公开(公告)号：US08961688B2

公开(公告)日：2015-02-24

申请号：US10515610

申请日：2003-05-09

申请人： Michael Lizenberg ,  Frank Lewin ,  Hartwig Müller ,  Klaus Vogel ,  Gregor Arnold ,  Stephan Behle ,  Andreas Lüttringhaus-Henkel ,  Matthias Bicker ,  Jürgen Klein ,  Marten Walther

发明人： Michael Lizenberg ,  Frank Lewin ,  Hartwig Müller ,  Klaus Vogel ,  Gregor Arnold ,  Stephan Behle ,  Andreas Lüttringhaus-Henkel ,  Matthias Bicker ,  Jürgen Klein ,  Marten Walther

IPC分类号： C23C16/452 ,  C23C16/511 ,  C23C16/52 ,  C23C16/44 ,  B08B7/00 ,  B08B9/42 ,  B29C49/42 ,  B65D23/02 ,  B65G29/00 ,  C08J9/00 ,  C23C14/04 ,  C23C14/50 ,  C23C14/56 ,  C23C16/04 ,  C23C16/40 ,  C23C16/455 ,  C23C16/458 ,  C23C16/50 ,  C23C16/54 ,  H01J37/32 ,  B05D1/00 ,  B29C49/02 ,  B29K77/00

CPC分类号： C23C16/4409 ,  B05D1/62 ,  B08B7/00 ,  B08B9/426 ,  B29C49/421 ,  B29C2049/026 ,  B29C2049/027 ,  B29C2049/4221 ,  B29C2791/001 ,  B29K2077/00 ,  B29K2995/0067 ,  B65D23/02 ,  B65G29/00 ,  B65G2201/0244 ,  C08J9/0004 ,  C08J2300/14 ,  C23C14/046 ,  C23C14/505 ,  C23C14/56 ,  C23C16/045 ,  C23C16/401 ,  C23C16/455 ,  C23C16/458 ,  C23C16/50 ,  C23C16/511 ,  C23C16/54 ,  H01J37/32733

摘要： Disclosed are a method and a device for plasma treating workpieces (5). Said workpiece is inserted into a chamber (7) of a treatment station (3), which can be at least partly evacuated, and is positioned within the treatment station by means of a holding element. In order to simultaneously supply at least two chambers with at least one operating means, a flow of the operating means is branched at least once so as to form at least two partial flows (55).

摘要翻译： 公开了一种等离子体处理工件（5）的方法和装置。 所述工件被插入处理台（3）的腔室（7）中，其可被至少部分抽真空，并通过保持元件定位在处理站内。 为了同时供给具有至少一个操作装置的至少两个室，操作装置的流动至少分支一次以形成至少两个部分流（55）。

公开(公告)号：US20050233077A1

公开(公告)日：2005-10-20

申请号：US10515610

申请日：2003-05-09

申请人： Michael Lizenberg ,  Frank Lewi ,  Hartwig Muller ,  Klaus Vogel ,  Gregor Arnold ,  Stephan Behle ,  Andreas Luttinghaus-Henkel ,  Matthias Bicker ,  Jurgen Klein ,  Marten Walther

发明人： Michael Lizenberg ,  Frank Lewi ,  Hartwig Muller ,  Klaus Vogel ,  Gregor Arnold ,  Stephan Behle ,  Andreas Luttinghaus-Henkel ,  Matthias Bicker ,  Jurgen Klein ,  Marten Walther

IPC分类号： H05H1/46 ,  B05D7/24 ,  B08B7/00 ,  B08B9/42 ,  B29C49/42 ,  B65D1/00 ,  B65D23/02 ,  B65G29/00 ,  C03C17/00 ,  C08J9/00 ,  C23C14/04 ,  C23C14/50 ,  C23C14/56 ,  C23C16/04 ,  C23C16/40 ,  C23C16/44 ,  C23C16/455 ,  C23C16/458 ,  C23C16/50 ,  C23C16/511 ,  C23C16/54 ,  C23C16/00

CPC分类号： C23C16/4409 ,  B05D1/62 ,  B08B7/00 ,  B08B9/426 ,  B29C49/421 ,  B29C2049/026 ,  B29C2049/027 ,  B29C2049/4221 ,  B29C2791/001 ,  B29K2077/00 ,  B29K2995/0067 ,  B65D23/02 ,  B65G29/00 ,  B65G2201/0244 ,  C08J9/0004 ,  C08J2300/14 ,  C23C14/046 ,  C23C14/505 ,  C23C14/56 ,  C23C16/045 ,  C23C16/401 ,  C23C16/455 ,  C23C16/458 ,  C23C16/50 ,  C23C16/511 ,  C23C16/54 ,  H01J37/32733

摘要： Disclosed are a method and a device for plasma treating workpieces (5). Said workpiece is inserted into a chamber (7) of a treatment station (3), which can be at least partly evacuated, and is positioned within the treatment station by means of a holding element. In order to simultaneously supply at least two chambers with at least one operating means, a flow of the operating means is branched at least once so as to form at least two partial flows (55).

