公开(公告)号：US06963821B2

公开(公告)日：2005-11-08

申请号：US10361700

申请日：2003-02-11

申请人： Michael Binnard ,  W. Thomas Novak ,  Toshio Ueta ,  Bausan Yuan

发明人： Michael Binnard ,  W. Thomas Novak ,  Toshio Ueta ,  Bausan Yuan

IPC分类号： B23Q11/00 ,  G03F7/20 ,  G01B11/24

CPC分类号： G03F7/70766 ,  B23Q11/0032 ,  G03F7/70725

摘要： A wafer stage countermass assembly generally includes a base supporting one or more stages and first and second countermasses. The first and second stages move in one or more degrees of freedom. The countermasses move in at least one degree of freedom and, under ideal conditions, move to counter the movement of the stages in operation and thus preserve the systems center of gravity to avoid unwanted body motion. However, under actual conditions the countermasses may under travel or over travel their ideal trajectory. To more closely track the ideal trajectory, a controller actuates trim motors to apply small forces to the countermasses to push them towards a reference position in the Y direction. A second embodiment also takes into account the X position the stage(s) to cancel torque.

摘要翻译： 晶片台反质量组件通常包括支撑一个或多个阶段的基座和第一和第二反作用力。 第一和第二阶段以一个或多个自由度移动。 反恐怖主义至少有一个自由度，在理想条件下，可以抵抗运行阶段的运动，从而保持系统的重心，避免不必要的身体运动。 然而，在实际情况下，反恐怖主义可能在行进或超越其理想轨迹。 为了更紧密地跟踪理想轨迹，控制器启动微调电机，以将小的力施加到反作用体上，将其推向Y方向的参考位置。 第二实施例还考虑到X位置，以消除扭矩的阶段。

公开(公告)号：US07333179B2

公开(公告)日：2008-02-19

申请号：US10918182

申请日：2004-08-13

申请人： Bausan Yuan ,  Martin E. Lee ,  W. Thomas Novak

发明人： Bausan Yuan ,  Martin E. Lee ,  W. Thomas Novak

IPC分类号： G03B27/58 ,  G03B27/62

CPC分类号： G03F7/70775 ,  G03F7/70725 ,  G03F7/70758 ,  G03F7/70766

摘要： Methods and apparatus for providing a stage with a relatively high positioning bandwidth and low transmissibility are disclosed. According to one aspect of the present invention, a method for positioning a stage including providing a first force of a first magnitude to the stage using a primary actuator and providing a second force of a second magnitude to the stage using a secondary actuator. The first force is arranged to cause the stage to translate along a first axis. The secondary actuator is also arranged to cause the stage to translate along the first axis, and has a relatively high positioning bandwidth. The first force is arranged to enable the stage to be relatively coarsely positioned and the second force is arranged to enable the stage to be relatively finely positioned. In one embodiment, the secondary actuator is one of a voice coil motor and a piezoelectric motor.

摘要翻译： 公开了提供具有相对高的定位带宽和低传输性的平台的方法和装置。 根据本发明的一个方面，一种用于定位平台的方法，包括使用主致动器向舞台提供第一幅度的第一力，并使用辅助致动器向舞台提供第二大小的第二力。 第一力布置成使得台架沿着第一轴线平移。 次级致动器还被布置成使得平台沿着第一轴线平移，并且具有相对较高的定位带宽。 第一力被布置成使得台架能够相对粗略地定位，并且第二力被布置成使得台架能够相对精细地定位。 在一个实施例中，次级致动器是音圈电动机和压电电动机之一。

