公开(公告)号：US20060086320A1

公开(公告)日：2006-04-27

申请号：US10515606

申请日：2003-05-09

申请人： Michael Lizenberg ,  Frank Lewin ,  Hartwig Muller ,  Klaus Vogel ,  Gregor Arnold ,  Stephan Behle ,  Andreas Luttringhaus-Henkel ,  Matthias Bicker ,  Jurgen Klein

发明人： Michael Lizenberg ,  Frank Lewin ,  Hartwig Muller ,  Klaus Vogel ,  Gregor Arnold ,  Stephan Behle ,  Andreas Luttringhaus-Henkel ,  Matthias Bicker ,  Jurgen Klein

IPC分类号： C23C16/00 ,  B05D7/22

CPC分类号： C23C16/4409 ,  B05D1/62 ,  B08B7/00 ,  B08B9/426 ,  B29C49/421 ,  B29C2049/4221 ,  B29C2791/001 ,  B65D23/02 ,  B65G29/00 ,  B65G2201/0244 ,  C08J9/0004 ,  C08J2300/14 ,  C23C14/046 ,  C23C14/505 ,  C23C14/56 ,  C23C16/045 ,  C23C16/401 ,  C23C16/455 ,  C23C16/458 ,  C23C16/50 ,  C23C16/511 ,  C23C16/54 ,  H01J37/32733

摘要： Disclosed are a method and a device for plasma treating workpieces (5). Said workpiece is inserted into a chamber (4) of a treatment station (17), which can be at least partly evacuated, and at least one part (18) of the treatment station is moved relative to another part (27, 35) thereof in order to help manipulate the workpieces. The movement is carried out in such a way that a shell-shaped chamber wall (18) is positioned relative to a floor (35) of the chamber and relative to a chamber lid (27).

摘要翻译： 公开了一种等离子体处理工件（5）的方法和装置。 所述工件插入处理台（17）的腔室（4）中，所述腔室可以被至少部分抽真空，并且处理站的至少一个部分（18）相对于其另一部分（27,35）移动 以帮助操纵工件。 该运动以这样的方式进行，使得壳形室壁（18）相对于室的底板（35）相对于室盖（27）定位。

公开(公告)号：US20050227002A1

公开(公告)日：2005-10-13

申请号：US10515609

申请日：2003-05-09

申请人： Michael Lizenberg ,  Frank Lewi ,  Hartwig Muller ,  Klaus Vogel ,  Gregor Arnold ,  Stephan Behle ,  Andreas Luttringhaus-Henkel ,  Matthias Bicker ,  Jurgen Klein

发明人： Michael Lizenberg ,  Frank Lewi ,  Hartwig Muller ,  Klaus Vogel ,  Gregor Arnold ,  Stephan Behle ,  Andreas Luttringhaus-Henkel ,  Matthias Bicker ,  Jurgen Klein

IPC分类号： A61L2/14 ,  B01J19/08 ,  B05D7/24 ,  B08B7/00 ,  B08B9/42 ,  B29C49/42 ,  B65D23/02 ,  B65G29/00 ,  C03C17/00 ,  C23C14/04 ,  C23C14/50 ,  C23C16/04 ,  C23C16/40 ,  C23C16/44 ,  C23C16/458 ,  C23C16/511 ,  C23C16/54 ,  C23C16/00 ,  B05D7/22

CPC分类号： C23C16/54 ,  B05D1/62 ,  B08B7/00 ,  B08B9/426 ,  B29C49/421 ,  B29C2049/4221 ,  B29C2791/001 ,  B65D23/02 ,  B65G29/00 ,  B65G2201/0244 ,  C23C14/046 ,  C23C14/505 ,  C23C16/045 ,  C23C16/401 ,  C23C16/458 ,  C23C16/511 ,  H01J37/32733

摘要： The invention relates to a method and a device which are used for the plasma treatment of work pieces. Said work piece is inserted into an at least partially evacuatable chamber of a treatment station (3) and the work piece is positioned inside the treatment station of retaining elements. At least one operating agent is at least partially impinged upon by a transporting device (44) which is displaced together with the treatment station on a closed arid rotating transport path.

