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    RESIST COMPOSITION AND PATTERNING PROCESS
    2.
    发明申请
    RESIST COMPOSITION AND PATTERNING PROCESS 审中-公开
    耐腐蚀组合物和方法

    公开(公告)号：US20120288796A1

    公开(公告)日：2012-11-15

    申请号：US13469929

    申请日：2012-05-11

    申请人： Kazuhiro KATAYAMA ,  Jun Hatakeyama ,  Youichi Ohsawa ,  Koji Hasegawa ,  Tomohiro Kobayashi

    发明人： Kazuhiro KATAYAMA ,  Jun Hatakeyama ,  Youichi Ohsawa ,  Koji Hasegawa ,  Tomohiro Kobayashi

    IPC分类号： G03F7/20 ,  G03F7/027

    CPC分类号： G03F7/0045 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/0397 ,  G03F7/11 ,  G03F7/2041 ,  G03F7/325

    摘要： A resist composition is provided comprising a polymer comprising recurring units having a hydroxyl group substituted with an acid labile group, an onium salt PAG capable of generating a sulfonic acid, imide acid or methide acid, and an onium salt PAG capable of generating a carboxylic acid. A resist film of the composition is improved in dissolution contrast during organic solvent development, and from which a hole pattern having minimized nano-edge roughness can be formed via positive/negative reversal.

    摘要翻译： 提供了一种抗蚀剂组合物，其包含聚合物，其包含具有被酸不稳定基团取代的羟基的重复单元，能够产生磺酸的鎓盐PAG，酰亚胺酸或甲基化酸，以及能够产生羧酸的鎓盐PAG 。 组合物的抗蚀剂膜在有机溶剂显影期间的溶解对比度得到改善，并且可以通过正/负反转形成具有最小化的纳米边缘粗糙度的孔图案。

    Photoacid generating compounds, chemically amplified positive resist materials, and pattern forming method
    3.
    发明授权
    Photoacid generating compounds, chemically amplified positive resist materials, and pattern forming method 有权
    光生酸化合物，化学放大阳性抗蚀剂材料和图案形成方法

    公开(公告)号：US07303852B2

    公开(公告)日：2007-12-04

    申请号：US10375773

    申请日：2003-02-27

    申请人： Jun Hatakeyama ,  Tomohiro Kobayashi ,  Youichi Ohsawa

    发明人： Jun Hatakeyama ,  Tomohiro Kobayashi ,  Youichi Ohsawa

    IPC分类号： G03F7/00 ,  G03F7/004

    CPC分类号： G03F7/0045 ,  C07C311/48 ,  C07D333/46 ,  C07D335/02 ,  G03F7/0392 ,  G03F7/0395 ,  G03F7/0397 ,  G03F7/0758 ,  Y10S430/106 ,  Y10S430/114 ,  Y10S430/115

    摘要： The invention provides a high-resolution resist material comprising an acid generator that has high sensitivity and high resolution with respect to high-energy rays of 300 nm or less, has small line-edge roughness, and is superior in heat stability and in shelf stability, and provides a pattern forming method that uses this resist material. The invention further provides a chemically amplified positive resist material comprising a base resin, an acid generator and a solvent in which the acid generator generates an alkylimidic acid containing a fluorine group, and provides a pattern forming method comprising a step of applying the resist material to the substrate, a step of performing exposure to a high-energy ray of a wavelength of 300 nm or less through a photomask following heat treatment, and a step of performing development by a developing solution following heat treatment.