公开(公告)号：US07172493B2

公开(公告)日：2007-02-06

申请号：US11252483

申请日：2005-10-18

申请人： W. Thomas Novak ,  Douglas C. Watson ,  Pai-Hsueh Yang ,  Bausan Yuan

发明人： W. Thomas Novak ,  Douglas C. Watson ,  Pai-Hsueh Yang ,  Bausan Yuan

IPC分类号： B24B49/00

CPC分类号： B24B37/042 ,  B24B37/005 ,  B24B37/30 ,  B24B41/068

摘要： A polishing apparatus (10) for polishing a device (12) with a polishing pad (48) includes a pad holder (50) and an actuator assembly (432). The pad holder (50) retains the polishing pad (48). The actuator assembly (432) includes a plurality of spaced apart actuators (438F) (438S) (438T) that are coupled to the pad holder (50). The actuators (438F) (438S) (438T) cooperate to direct forces on the pad holder (50) to alter the pressure of the polishing pad (48) on the device (12). At least one of the actuators (438F) (438S) (438T) includes a first actuator subassembly (440) and a second actuator subassembly (442) that interacts with the first actuator subassembly (440) to direct a force on the pad holder (50). The second actuator subassembly (442) is coupled to the pad holder (50) and the second actuator subassembly (442) rotates with the pad holder (50) relative to the first actuator subassembly (440).

摘要翻译： 用于用抛光垫（48）抛光装置（12）的抛光装置（10）包括垫保持器（50）和致动器组件（432）。 垫保持器（50）保持抛光垫（48）。 致动器组件（432）包括多个间隔开的致动器（438F）（438S）（438T），其联接到所述垫保持器（50）。 致动器（438F）（438S）（438T）协作以引导焊盘保持器（50）上的力，以改变设备（12）上的抛光垫（48）的压力。 致动器（438F）（438T）（438T）中的至少一个包括与第一致动器子组件（440）相互作用的第一致动器子组件（440）和第二致动器子组件（442），以将力 垫座（50）。 第二致动器子组件（442）联接到焊盘保持器（50），并且第二致动器子组件（442）相对于第一致动器子组件（440）与焊盘保持器（50）一起旋转。

公开(公告)号：US20080073563A1

公开(公告)日：2008-03-27

申请号：US11479628

申请日：2006-07-01

申请人： W. Thomas Novak ,  Michael Binnard ,  Alex Ka Tim Poon ,  Masahiro Totsu ,  Leonard Wai Fung Kho ,  Gaurav Keswani

发明人： W. Thomas Novak ,  Michael Binnard ,  Alex Ka Tim Poon ,  Masahiro Totsu ,  Leonard Wai Fung Kho ,  Gaurav Keswani

IPC分类号： G01F23/00

CPC分类号： G03F7/70875 ,  G03F7/70758 ,  H01L21/67248 ,  H01L21/68 ,  H02K9/20 ,  H02K41/02

摘要： A mover combination (226) for moving and positioning a device (34) includes a mover (328) that defines a fluid passageway (370) and a circulation system (330) having a passageway inlet (374) and a passageway outlet (376). The circulation system (330) directs a circulation fluid (378) into the fluid passageway (370). The circulation system (330) can include a liquid/gas separator (384) that is in fluid communication with the fluid passageway (370). With this design, the plumbing for the liquid (378A) and the gas (378B) can each be optimized. Additionally, the circulation system (330) can include a pressure control device (388) that controls the pressure of the circulation fluid (378) in at least a portion of the fluid passageway (370). With this design, the pressure control device (388) controls the pressure of the circulation fluid (378) near the fluid passageway (370) so that the temperature of the circulation fluid (378) at the passageway outlet (376) is approximately equal to the temperature of the circulation fluid (378) at the passageway inlet (374). Moreover, the circulation system (930) can include a pump assembly (980) that directs the circulation fluid (978) into the passageway inlet (974), and a pressure control device (996) that precisely controls a state of the circulation fluid (978) near the passageway inlet (974). With this design, the phase of the circulation fluid (978) at the passageway inlet (974) can be precisely controlled without restricting the flow of the circulation fluid (978).

摘要翻译： 用于移动和定位装置（34）的移动器组合（226）包括限定流体通道（370）的移动器（328）和具有通道入口（374）和通道出口（376）的循环系统（330） 。 循环系统（330）将循环流体（378）引导到流体通道（370）中。 循环系统（330）可以包括与流体通道（370）流体连通的液体/气体分离器（384）。 通过这种设计，可以优化液体（378A）和气体（378B）的管道。 另外，循环系统（330）可以包括控制流体通道（370）的至少一部分中的循环流体（378）的压力的压力控制装置（388）。 通过该设计，压力控制装置（388）控制流体通道（370）附近的循环流体（378）的压力，使得通道出口（376）处的循环流体（378）的温度近似等于 通道入口处的循环流体（378）的温度（374）。 此外，循环系统（930）可以包括引导循环流体（978）进入通道入口（974）的泵组件（980）和精确地控制循环流体的状态的压力控制装置（996） 978）在通道入口附近（974）。 通过这种设计，可以精确地控制在通道入口（974）处的循环流体（978）的相位，而不限制循环流体（978）的流动。