摘要翻译： 本发明涉及一种用于等离子体处理工件的方法和装置。 所述工件被插入到处理站（3）的至少部分可抽空的室中，并且工件位于保持元件的处理站内。 至少一个操作剂至少部分地被传送装置（44）撞击，传送装置（44）与处理站一起在封闭的和转动的传送路径上移动。

公开(公告)号：US20050233077A1

公开(公告)日：2005-10-20

申请号：US10515610

申请日：2003-05-09

申请人： Michael Lizenberg ,  Frank Lewi ,  Hartwig Muller ,  Klaus Vogel ,  Gregor Arnold ,  Stephan Behle ,  Andreas Luttinghaus-Henkel ,  Matthias Bicker ,  Jurgen Klein ,  Marten Walther

发明人： Michael Lizenberg ,  Frank Lewi ,  Hartwig Muller ,  Klaus Vogel ,  Gregor Arnold ,  Stephan Behle ,  Andreas Luttinghaus-Henkel ,  Matthias Bicker ,  Jurgen Klein ,  Marten Walther

IPC分类号： H05H1/46 ,  B05D7/24 ,  B08B7/00 ,  B08B9/42 ,  B29C49/42 ,  B65D1/00 ,  B65D23/02 ,  B65G29/00 ,  C03C17/00 ,  C08J9/00 ,  C23C14/04 ,  C23C14/50 ,  C23C14/56 ,  C23C16/04 ,  C23C16/40 ,  C23C16/44 ,  C23C16/455 ,  C23C16/458 ,  C23C16/50 ,  C23C16/511 ,  C23C16/54 ,  C23C16/00

CPC分类号： C23C16/4409 ,  B05D1/62 ,  B08B7/00 ,  B08B9/426 ,  B29C49/421 ,  B29C2049/026 ,  B29C2049/027 ,  B29C2049/4221 ,  B29C2791/001 ,  B29K2077/00 ,  B29K2995/0067 ,  B65D23/02 ,  B65G29/00 ,  B65G2201/0244 ,  C08J9/0004 ,  C08J2300/14 ,  C23C14/046 ,  C23C14/505 ,  C23C14/56 ,  C23C16/045 ,  C23C16/401 ,  C23C16/455 ,  C23C16/458 ,  C23C16/50 ,  C23C16/511 ,  C23C16/54 ,  H01J37/32733

摘要： Disclosed are a method and a device for plasma treating workpieces (5). Said workpiece is inserted into a chamber (7) of a treatment station (3), which can be at least partly evacuated, and is positioned within the treatment station by means of a holding element. In order to simultaneously supply at least two chambers with at least one operating means, a flow of the operating means is branched at least once so as to form at least two partial flows (55).

摘要翻译： 公开了一种等离子体处理工件（5）的方法和装置。 所述工件被插入处理台（3）的腔室（7）中，其可被至少部分抽真空，并通过保持元件定位在处理站内。 为了同时供给具有至少一个操作装置的至少两个室，操作装置的流动至少分支一次以形成至少两个部分流（55）。

公开(公告)号：US08961688B2

公开(公告)日：2015-02-24

申请号：US10515610

申请日：2003-05-09

申请人： Michael Lizenberg ,  Frank Lewin ,  Hartwig Müller ,  Klaus Vogel ,  Gregor Arnold ,  Stephan Behle ,  Andreas Lüttringhaus-Henkel ,  Matthias Bicker ,  Jürgen Klein ,  Marten Walther

发明人： Michael Lizenberg ,  Frank Lewin ,  Hartwig Müller ,  Klaus Vogel ,  Gregor Arnold ,  Stephan Behle ,  Andreas Lüttringhaus-Henkel ,  Matthias Bicker ,  Jürgen Klein ,  Marten Walther

