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    Ceramic coating deposition
    1.
    发明授权
    Ceramic coating deposition 有权
    陶瓷涂层沉积

    公开(公告)号：US08642140B2

    公开(公告)日：2014-02-04

    申请号：US13043948

    申请日：2011-03-09

    申请人： Igor V. Belousov ,  Yuriy G. Kononenko ,  Anatoly Kuzmichev ,  Leonid Shaginyan ,  Michael J. Maloney ,  John F. Mullooly, Jr.

    发明人： Igor V. Belousov ,  Yuriy G. Kononenko ,  Anatoly Kuzmichev ,  Leonid Shaginyan ,  Michael J. Maloney ,  John F. Mullooly, Jr.

    IPC分类号： H05H1/24

    CPC分类号： C23C14/30 ,  C23C14/32

    摘要： A material is applied to a part. The part is placed in a deposition chamber and a first electric potential is applied to the part. Components are evaporated for forming the material. The evaporated components are ionized. The first electric potential is modulated so as to draw the ionized component to the part. The modulation comprises a plurality of first steps for PA-PVD. Each of the first steps comprises a series of pulses of negative potential. The modulation further comprises a plurality of second steps for PVD alternating with the first steps.

    摘要翻译： 材料应用于零件。 该部件被放置在沉积室中，并且第一电位被施加到该部件上。 蒸发组分以形成材料。 蒸发的组分被电离。 调制第一电位以将电离成分吸引到该部分。 该调制包括用于PA-PVD的多个第一步骤。 每个第一步骤包括一系列具有负电位的脉冲。 调制还包括与第一步交替的PVD的多个第二步骤。

    Ceramic Coating Deposition
    2.
    发明申请
    Ceramic Coating Deposition 有权
    陶瓷涂层沉积

    公开(公告)号：US20120231173A1

    公开(公告)日：2012-09-13

    申请号：US13043948

    申请日：2011-03-09

    申请人： Igor V. Belousov ,  Yuriy G. Kononenko ,  Anatoly Kuzmichev ,  Leonid Shaginyan ,  Michael J. Maloney ,  John F. Mullooly, JR.

    发明人： Igor V. Belousov ,  Yuriy G. Kononenko ,  Anatoly Kuzmichev ,  Leonid Shaginyan ,  Michael J. Maloney ,  John F. Mullooly, JR.

    IPC分类号： C23C16/50 ,  B05D1/04

    CPC分类号： C23C14/30 ,  C23C14/32

    摘要： A material is applied to a part. The part is placed in a deposition chamber and a first electric potential is applied to the part. Components are evaporated for forming the material. The evaporated components are ionized. The first electric potential is modulated so as to draw the ionized component to the part. The modulation comprises a plurality of first steps for PA-PVD. Each of the first steps comprises a series of pulses of negative potential. The modulation further comprises a plurality of second steps for PVD alternating with the first steps.

    摘要翻译： 材料应用于零件。 该部件被放置在沉积室中，并且第一电位被施加到该部件上。 蒸发组分以形成材料。 蒸发的组分被电离。 调制第一电位以将电离成分吸引到该部分。 该调制包括用于PA-PVD的多个第一步骤。 每个第一步骤包括一系列具有负电位的脉冲。 调制还包括与第一步交替的PVD的多个第二步骤。

    Deposition Substrate Temperature and Monitoring
    8.
    发明申请
    Deposition Substrate Temperature and Monitoring 审中-公开
    沉积基板温度和监测

    公开(公告)号：US20120244290A1

    公开(公告)日：2012-09-27

    申请号：US13070846

    申请日：2011-03-24

    申请人： Richard S. Mullin ,  Anatoly Kuzmichev ,  Igor V. Belousov ,  Yuriy G. Kononenko ,  Oleg G. Pankov ,  Dmitriy Ryzhikov

    发明人： Richard S. Mullin ,  Anatoly Kuzmichev ,  Igor V. Belousov ,  Yuriy G. Kononenko ,  Oleg G. Pankov ,  Dmitriy Ryzhikov

    IPC分类号： B05C11/00 ,  C23C16/458 ,  B05D1/00 ,  C23C16/44 ,  B05C9/00 ,  B05C13/00

    CPC分类号： C23C14/541 ,  G01K1/026

    摘要： The disclosure provides an apparatus for depositing a coating on one or more parts (21). The apparatus has: a chamber (22); a part holder (64) for carrying the part(s); a bias voltage source (94) coupled to the part(s) to apply a bias voltage to the part(s); a source (34) of the coating material; a plurality of temperature sensors (76); and a plurality of leads (90) passing outputs of the temperature sensors out from the chamber. A temperature monitoring system (150) has a temperature data processor (300). At least one fiber optic link (223) couples the temperature data processor to the temperature sensors so as to electrically isolate the temperature data processor from the bias voltage.

    摘要翻译： 本公开提供了一种用于在一个或多个部分（21）上沉积涂层的装置。 该装置具有：一个室（22）; 用于承载部件的零件保持器（64）; 耦合到所述部分的偏置电压源（94）以向所述部件施加偏置电压; 涂料的源（34）; 多个温度传感器（76）; 以及多个引线（90）将温度传感器的输出从腔室传出。 温度监测系统（150）具有温度数据处理器（300）。 至少一个光纤链路（223）将温度数据处理器耦合到温度传感器，以将温度数据处理器与偏置电压电隔离。

    Deposition Apparatus and Methods
    9.
    发明申请
    Deposition Apparatus and Methods 审中-公开
    沉积设备和方法

    公开(公告)号：US20120196051A1

    公开(公告)日：2012-08-02

    申请号：US13016223

    申请日：2011-01-28

    申请人： Anatoly Kuzmichev ,  Igor V. Belousov ,  Yuriy G. Kononenko ,  John F. Mullooly

    发明人： Anatoly Kuzmichev ,  Igor V. Belousov ,  Yuriy G. Kononenko ,  John F. Mullooly

    IPC分类号： C23C16/513 ,  C23C16/50 ,  C23C14/30 ,  C23C16/48

    CPC分类号： H01J37/3023 ,  C23C14/16 ,  C23C14/32 ,  H01J37/3053 ,  H01J2237/3137

    摘要： A deposition apparatus includes a deposition chamber and a deposition material source. An electron beam source is positioned to direct a first electron beam to vaporize a portion of the deposition material. A first electrode is provided for generating a primary plasma from the deposition material source. A second electrode is provided for generating a secondary plasma and further accelerating ions from the primary plasma. A bias electric potential is applied to the workpiece to draw ions from the secondary plasma to the workpiece. A control system may be coupled to the electron beam source, the bias voltage source, and power supplies for the first and second electrodes.

    摘要翻译： 沉积设备包括沉积室和沉积材料源。 电子束源被定位成引导第一电子束以蒸发沉积材料的一部分。 提供第一电极用于从沉积材料源产生初级等离子体。 提供第二电极用于产生次级等离子体并进一步加速来自初级等离子体的离子。 将偏置电位施加到工件上以将离子从次级等离子体吸取到工件。 控制系统可以耦合到电子束源，偏置电压源和用于第一和第二电极的电源。