公开(公告)号：US07869000B2

公开(公告)日：2011-01-11

申请号：US11048405

申请日：2005-01-31

申请人： Yoichi Arai ,  Andrew J. Hazelton ,  Michael Binnard ,  W. Thomas Novak ,  Douglas C. Watson ,  Kirk Lok

发明人： Yoichi Arai ,  Andrew J. Hazelton ,  Michael Binnard ,  W. Thomas Novak ,  Douglas C. Watson ,  Kirk Lok

IPC分类号： G03B27/58 ,  G03B27/42

CPC分类号： G03F7/70716

摘要： A stage assembly (220) that moves a work piece (200) along a first axis, along a second axis and along a third axis includes a first stage (238), a first mover assembly (242) that moves the first stage (238) along the first axis, a second stage (240) that retains the work piece (200), a second mover assembly (244), and a non-contact bearing (257). The second mover assembly (244) moves the second stage (240) relative to the first stage (238) along the first axis, along the second axis, and along the third axis. The non-contact bearing (257) supports the mass of the second stage (240). Further, the non-contact bearing (257) allows the second stage (240) to move relative to the first stage (238) along the first axis and along the second axis. The second mover assembly (244) can move the second stage (240) with at least four degrees of movement.

摘要翻译： 沿着第二轴线沿着第三轴线沿着第一轴线移动工件（200）的台架组件（220）包括第一阶段（238），第一移动器组件（242），其使第一阶段（238）移动 ），保持所述工件（200）的第二级（240），第二移动器组件（244）和非接触式轴承（257）。 第二移动器组件（244）沿着第一轴线沿着第二轴线和第三轴线相对于第一阶段（238）移动第二阶段（240）。 非接触轴承（257）支撑第二级（240）的质量。 此外，非接触式轴承（257）允许第二级（240）相对于第一级（238）沿着第一轴线并沿着第二轴线移动。 第二移动器组件（244）可以以至少四个移动程度移动第二平台（240）。

公开(公告)号：US09007561B2

公开(公告)日：2015-04-14

申请号：US13543238

申请日：2012-07-06

申请人： W. Thomas Novak

发明人： W. Thomas Novak

IPC分类号： G03B27/52 ,  G03F7/20

CPC分类号： G03F7/70341 ,  G03F7/70716 ,  G03F7/7095

摘要： An exposure apparatus exposes a substrate by radiating a light onto the substrate through an optical assembly and a liquid provided on the substrate. The exposure apparatus includes a stage assembly which is movable relative to the optical assembly, the stage assembly including a support which supports the substrate, a first subregion which substantially encircles the support, and a second subregion which substantially encircles the first subregion. The first subregion includes a first surface having a first characteristic and the second subregion includes a second surface having a second characteristic which is different from the first characteristic.

摘要翻译： 曝光装置通过光学组件和设置在基板上的液体将光照射到基板上来曝光基板。 曝光装置包括可相对于光学组件移动的舞台组件，舞台组件包括支撑衬底的支撑件，基本上环绕支撑件的第一子区域和基本上环绕第一子区域的第二子区域。 第一子区域包括具有第一特征的第一表面，而第二子区域包括具有不同于第一特征的第二特征的第二表面。

公开(公告)号：US08243253B2

公开(公告)日：2012-08-14

申请号：US12155377

申请日：2008-06-03

申请人： W. Thomas Novak

发明人： W. Thomas Novak

IPC分类号： G03B27/52

CPC分类号： G03F7/70341 ,  G03F7/70716 ,  G03F7/7095

摘要： An exposure apparatus for transferring an image to a device includes an optical assembly, an immersion fluid system, and a device stage assembly. The optical assembly is positioned so that there is a gap above the device. The immersion fluid system fills the gap with an immersion fluid. The device stage assembly includes a sloped region that facilitates movement of the immersion fluid that exits the gap away from the device. The device stage assembly can include a collection region and a recovery system that recovers immersion fluid from the collection region.

