission information for permitting the use of the management object on an information storage medium when the user enters the facilities. In the facilities, a use management apparatus, provided for each management object, controls availability or unavailability of the management object based on the use permission information stored on the information storage medium. Additionally, the use management apparatus stores, in the information storage medium, use information showing that the management object is used. Further, a room leaving management apparatus, provided in the vicinity of an exit of the facilities, manages leaving of the user based on the use information stored on the information storage medium. When the user leaves the facilities, it is controlled whether or not the user can leave the facilities, and use history information is stored, based on the use information.

摘要翻译： 管理系统通过使用用户的信息存储介质来管理在设施中提供的管理对象的使用。 设置在设施的入口附近的入口管理装置在用户进入设施时，在信息存储介质上存储允许使用管理对象的使用许可信息。 在该设施中，为每个管理对象提供的使用管理装置基于存储在信息存储介质上的使用许可信息来控制管理对象的可用性或不可用性。 另外，使用管理装置在信息存储介质中存储使用表示管理对象的信息。 此外，设置在设施的出口附近的房间离开管理装置基于存储在信息存储介质上的使用信息来管理用户的离开。 当用户离开设施时，控制用户是否可以离开设施，并且基于使用信息存储使用历史信息。

公开(公告)号：US20090281237A1

公开(公告)日：2009-11-12

申请号：US12093254

申请日：2006-10-24

申请人： Hisashi Nakagawa ,  Masahiro Akiyama ,  Tsuyoshi Furukawa ,  Naohisa Tokushige

发明人： Hisashi Nakagawa ,  Masahiro Akiyama ,  Tsuyoshi Furukawa ,  Naohisa Tokushige

IPC分类号： C08G77/50 ,  C08L83/00

CPC分类号： C09D183/14 ,  C08G77/50 ,  C08G77/60 ,  C09D183/16

摘要： A polycarbosilane has a main chain in which silicon atoms and carbon atoms are alternately repeated, and includes a structural unit shown by the following general formula (1), a structural unit shown by the following general formula (2), a structural unit shown by the following general formula (3), and a structural unit shown by the following general formula (4).

摘要翻译： 聚碳硅烷具有交替重复硅原子和碳原子的主链，并且包括由以下通式（1）表示的结构单元，由以下通式（2）表示的结构单元，由 下述通式（3）表示的结构单元和下述通式（4）所示的结构单元。