公开(公告)号：US20060040208A1

公开(公告)日：2006-02-23

申请号：US11206220

申请日：2005-08-18

申请人： Shinji Tarutani ,  Hyou Takahashi ,  Kenji Wada

发明人： Shinji Tarutani ,  Hyou Takahashi ,  Kenji Wada

IPC分类号： G03C1/76

CPC分类号： G03F7/0045 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/0392

摘要： A chemical amplification resist composition comprising (A) a resin increasing the solubility in an alkali developer by the action of an acid, (B) a compound capable of generating an acid upon irradiation with actinic ray or radiation, (C) a compound having a fluorine atom and a hydroxyl group, and a pKa value of from 4 to 15, and (D) a solvent, and a pattern-forming method using the same.

摘要翻译： 一种化学放大抗蚀剂组合物，其包含（A）通过酸的作用增加在碱性显影剂中的溶解度的树脂，（B）在用光化射线或辐射照射时能够产生酸的化合物，（C）具有 氟原子和羟基，pKa值为4〜15，和（D）溶剂，以及使用其的图案形成方法。

公开(公告)号：US07914965B2

公开(公告)日：2011-03-29

申请号：US11229518

申请日：2005-09-20

申请人： Hyou Takahashi ,  Kenji Wada

发明人： Hyou Takahashi ,  Kenji Wada

IPC分类号： G03F7/038 ,  G03F7/039 ,  G03F7/30

CPC分类号： G03F7/0045 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/038 ,  G03F7/0382 ,  G03F7/0392 ,  G03F7/0395 ,  G03F7/0397 ,  Y10S430/116

摘要： A resist composition comprises (A) a compound having a molecular weight of 3,000 or lower which has in its molecule a structure having two or more monovalent anions and a structure having two or more monovalent cations.

摘要翻译： 抗蚀剂组合物包含（A）分子量为3,000以下的化合物，其分子中具有两个以上一价阴离子的结构和具有两个以上一价阳离子的结构。

公开(公告)号：US07425404B2

公开(公告)日：2008-09-16

申请号：US11206220

申请日：2005-08-18

申请人： Shinji Tarutani ,  Hyou Takahashi ,  Kenji Wada

发明人： Shinji Tarutani ,  Hyou Takahashi ,  Kenji Wada

IPC分类号： G03F7/039 ,  G03F7/038

CPC分类号： G03F7/0045 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/0392

摘要： A chemical amplification resist composition comprising (A) a resin increasing the solubility in an alkali developer by the action of an acid, (B) a compound capable of generating an acid upon irradiation with actinic ray or radiation, (C) a compound having a fluorine atom and a hydroxyl group, and a pKa value of from 4 to 15, and (D) a solvent, and a pattern-forming method using the same.

摘要翻译： 一种化学放大抗蚀剂组合物，其包含（A）通过酸的作用增加在碱性显影剂中的溶解度的树脂，（B）在用光化射线或辐射照射时能够产生酸的化合物，（C）具有 氟原子和羟基，pKa值为4〜15，和（D）溶剂，以及使用其的图案形成方法。

公开(公告)号：US20060068320A1

公开(公告)日：2006-03-30

申请号：US11229518

申请日：2005-09-20

申请人： Hyou Takahashi ,  Kenji Wada

发明人： Hyou Takahashi ,  Kenji Wada

IPC分类号： G03C1/76

CPC分类号： G03F7/0045 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/038 ,  G03F7/0382 ,  G03F7/0392 ,  G03F7/0395 ,  G03F7/0397 ,  Y10S430/116

摘要： A resist composition comprises (A) a compound having a molecular weight of 3,000 or lower which has in its molecule a structure having two or more monovalent anions and a structure having two or more monovalent cations.