摘要翻译： 公开了一种等离子体处理工件（5）的方法和装置。 所述工件被插入处理台（3）的腔室（7）中，其可被至少部分抽真空，并通过保持元件定位在处理站内。 为了同时供给具有至少一个操作装置的至少两个室，操作装置的流动至少分支一次以形成至少两个部分流（55）。

公开(公告)号：US07931955B2

公开(公告)日：2011-04-26

申请号：US10486056

申请日：2002-08-07

申请人： Stephan Behle ,  Lutz Klippe ,  Matthias Bicker ,  Marten Walther

发明人： Stephan Behle ,  Lutz Klippe ,  Matthias Bicker ,  Marten Walther

IPC分类号： B32B7/02

CPC分类号： C23C16/401 ,  C23C16/045 ,  C23C16/30 ,  C23C16/405 ,  C23C16/515 ,  Y10T428/24967 ,  Y10T428/24975 ,  Y10T428/265 ,  Y10T428/31507 ,  Y10T428/31565 ,  Y10T428/31587 ,  Y10T428/31667

摘要： A composite material having a substrate material and at least one barrier coating on one side of the substrate material. The barrier coating is plasma impulse chemical vapor deposited (PICVD) to the substrate material. The barrier coating includes at least one of material selected from the group consisting of SiOx, TiOx, SnOx, Si3Ny, Nb2Oy, and Al2Oy.

摘要翻译： 一种复合材料，其具有衬底材料和在衬底材料的一侧上的至少一个阻挡涂层。 阻挡涂层是等离子体脉冲化学气相沉积（PICVD）到基底材料。 阻挡涂层包括选自SiO x，TiO x，SnO x，Si 3 N y，Nb 2 O y和Al 2 O y的材料中的至少一种。

公开(公告)号：US07744790B2

公开(公告)日：2010-06-29

申请号：US10485979

申请日：2002-08-07

申请人： Stephan Behle ,  Markus Kuhr ,  Marten Walther ,  Detlef Wolff ,  Matthias Bicker

发明人： Stephan Behle ,  Markus Kuhr ,  Marten Walther ,  Detlef Wolff ,  Matthias Bicker

IPC分类号： B29C51/10

CPC分类号： B05D1/62 ,  B05D7/227 ,  B29C45/0053 ,  B29C45/1703 ,  B29C2045/0079

摘要： A process for simultaneously coating and forming a body. The process includes moving two mold halves into contact with one another; introducing an injection-molding material into the mold halves so that a molding is formed; evacuating the molding; admitting a gas into the molding; igniting a plasma in the molding so that a coating is deposited on the inner side of the molding; and moving the mold halves apart so that the molding drops out.

摘要翻译： 同时涂覆和形成身体的方法。 该过程包括使两个半模彼此接触; 将注射成型材料引入到半模中，从而形成模制品; 抽真空模具; 将气体进入模制品; 在模制品中点燃等离子体，使得涂层沉积在模制品的内侧; 并将半模分开，使模具脱落。

公开(公告)号：US20060150909A1

公开(公告)日：2006-07-13

申请号：US10515084

申请日：2003-05-26

申请人： Stephan Behle ,  Andreas Luttringhaushenkel ,  Gregor Arnold ,  Mathias Bicker ,  Marten Walther

发明人： Stephan Behle ,  Andreas Luttringhaushenkel ,  Gregor Arnold ,  Mathias Bicker ,  Marten Walther

