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1.发明授权公开(公告)号：US07147767B2
公开(公告)日：2006-12-12
申请号：US10320263
申请日：2002-12-16
申请人： Steven D. Boyd , Susrut Kesari , William M. Lamanna , Michael J. Parent , Lawrence A. Zazzera , Haiyan Zhang
发明人： Steven D. Boyd , Susrut Kesari , William M. Lamanna , Michael J. Parent , Lawrence A. Zazzera , Haiyan Zhang
摘要： The present invention provides plating solutions having either copper bis(perfluoroalkanesulfonyl) imides or copper tris(perfluoroalkanesulfonyl) methides and methods of electrochemically or chemically depositing copper interconnects using these plating solutions.
摘要翻译： 本发明提供具有铜双（全氟烷基磺酰基）酰亚胺或三（全氟烷基磺酰基）磺酸铜的电镀溶液和使用这些电镀溶液电化学或化学沉积铜互连的方法。
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2.发明授权Methods for polishing and/or cleaning copper interconnects and/or film and compositions therefor 失效用于抛光和/或清洁铜互连和/或其膜和组合物的方法公开(公告)号：US06858124B2
公开(公告)日：2005-02-22
申请号：US10320254
申请日：2002-12-16
IPC分类号： C09G1/02 , C11D1/00 , C11D3/34 , C11D11/00 , C23F3/06 , C23G1/10 , H01L21/02 , H01L21/288 , H01L21/321 , H01L21/3213 , H01L21/768 , C25F3/00 , C23G1/00
CPC分类号： H01L21/32134 , C09G1/02 , C11D1/004 , C11D3/349 , C11D11/0047 , C23F3/06 , C23G1/103 , H01L21/02074 , H01L21/3212 , H01L21/32125
摘要： The present invention provides methods of polishing and/or cleaning copper interconnects using sulfonic acid compositions.
摘要翻译： 本发明提供了使用磺酸组合物抛光和/或清洁铜互连的方法。
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3.发明授权Methods for polishing and/or cleaning copper interconnects and/or film and compositions therefor 失效用于抛光和/或清洁铜互连和/或其膜和组合物的方法公开(公告)号：US06884338B2
公开(公告)日：2005-04-26
申请号：US10319954
申请日：2002-12-16
IPC分类号： C09G1/02 , C11D3/34 , C11D11/00 , C23F3/06 , C23G1/10 , H01L21/02 , H01L21/288 , H01L21/321 , H01L21/3213 , H01L21/768 , C25F3/00 , C23G1/00
CPC分类号： C11D3/349 , C09G1/02 , C11D11/0047 , C23F3/06 , C23G1/103 , H01L21/02074 , H01L21/32125
摘要： The present invention provides methods of polishing and/or cleaning copper interconnects using bis(perfluoroalkanesulfonyl) imide acids or copper tris(perfluoroalkanesulfonyl) methide acids compositions.
摘要翻译： 本发明提供了使用双（全氟烷基磺酰基）酰亚胺酸或三（全氟烷基磺酰基）甲磺酸铜组合物抛光和/或清洗铜互连的方法。
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公开(公告)号：US07030067B2
公开(公告)日：2006-04-18
申请号：US10373273
申请日：2003-02-24
IPC分类号： C10M135/08 , C10M105/74
CPC分类号： C09K13/08 , B01F17/0057 , C09G1/02 , C09K3/1463 , C10M135/10 , C10M169/04 , C10M2207/026 , C10M2207/027 , C10M2207/28 , C10M2209/084 , C10M2215/06 , C10M2219/044 , C10M2223/0405 , C10M2229/041 , C10N2210/01 , C10N2230/24 , C10N2240/08 , C25D3/02 , C25D3/38 , H01L21/02052 , H01L21/3212 , Y10T428/3154
摘要： The present invention provides for the use of bis(perfluoroalkanesulfonyl)imide and its salts as surfactants or additives applications having an extreme environment.
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5.发明授权Bis(perfluoroalkanesulfonyl)imides and their salts as surfactants/additives for applications having extreme environments and methods therefor 失效二（全氟烷基磺酰基）酰亚胺及其盐作为具有极端环境和方法的应用的表面活性剂/添加剂公开(公告)号：US06555510B2
公开(公告)日：2003-04-29
申请号：US09853065
申请日：2001-05-10
IPC分类号： C09K1308
CPC分类号： C09K13/08 , B01F17/0057 , C09G1/02 , C09K3/1463 , C10M135/10 , C10M169/04 , C10M2207/026 , C10M2207/027 , C10M2207/28 , C10M2209/084 , C10M2215/06 , C10M2219/044 , C10M2223/0405 , C10M2229/041 , C10N2210/01 , C10N2230/24 , C10N2240/08 , C25D3/02 , C25D3/38 , H01L21/02052 , H01L21/3212 , Y10T428/3154
摘要： The present invention provides for the use of bis(perfluoroalkanesulfonyl)imide and its salts as surfactants or additives applications having an extreme environment.