    摘要翻译： 本发明提供了一种高分辨率抗蚀剂材料，其包括相对于300nm以下的高能量射线具有高灵敏度和高分辨率的酸发生剂，具有小的线边缘粗糙度，并且具有优异的热稳定性和储存稳定性 ，并提供使用该抗蚀剂材料的图案形成方法。 本发明还提供了一种化学放大正性抗蚀剂材料，其包括基础树脂，酸产生剂和其中酸产生剂产生含氟基团的亚烷基亚胺酸的溶剂，并且提供了图案形成方法，包括将抗蚀剂材料施加到 基板，通过热处理后的光掩模进行曝光于波长为300nm以下的高能射线的工序，以及通过热处理后的显影液进行显影的工序。

    Patterning process and resist composition
    4.
    发明授权
    Patterning process and resist composition 有权
    图案化过程和抗蚀剂组成

    公开(公告)号：US08741554B2

    公开(公告)日：2014-06-03

    申请号：US12787823

    申请日：2010-05-26

    申请人： Jun Hatakeyama ,  Kazuhiro Katayama ,  Youichi Ohsawa ,  Masaki Ohashi

    发明人： Jun Hatakeyama ,  Kazuhiro Katayama ,  Youichi Ohsawa ,  Masaki Ohashi

    IPC分类号： G03F7/38 ,  G03F7/40 ,  G03F7/20

    CPC分类号： G03F7/70466 ,  G03F7/0035 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/0397 ,  G03F7/2041 ,  G03F7/38 ,  G03F7/40 ,  Y10S430/108 ,  Y10S430/111

    摘要： A pattern is formed by coating a first positive resist composition comprising a base resin, a photoacid generator, and a base generator onto a substrate to form a first resist film, patternwise exposure, PEB, and development to form a first resist pattern, heating the first resist pattern for causing the base generator to generate a base for inactivating the pattern to acid, coating a second positive resist composition comprising a C3-C8 alcohol and an optional C6-C12 ether onto the first resist pattern-bearing substrate to form a second resist film, patternwise exposure, PEB, and development to form a second resist pattern.

    摘要翻译： 通过将包含基础树脂，光致酸发生剂和基底发生器的第一正型抗蚀剂组合物涂覆在基材上以形成第一抗蚀剂膜，图案曝光，PEB和显影以形成第一抗蚀剂图案，形成图案，加热 第一抗蚀剂图案，用于使基底发生器产生用于使图案失去酸的碱，将包含C 3 -C 8醇和任选的C 6 -C 12醚的第二正性抗蚀剂组合物涂覆到第一抗蚀剂图案衬底上以形成第二抗蚀剂图案 抗蚀剂膜，图案曝光，PEB和显影以形成第二抗蚀剂图案。

    Sulfonium salt-containing polymer, resist composition, and patterning process
    6.
    发明授权
    Sulfonium salt-containing polymer, resist composition, and patterning process 有权
    含锍盐的聚合物，抗蚀剂组合物和图案化工艺

    公开(公告)号：US08039198B2

    公开(公告)日：2011-10-18

    申请号：US12404245

    申请日：2009-03-13

    申请人： Seiichiro Tachibana ,  Jun Hatakeyama ,  Youichi Ohsawa ,  Masaki Ohashi

    发明人： Seiichiro Tachibana ,  Jun Hatakeyama ,  Youichi Ohsawa ,  Masaki Ohashi

    IPC分类号： G03F7/004 ,  G03F7/30

    CPC分类号： G03F7/0045 ,  G03F7/0392 ,  G03F7/0397 ,  G03F7/2041 ,  Y10S430/111

    摘要： A polymer comprising recurring units of a sulfonium salt represented by formula (1) is provided as well as a chemically amplified resist composition comprising the same. R1 is H, F, methyl or trifluoromethyl, R2 to R4 are C1-C10 alkyl or alkoxy, R5 is C1-C30 alkyl or C6-C14 aryl, k, m and n are 0 to 3. The recurring units generate a sulfonic acid upon exposure to high-energy radiation so as to facilitate effective scission of acid labile groups in the resist composition. The resist composition exhibits excellent resolution and a pattern finish with minimal LER.