IPC分类号： C23C16/00

CPC分类号： C23C16/4409 ,  B05D1/62 ,  B08B7/00 ,  B08B9/426 ,  B29C49/421 ,  B29C2049/4221 ,  B29C2791/001 ,  B65D23/02 ,  B65G29/00 ,  B65G2201/0244 ,  C03C17/005 ,  C08J9/0004 ,  C08J2300/14 ,  C23C14/046 ,  C23C14/505 ,  C23C14/56 ,  C23C16/045 ,  C23C16/401 ,  C23C16/4412 ,  C23C16/455 ,  C23C16/458 ,  C23C16/50 ,  C23C16/511 ,  C23C16/54 ,  H01J37/32733

摘要： A coating apparatus is provided for simplifying the introduction and removal of workpieces into and from a reactor for plasma coating and to increase the throughput. The coating apparatus has a reactor with a moveable sleeve part and a base element, at least one sealed coating chamber being defined between sleeve part and base element when the latter two parts are fitted onto one another. The coating apparatus also has a device for introducing electromagnetic energy into the at least one coating chamber. The reactor has at least two coating places.

摘要翻译： 提供了一种涂布装置，用于简化进入和离开用于等离子体涂覆的反应器的工件的引入和移除并提高生产量。 涂覆装置具有具有可移动套筒部分和基部元件的反应器，当后两个部件彼此装配时，至少一个密封涂覆室限定在套筒部分和基部元件之间。 该涂覆装置还具有用于将电磁能引入到至少一个涂覆室中的装置。 反应器至少有两个涂层位置。

公开(公告)号：US07926446B2

公开(公告)日：2011-04-19

申请号：US10515084

申请日：2003-05-26

申请人： Stephan Behle ,  Andreas Luttringhaus-Henkel ,  Gregor Arnold ,  Mathias Bicker ,  Marten Walther ,  Juergen Klein

发明人： Stephan Behle ,  Andreas Luttringhaus-Henkel ,  Gregor Arnold ,  Mathias Bicker ,  Marten Walther ,  Juergen Klein

IPC分类号： C23C16/511 ,  C23F1/00 ,  H01L21/306 ,  C23C16/06 ,  C23C16/22

CPC分类号： C23C16/4409 ,  B05D1/62 ,  B08B7/00 ,  B08B9/426 ,  B29C49/421 ,  B29C2049/4221 ,  B29C2791/001 ,  B65D23/02 ,  B65G29/00 ,  B65G2201/0244 ,  C03C17/005 ,  C08J9/0004 ,  C08J2300/14 ,  C23C14/046 ,  C23C14/505 ,  C23C14/56 ,  C23C16/045 ,  C23C16/401 ,  C23C16/4412 ,  C23C16/455 ,  C23C16/458 ,  C23C16/50 ,  C23C16/511 ,  C23C16/54 ,  H01J37/32733

摘要： A coating apparatus is provided for simplifying the introduction and removal of workpieces into and from a reactor for plasma coating and to increase the throughput. The coating apparatus has a reactor with a moveable sleeve part and a base element, at least one sealed coating chamber being defined between sleeve part and base element when the latter two parts are fitted onto one another. The coating apparatus also has a device for introducing electromagnetic energy into the at least one coating chamber. The reactor has at least two coating places.

摘要翻译： 提供了一种涂布装置，用于简化进入和离开用于等离子体涂覆的反应器的工件的引入和移除并提高生产量。 涂覆装置具有具有可移动套筒部分和基部元件的反应器，当后两个部件彼此装配时，至少一个密封涂覆室限定在套筒部分和基部元件之间。 该涂覆装置还具有用于将电磁能引入到至少一个涂覆室中的装置。 反应器至少有两个涂层位置。

公开(公告)号：US07434537B2

公开(公告)日：2008-10-14

申请号：US10486140

申请日：2002-08-07

申请人： Stephan Behle ,  Lars Bewig ,  Thomas Küpper ,  Wolfram Maring ,  Christoph Mölle ,  Marten Walther

发明人： Stephan Behle ,  Lars Bewig ,  Thomas Küpper ,  Wolfram Maring ,  Christoph Mölle ,  Marten Walther

IPC分类号： C23C16/00 ,  C23F1/00 ,  H01L21/306

CPC分类号： H01J37/32229 ,  C23C16/511 ,  H01J37/32192

摘要： An apparatus for coating objects having a single microwave source, two or more coating chambers, and an impedance structure or a waveguide structure. The coating chambers are connected to the single microwave source. The impedance structure or waveguide structure divides the microwave energy in order to generate plasmas in the coating chambers.