摘要翻译： 本发明提供了双（全氟烷基磺酰基）酰亚胺及其盐作为具有极端环境的表面活性剂或添加剂应用的用途。
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公开(公告)号：US07101492B2
公开(公告)日：2006-09-05
申请号：US11081196
申请日：2005-03-16
申请人： Michael J. Parent , Patricia M. Savu , Richard M. Flynn , Zhongxing Zhang , William M. Lamanna , Zai-Ming Qiu , George G. I. Moore
发明人： Michael J. Parent , Patricia M. Savu , Richard M. Flynn , Zhongxing Zhang , William M. Lamanna , Zai-Ming Qiu , George G. I. Moore
IPC分类号： C09K13/00
CPC分类号： C09K13/08 , H01L21/31111
摘要： Novel aqueous, acid etch solutions comprising a fluorinated surfactant are provided. The etch solutions are used with a wide variety of substrates, for example, in the etching of silicon oxide-containing substrates.
摘要翻译： 提供了包含氟化表面活性剂的新型含水酸蚀刻溶液。 蚀刻溶液与各种各样的衬底一起使用，例如，在含氧化硅的衬底的蚀刻中。
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公开(公告)号：US20100320416A1
公开(公告)日：2010-12-23
申请号：US12871275
申请日：2010-08-30
CPC分类号： C11D1/004 , C11D3/042 , C11D3/048 , C11D3/3947 , C11D11/0047
摘要： Described are anionic N-substituted fluorinated sulfonamide surfactants, and use thereof in cleaning and in acid etch solutions. The cleaning and etch solutions are used with a wide variety of substrates, for example, in the cleaning and etching of silicon oxide-containing substrates.
摘要翻译： 描述了阴离子N-取代的氟化磺酰胺表面活性剂，并且其用于清洁和酸蚀刻溶液中。 清洁和蚀刻溶液与多种基材一起使用，例如在含氧化硅的基材的清洗和蚀刻中。
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公开(公告)号：US07811978B2
公开(公告)日：2010-10-12
申请号：US11866671
申请日：2007-10-03
IPC分类号： H01L21/02
CPC分类号： C11D1/004 , C11D3/042 , C11D3/048 , C11D3/3947 , C11D11/0047
摘要： Described are anionic N-substituted fluorinated sulfonamide surfactants, and use thereof in cleaning and in acid etch solutions. The cleaning and etch solutions are used with a wide variety of substrates, for example, in the cleaning and etching of silicon oxide-containing substrates.
摘要翻译： 描述了阴离子N-取代的氟化磺酰胺表面活性剂，并且其用于清洁和酸蚀刻溶液中。 清洁和蚀刻溶液与多种基材一起使用，例如在含氧化硅的基材的清洗和蚀刻中。
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公开(公告)号：US06890452B2
公开(公告)日：2005-05-10
申请号：US10290763
申请日：2002-11-08
申请人： Michael J. Parent , Patricia M. Savu , Richard M. Flynn , Zhongxing Zhang , William M. Lamanna , Zai-Ming Qiu , George G. I. Moore
发明人： Michael J. Parent , Patricia M. Savu , Richard M. Flynn , Zhongxing Zhang , William M. Lamanna , Zai-Ming Qiu , George G. I. Moore
IPC分类号： C09K13/08 , H01L21/311 , C09K13/00
CPC分类号： C09K13/08 , H01L21/31111
摘要： Novel aqueous, acid etch solutions comprising a fluorinated surfactant are provided. The etch solutions are used with a wide variety of substrates, for example, in the etching of silicon oxide-containing substrates.
摘要翻译： 提供了包含氟化表面活性剂的新型含水酸蚀刻溶液。 蚀刻溶液与各种各样的衬底一起使用，例如，在含氧化硅的衬底的蚀刻中。
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公开(公告)号：US07985723B2
公开(公告)日：2011-07-26
申请号：US12871275
申请日：2010-08-30
IPC分类号： H01L21/02
CPC分类号： C11D1/004 , C11D3/042 , C11D3/048 , C11D3/3947 , C11D11/0047
摘要： Described are anionic N-substituted fluorinated sulfonamide surfactants, and use thereof in cleaning and in acid etch solutions. The cleaning and etch solutions are used with a wide variety of substrates, for example, in the cleaning and etching of silicon oxide-containing substrates.
摘要翻译： 描述了阴离子N-取代的氟化磺酰胺表面活性剂，并且其用于清洁和酸蚀刻溶液中。 清洁和蚀刻溶液与多种基材一起使用，例如在含氧化硅的基材的清洗和蚀刻中。
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