摘要翻译： 抗蚀剂组合物包含（A）分子量为3,000以下的化合物，其分子中具有两个以上一价阴离子的结构和具有两个以上一价阳离子的结构。

公开(公告)号：US08404427B2

公开(公告)日：2013-03-26

申请号：US12786127

申请日：2010-05-24

申请人： Kenji Wada ,  Kunihiko Kodama

发明人： Kenji Wada ,  Kunihiko Kodama

IPC分类号： G03F7/028 ,  G03F7/039 ,  G03F7/26

CPC分类号： C07D307/33 ,  C07C381/12 ,  C07D307/20 ,  C07D307/32 ,  C07D307/77 ,  C07D309/30 ,  C07D409/12 ,  C07D409/14 ,  C07D493/08 ,  C07D493/14 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/0382 ,  G03F7/0392 ,  G03F7/0395 ,  G03F7/0397 ,  G03F7/0758

摘要： A photosensitive composition containing a compound having a specific structure, a pattern-forming method using the photosensitive composition, and a compound having a specific structure used in the photosensitive composition.

摘要翻译： 含有具有特定结构的化合物的光敏组合物，使用该感光性组合物的图案形成方法和在感光性组合物中使用的具有特定结构的化合物。

公开(公告)号：US08241840B2

公开(公告)日：2012-08-14

申请号：US12825088

申请日：2010-06-28

申请人： Hideaki Tsubaki ,  Shinji Tarutani ,  Kazuyoshi Mizuyoshi ,  Kenji Wada ,  Wataru Hoshino

发明人： Hideaki Tsubaki ,  Shinji Tarutani ,  Kazuyoshi Mizuyoshi ,  Kenji Wada ,  Wataru Hoshino

IPC分类号： G03F7/30 ,  G03F7/004

CPC分类号： G03F7/0397 ,  G03F7/325 ,  Y10S430/106 ,  Y10S430/111

摘要： A pattern forming method includes (a) coating a substrate with a resist composition including a resin that includes a repeating unit represented by a following general formula (NGH-1), and, by the action of an acid, increases the polarity and decreases the solubility in a negative developing solution; (b) exposing; and (d) developing with a negative developing solution: wherein RNGH1 represents a hydrogen atom or an alkyl group; and RNGH2 to RNGH4 each independently represents a hydrogen atom or a hydroxyl group, provided that at least one of RNGH2 to RNGH4 represents a hydroxyl group.

摘要翻译： 图案形成方法包括：（a）用包含由以下通式（NGH-1）表示的重复单元的树脂的抗蚀剂组合物涂布基材，并且通过酸的作用增加极性，并降低 在负显影液中的溶解度; （b）曝光; 和（d）用负显影液显影：其中RNGH1表示氢原子或烷基; 并且RNGH 2至RNGH 4各自独立地表示氢原子或羟基，条件是RNGH 2至RNGH 4中的至少一个表示羟基。

公开(公告)号：US08110333B2

公开(公告)日：2012-02-07

申请号：US12184780

申请日：2008-08-01

申请人： Sou Kamimura ,  Yasutomo Kawanishi ,  Kenji Wada ,  Tomotaka Tsuchimura

发明人： Sou Kamimura ,  Yasutomo Kawanishi ,  Kenji Wada ,  Tomotaka Tsuchimura

IPC分类号： G03F7/004 ,  G03F7/30

CPC分类号： G03F7/0397 ,  G03F7/0045 ,  Y10S430/106

摘要： A resist composition includes (A) a compound represented by the following formula (I): wherein each of R1 to R13 independently represents a hydrogen atom or a substituent, provided that at least one of R1 to R13 is a substituent containing an alcoholic hydroxyl group; Z represents a single bond or a divalent linking group; and X− represents an anion containing a proton acceptor functional group.

摘要翻译： 抗蚀剂组合物包括（A）由下式（I）表示的化合物：其中R 1至R 13各自独立地表示氢原子或取代基，条件是R 1至R 13中的至少一个为含有醇羟基的取代基 ; Z表示单键或二价连接基团; X表示含有质子受体官能团的阴离子。

公开(公告)号：US08088550B2

公开(公告)日：2012-01-03

申请号：US12181757

申请日：2008-07-29

申请人： Shinji Tarutani ,  Hideaki Tsubaki ,  Kenji Wada

发明人： Shinji Tarutani ,  Hideaki Tsubaki ,  Kenji Wada

IPC分类号： G03F7/004 ,  G03F7/30

CPC分类号： G03F7/0397 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/0392 ,  G03F7/2022 ,  G03F7/2041 ,  Y10S430/111