摘要翻译： 用于将图像转印到装置的曝光装置包括光学组件，浸液系统和装置台组件。 光学组件被定位成使得在装置上方存在间隙。 浸没流体系统用浸没流体填充间隙。 装置台组件包括倾斜区域，其有助于离开该间隙的浸没流体的移动远离装置。 装置台组件可以包括收集区域和从收集区域回收浸没流体的回收系统。

公开(公告)号：US08094379B2

公开(公告)日：2012-01-10

申请号：US12461762

申请日：2009-08-24

申请人： W. Thomas Novak

发明人： W. Thomas Novak

IPC分类号： G02B3/12

CPC分类号： G03F7/70258 ,  G03F7/2041 ,  G03F7/70341 ,  G03F7/70641 ,  G03F7/70958 ,  G03F9/7026 ,  G03F9/7034

摘要： A lithographic projection apparatus includes an optical element through which a substrate is exposed with an exposure beam. A space between the optical element and the substrate is filled with liquid during the exposure. A gap is formed between a member and a surface of the optical element through which the exposure beam does not pass. The liquid is supplied to the gap.

摘要翻译： 光刻投影装置包括光学元件，通过该光学元件，用曝光光束照射基板。 在曝光期间，光学元件和基板之间的空间被填充液体。 在光学元件的部件和表面之间形成间隙，曝光光束不通过该光学元件。 液体被供应到间隙。

公开(公告)号：US20110031416A1

公开(公告)日：2011-02-10

申请号：US12923948

申请日：2010-10-15

申请人： W. Thomas Novak ,  Andrew J. Hazelton ,  Douglas C. Watson

发明人： W. Thomas Novak ,  Andrew J. Hazelton ,  Douglas C. Watson

IPC分类号： G21G5/00 ,  G03B27/52

CPC分类号： G03F7/70341

摘要： A photolithography tool for use in manufacturing semiconductor devices, includes a wafer stage, a lens, and a liquid dispensing assembly by which liquid is introduced between a surface of a semiconductor wafer disposed on the wafer stage and the lens, along a direction away from the semiconductor wafer at its edge.

摘要翻译： 用于制造半导体器件的光刻工具包括晶片台，透镜和液体分配组件，通过该液体分配组件将液体沿着远离所述晶片台的方向引导到设置在晶片台上的半导体晶片的表面和透镜之间 半导体晶片在其边缘。

公开(公告)号：US07688421B2

公开(公告)日：2010-03-30

申请号：US11628942

申请日：2004-12-20

申请人： Douglas C. Watson ,  W. Thomas Novak

发明人： Douglas C. Watson ,  W. Thomas Novak

IPC分类号： G03B27/42 ,  G03B27/52 ,  G03B27/32

CPC分类号： G03F7/70258 ,  G03F7/70341 ,  G03F7/70833 ,  G03F7/709

摘要： An immersion lithography system that compensating for any displacement of the optical caused by the immersion fluid. The system includes an optical assembly (14) to project an image defined by the reticle (12) onto the wafer (20). The optical assembly includes a final optical element (16) spaced from the wafer by a gap (24). An immersion element (22) is provided to supply an immersion fluid into the gap and to recover any immersion fluid that escapes the gap. A fluid compensation system is provided for the force on the final optical element of the optical assembly caused by pressure variations of the immersion fluid. The resulting force created by the varying pressure may cause final optical element to become displaced. The fluid compensation system is configured to provide a substantially equal, but opposite force on the optical assembly, to prevent the displacement of the final optical element.

摘要翻译： 一种浸没式光刻系统，用于补偿由浸液引起的光学位移。 该系统包括光学组件（14），用于将由标线片（12）限定的图像投影到晶片（20）上。 光学组件包括通过间隙（24）与晶片间隔开的最终光学元件（16）。 提供浸入元件（22）以将浸没流体供应到间隙中并且回收逸出间隙的任何浸没流体。 为由于浸没流体的压力变化引起的光学组件的最终光学元件上的力提供流体补偿系统。 由变化的压力产生的所产生的力可能导致最终的光学元件变位。 流体补偿系统被配置为在光学组件上提供基本相等但相反的力，以防止最终光学元件的位移。