IPC分类号： C23C16/452 ,  C23C16/511 ,  C23C16/52 ,  C23C16/44 ,  B08B7/00 ,  B08B9/42 ,  B29C49/42 ,  B65D23/02 ,  B65G29/00 ,  C08J9/00 ,  C23C14/04 ,  C23C14/50 ,  C23C14/56 ,  C23C16/04 ,  C23C16/40 ,  C23C16/455 ,  C23C16/458 ,  C23C16/50 ,  C23C16/54 ,  H01J37/32 ,  B05D1/00 ,  B29C49/02 ,  B29K77/00

CPC分类号： C23C16/4409 ,  B05D1/62 ,  B08B7/00 ,  B08B9/426 ,  B29C49/421 ,  B29C2049/026 ,  B29C2049/027 ,  B29C2049/4221 ,  B29C2791/001 ,  B29K2077/00 ,  B29K2995/0067 ,  B65D23/02 ,  B65G29/00 ,  B65G2201/0244 ,  C08J9/0004 ,  C08J2300/14 ,  C23C14/046 ,  C23C14/505 ,  C23C14/56 ,  C23C16/045 ,  C23C16/401 ,  C23C16/455 ,  C23C16/458 ,  C23C16/50 ,  C23C16/511 ,  C23C16/54 ,  H01J37/32733

摘要： Disclosed are a method and a device for plasma treating workpieces (5). Said workpiece is inserted into a chamber (7) of a treatment station (3), which can be at least partly evacuated, and is positioned within the treatment station by means of a holding element. In order to simultaneously supply at least two chambers with at least one operating means, a flow of the operating means is branched at least once so as to form at least two partial flows (55).

摘要翻译： 公开了一种等离子体处理工件（5）的方法和装置。 所述工件被插入处理台（3）的腔室（7）中，其可被至少部分抽真空，并通过保持元件定位在处理站内。 为了同时供给具有至少一个操作装置的至少两个室，操作装置的流动至少分支一次以形成至少两个部分流（55）。

公开(公告)号：US07699933B2

公开(公告)日：2010-04-20

申请号：US10515609

申请日：2003-05-09

申请人： Michael Lizenberg ,  Frank Lewis ,  Hartwig Müller ,  Klaus Vogel ,  Gregor Arnold ,  Stephan Behle ,  Andreas Lüttringhaus-Henkel ,  Matthias Bicker ,  Jürgen Klein

发明人： Michael Lizenberg ,  Frank Lewis ,  Hartwig Müller ,  Klaus Vogel ,  Gregor Arnold ,  Stephan Behle ,  Andreas Lüttringhaus-Henkel ,  Matthias Bicker ,  Jürgen Klein

IPC分类号： C23C16/00 ,  B05D7/22

CPC分类号： C23C16/54 ,  B05D1/62 ,  B08B7/00 ,  B08B9/426 ,  B29C49/421 ,  B29C2049/4221 ,  B29C2791/001 ,  B65D23/02 ,  B65G29/00 ,  B65G2201/0244 ,  C23C14/046 ,  C23C14/505 ,  C23C16/045 ,  C23C16/401 ,  C23C16/458 ,  C23C16/511 ,  H01J37/32733

摘要： The invention relates to a method and a device which are used for the plasma treatment of work pieces. Said work piece is inserted into an at least partially evacuatable chamber of a treatment station (3) and the work piece is positioned inside the treatment station of retaining elements. At least one operating agent is at least partially impinged upon by a transporting device (44) which is displaced together with the treatment station on a closed and rotating transport path.

摘要翻译： 本发明涉及一种用于等离子体处理工件的方法和装置。 所述工件被插入到处理站（3）的至少部分可抽空的室中，并且工件位于保持元件的处理站内。 至少一个操作剂至少部分地被传送装置（44）撞击，传送装置（44）与处理站一起在封闭和旋转的传送路径上移动。