摘要： A positive resist composition, includes: (A) a compound capable of generating an acid upon irradiation with actinic rays or radiation; (B) a resin of which solubility in an alkali developer increases under an action of an acid; (C) a compound capable of decomposing under an action of an acid to generate an acid; and (D) a compound which itself acts as a base for the acids generated from the component (A) and the component (C) but decomposes upon irradiation with actinic rays or radiation to lose a basicity for the acids generated from the component (A) and the component (C).

摘要翻译： 正型抗蚀剂组合物包括：（A）在用光化射线或辐射照射时能够产生酸的化合物; （B）在碱性显影剂中的溶解度在酸的作用下增加的树脂; （C）能够在酸的作用下分解以产生酸的化合物; 和（D）本身作为由组分（A）和组分（C）产生的酸的碱的化合物，但是在用光化射线或辐射照射时分解，以失去由组分（A）产生的酸的碱度 ）和组分（C）。

公开(公告)号：US20110089385A1

公开(公告)日：2011-04-21

申请号：US12904252

申请日：2010-10-14

申请人： Kenji Wada ,  Kyohei Arayama ,  Akiyoshi Goto

发明人： Kenji Wada ,  Kyohei Arayama ,  Akiyoshi Goto

IPC分类号： G02B5/22 ,  C07F7/18 ,  C07F7/10

CPC分类号： C07F7/21 ,  C08G77/045 ,  C08L83/04 ,  G02B1/111

摘要： The composition for optical materials includes a polymer obtained from silsesquioxanes which are represented by average composition formula (1): (R1SiO1.5)x(R2SiO1.5)y (wherein R1 is a polymerizable group, R2 is a non-polymerizable group, x is a number of 2.0 to 14.0, y is a number of 2.0 to 14.0, provided that x+y=8.0 to 16.0, and R1 groups and R2 groups may be the same or different) and include at least one cage silsesquioxane compound. This composition is suitable for use as the antireflective film in optical devices, has less film shrinkage in the curing step, has good coated surface state and excellent moisture resistance and adhesion, has small changes in the refractive index under high temperature conditions, and is capable of forming a low-refractive-index film.

摘要翻译： 用于光学材料的组合物包括由平均组成式（1）表示的倍半硅氧烷获得的聚合物：（R1SiO1.5）x（R2SiO1.5）y（其中R1是可聚合基团，R2是不可聚合基团， x为2.0〜14.0的数，y为2.0〜14.0的数，条件是x + y = 8.0〜16.0，R 1基和R 2基可以相同或不同），并且包括至少一种笼型倍半硅氧烷化合物。 该组合物适合用作光学元件中的抗反射膜，在固化步骤中具有较小的膜收缩率，具有良好的涂覆表面状态和优异的耐湿性和粘附性，在高温条件下的折射率变化小，并且能够 形成低折射率膜。

公开(公告)号：US20100239978A1

公开(公告)日：2010-09-23

申请号：US12786127

申请日：2010-05-24

申请人： Kenji Wada ,  Kunihiko Kodama

发明人： Kenji Wada ,  Kunihiko Kodama

IPC分类号： G03F7/004 ,  G03F7/20

CPC分类号： C07D307/33 ,  C07C381/12 ,  C07D307/20 ,  C07D307/32 ,  C07D307/77 ,  C07D309/30 ,  C07D409/12 ,  C07D409/14 ,  C07D493/08 ,  C07D493/14 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/0382 ,  G03F7/0392 ,  G03F7/0395 ,  G03F7/0397 ,  G03F7/0758

摘要： A photosensitive composition containing a compound having a specific structure, a pattern-forming method using the photosensitive composition, and a compound having a specific structure used in the photosensitive composition.

摘要翻译： 含有具有特定结构的化合物的光敏组合物，使用该感光性组合物的图案形成方法和在感光性组合物中使用的具有特定结构的化合物。