    摘要翻译： 提供了包含由式（1）表示的锍盐的重复单元的聚合物以及包含该聚合物的化学放大抗蚀剂组合物。 R 1是H，F，甲基或三氟甲基，R 2至R 4是C 1 -C 10烷基或烷氧基，R 5是C 1 -C 30烷基或C 6 -C 14芳基，k，m和n是0至3.重复单元产生磺酸 暴露于高能量辐射下，以促进抗蚀剂组合物中酸不稳定基团的有效断裂。 抗蚀剂组合物以最小的LER显示出优异的分辨率和图案光洁度。

    Resist composition and patterning process using the same
    8.
    发明授权
    Resist composition and patterning process using the same 有权
    抗蚀剂组成和图案化工艺使用相同

    公开(公告)号：US07629106B2

    公开(公告)日：2009-12-08

    申请号：US11580962

    申请日：2006-10-16

    申请人： Jun Hatakeyama ,  Koji Hasegawa ,  Youichi Ohsawa ,  Seiichiro Tachibana

    发明人： Jun Hatakeyama ,  Koji Hasegawa ,  Youichi Ohsawa ,  Seiichiro Tachibana

    IPC分类号： G03F7/039

    CPC分类号： G03F7/0045 ,  G03F7/0397 ,  Y10S430/111 ,  Y10S430/114 ,  Y10S430/115 ,  Y10S430/122 ,  Y10S430/126

    摘要： There is disclosed a resist composition which shows high sensitivity and high resolution on exposure to high energy beam, provides reduced Line Edge Roughness because swelling at the time of development is reduced, provides minor amounts of residue after development, has excellent dry etching resistance, and can also be used suitably for the liquid immersion lithography; and a patterning process using the resist composition. There can be provided a resist composition which comprises, at least, a polymer including repeating units represented by the following general formulae (a) and (b).

    摘要翻译： 公开了一种抗蚀剂组合物，其在高能量束暴露时显示出高灵敏度和高分辨率，由于在显影时的膨胀减小，提供降低的线边缘粗糙度，在显影后提供少量残留物，具有优异的耐干蚀刻性，以及 也可以适用于液浸光刻; 以及使用抗蚀剂组合物的图案化工艺。 可以提供一种抗蚀剂组合物，其至少包含由以下通式（a）和（b）表示的重复单元的聚合物。

    SULFONIUM SALT-CONTAINING POLYMER, RESIST COMPOSITION, AND PATTERNING PROCESS
    9.
    发明申请
    SULFONIUM SALT-CONTAINING POLYMER, RESIST COMPOSITION, AND PATTERNING PROCESS 有权
    含硫酸钠聚合物，耐腐蚀组合物和图案处理

    公开(公告)号：US20090233223A1

    公开(公告)日：2009-09-17

    申请号：US12404245

    申请日：2009-03-13

    申请人： Seiichiro TACHIBANA ,  Jun Hatakeyama ,  Youichi Ohsawa ,  Masaki Ohashi

    发明人： Seiichiro TACHIBANA ,  Jun Hatakeyama ,  Youichi Ohsawa ,  Masaki Ohashi

    IPC分类号： G03F7/20 ,  C08F214/18 ,  G03F7/004

    CPC分类号： G03F7/0045 ,  G03F7/0392 ,  G03F7/0397 ,  G03F7/2041 ,  Y10S430/111

    摘要： A polymer comprising recurring units of a sulfonium salt represented by formula (1) is provided as well as a chemically amplified resist composition comprising the same. R1 is H, F, methyl or trifluoromethyl, R2 to R4 are C1-C10 alkyl or alkoxy, R5 is C1-C30 alkyl or C6-C14 aryl, k, m and n are 0 to 3. The recurring units generate a sulfonic acid upon exposure to high-energy radiation so as to facilitate effective scission of acid labile groups in the resist composition. The resist composition exhibits excellent resolution and a pattern finish with minimal LER.

    摘要翻译： 提供了包含由式（1）表示的锍盐的重复单元的聚合物以及包含该聚合物的化学放大抗蚀剂组合物。 R 1是H，F，甲基或三氟甲基，R 2至R 4是C 1 -C 10烷基或烷氧基，R 5是C 1 -C 30烷基或C 6 -C 14芳基，k，m和n是0至3.重复单元产生磺酸 暴露于高能量辐射下，以促进抗蚀剂组合物中酸不稳定基团的有效断裂。 抗蚀剂组合物以最小的LER显示出优异的分辨率和图案光洁度。