摘要翻译： 一种用于涂覆具有单个微波源，两个或更多个涂层室以及阻抗结构或波导结构的物体的设备。 涂层室连接到单个微波源。 阻抗结构或波导结构划分微波能量，以便在涂层室中产生等离子体。

公开(公告)号：US20050005853A1

公开(公告)日：2005-01-13

申请号：US10486140

申请日：2002-08-07

申请人： Stephan Behle ,  Lars Bewig ,  Thomas Kupper ,  Wolfram Maring ,  Christoph Molle ,  Marten Walther

发明人： Stephan Behle ,  Lars Bewig ,  Thomas Kupper ,  Wolfram Maring ,  Christoph Molle ,  Marten Walther

IPC分类号： H05H1/46 ,  C23C16/511 ,  H01J37/32 ,  H01P5/12 ,  C23C16/00

CPC分类号： H01J37/32229 ,  C23C16/511 ,  H01J37/32192

摘要： An apparatus for coating objects having a single microwave source, two or more coating chambers, and an impedance structure or a waveguide structure. The coating chambers are connected to the single microwave source. The impedance structure or waveguide structure divides the microwave energy in order to generate plasmas in the coating chambers.

摘要翻译： 一种用于涂覆具有单个微波源，两个或更多个涂层室以及阻抗结构或波导结构的物体的设备。 涂层室连接到单个微波源。 阻抗结构或波导结构划分微波能量，以便在涂层室中产生等离子体。

公开(公告)号：US20120263936A1

公开(公告)日：2012-10-18

申请号：US13453616

申请日：2012-04-23

申请人： Marta Krzyak ,  Marten Walther ,  Peter Kracht

发明人： Marta Krzyak ,  Marten Walther ,  Peter Kracht

IPC分类号： B32B17/06 ,  B32B5/00 ,  B32B3/26 ,  B32B37/10 ,  B32B37/14 ,  B82Y30/00

CPC分类号： G02B1/115 ,  C03C17/3417 ,  C03C17/42 ,  C03C2217/425 ,  C03C2217/734 ,  C03C2217/76 ,  C03C2218/365 ,  C23C18/1216 ,  C23C18/1225 ,  C23C18/1254 ,  F21V3/04 ,  Y10T428/249953 ,  Y10T428/265 ,  Y10T428/266

摘要： A device, in particular a cover panel for a display device or a monitor auxiliary panel or a surface for input devices, includes a substrate and a coating applied onto the substrate. The coating has a surface having a coefficient of friction in the range between approximately 0.01 and 0.12, in particular between approximately 0.02 and 0.1, or between approximately 0.03 and 0.09.

摘要翻译： 一种装置，特别是用于显示装置的盖板或监视器辅助面板或用于输入装置的表面，包括基板和施加到基板上的涂层。 该涂层的表面的摩擦系数在约0.01至0.12之间，特别是约0.02至0.1之间，或约0.03至0.09之间。

公开(公告)号：US08230700B2

公开(公告)日：2012-07-31

申请号：US13041508

申请日：2011-03-07

申请人： Holger Waldschmidt ,  Tino Krieg ,  Marten Walther

发明人： Holger Waldschmidt ,  Tino Krieg ,  Marten Walther

IPC分类号： C03C17/23

CPC分类号： C03C10/00 ,  C03B23/023 ,  C03B32/02 ,  C03C17/008 ,  C03C17/25 ,  C03C17/34 ,  C03C23/007 ,  C03C2218/113 ,  F24B1/192 ,  G05B19/416 ,  G05B2219/43174

摘要： The method produces a coated three-dimensionally shaped glass ceramic body, especially a viewing window pane, which is provided with a reflective, anti-reflective or partially reflective layer. The method includes coating a flat green glass body to produce a coated green glass body and subsequently shaping the coated green glass body and ceramizing to form the coated three-dimensionally shaped glass ceramic body. In preferred embodiments the shaping the ceramizing occur at the same time. The reflective or anti-reflective coating is preferably applied to the green-glass body by an economical sol-gel process.

摘要翻译： 该方法产生涂覆的三维形状的玻璃陶瓷体，特别是观察窗玻璃，其设置有反射，抗反射或部分反射层。 该方法包括涂覆平的绿色玻璃体以产生涂覆的绿色玻璃体，随后对涂覆的绿色玻璃体进行成型和陶瓷化以形成涂覆的三维形状的玻璃陶瓷体。 在优选的实施方案中，陶瓷化的成形同时发生。 反射或抗反射涂层优选通过经济的溶胶 - 凝胶法施加到生玻璃体上。