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    Process for separating mixtures of nitrobenzaldehyde isomers
    1.
    发明授权
    Process for separating mixtures of nitrobenzaldehyde isomers 失效
    分离硝基苯甲醛异构体混合物的方法

    公开(公告)号：US5567854A

    公开(公告)日：1996-10-22

    申请号：US532513

    申请日：1995-09-22

    申请人： Wolfram Kissener ,  Herbert Emde ,  Achim Fessenbecker

    发明人： Wolfram Kissener ,  Herbert Emde ,  Achim Fessenbecker

    IPC分类号： C07C201/16 ,  C07C205/44 ,  C07C45/82

    CPC分类号： C07C201/16

    摘要： 2- and 3-Nitrobenzaldehydes suitable for use as intermediates for the preparation of pharmaceuticals are obtained in a simple manner and without risk of uncontrolled decompositions by distilling mixtures of nitrobenzaldehyde isomers at bottom temperatures of at most 200.degree. C. in the presence of monomeric and/or polymeric aromatic amines and/or phenols and/or N- and S-containing phenothiazines.

    摘要翻译： 适用于制备药物的中间体的2-和3-硝基苯甲醛以简单的方式获得，没有不受控制的分解的风险，通过在最多200℃的底部温度下蒸馏硝基苯甲醛异构体的混合物，在单体和/ /或聚合芳族胺和/或酚类和/或含N-和S-的吩噻嗪。

    AQUEOUS ALKALINE ETCHING AND CLEANING COMPOSITION AND METHOD FOR TREATING THE SURFACE OF SILICON SUBSTRATES
    6.
    发明申请
    AQUEOUS ALKALINE ETCHING AND CLEANING COMPOSITION AND METHOD FOR TREATING THE SURFACE OF SILICON SUBSTRATES 有权
    水性碱蚀刻和清洁组合物及其处理硅基材表面的方法

    公开(公告)号：US20130078756A1

    公开(公告)日：2013-03-28

    申请号：US13703233

    申请日：2011-06-01

    申请人： Berthold Ferstl ,  Simon Braun ,  Achim Fessenbecker

    发明人： Berthold Ferstl ,  Simon Braun ,  Achim Fessenbecker

    IPC分类号： H01L31/18 ,  C09K13/06 ,  H01L21/306 ,  C09K13/00

    CPC分类号： H01L31/1804 ,  C09K13/00 ,  C09K13/06 ,  C11D7/3209 ,  C11D7/34 ,  C11D7/36 ,  C11D11/0047 ,  H01L21/306 ,  H01L21/30604 ,  Y02E10/547 ,  Y02P70/521

    摘要： An aqueous alkaline etching and cleaning composition for treating the surface of silicon substrates, the said composition comprising: (A) a quaternary ammonium hydroxide; and (B) a component selected from the group consisting of water-soluble acids and their water-soluble salts of the general formulas (I) to (V): (R1—S03-)nXn+ (I), R—P032−(Xn+)3-n (II); (RO—S03-)nXn+ (III), RO—P032−(Xn+)3-n, (IV), and [(RO)2P02-]nXn+ (V); wherein the n=1 or 2; X is hydrogen or alkaline or alkaline-earth metal; the variable R1 is an olefinically unsaturated aliphatic or cycloaliphatic moiety and R is R1 or an alkylaryl moiety; the use of the composition for treating silicon substrates, a method for treating the surface of silicon substrates, and methods for manufacturing devices generating electricity upon the exposure to electromagnetic radiation.

    摘要翻译： 一种用于处理硅衬底表面的水性碱性蚀刻和清洁组合物，所述组合物包含：（A）季铵氢氧化物; 和（B）选自水溶性酸及其通式（I）至（V）的水溶性盐的组分：（R1-SO3-）nXn +（I），R-P032-（ Xn +）3-n（II）; （RO-S03-）nXn +（III），RO-P032-（Xn +）3-n，（IV）和[（RO）2P02-] nXn +（V） 其中n = 1或2; X是氢或碱金属或碱土金属; 变量R1是烯属不饱和脂族或脂环族部分，R是R 1或烷芳基部分; 使用用于处理硅衬底的组合物，用于处理硅衬底的表面的方法，以及在暴露于电磁辐射时产生电的器件的制造方法。

    Aqueous alkaline etching and cleaning composition and method for treating the surface of silicon substrates
    9.
    发明授权
    Aqueous alkaline etching and cleaning composition and method for treating the surface of silicon substrates 有权
    水性碱蚀刻和清洗组合物及其处理方法

    公开(公告)号：US09076920B2

    公开(公告)日：2015-07-07

    申请号：US13703233

    申请日：2011-06-01

    申请人： Berthold Ferstl ,  Simon Braun ,  Achim Fessenbecker

    发明人： Berthold Ferstl ,  Simon Braun ,  Achim Fessenbecker

    IPC分类号： H01L21/461 ,  H01L31/18 ,  C11D7/32 ,  C11D7/34 ,  C11D7/36 ,  C11D11/00 ,  C09K13/00 ,  C09K13/06 ,  H01L21/306

    CPC分类号： H01L31/1804 ,  C09K13/00 ,  C09K13/06 ,  C11D7/3209 ,  C11D7/34 ,  C11D7/36 ,  C11D11/0047 ,  H01L21/306 ,  H01L21/30604 ,  Y02E10/547 ,  Y02P70/521

    摘要： An aqueous alkaline etching and cleaning composition for treating the surface of silicon substrates, the said composition comprising: (A) a quaternary ammonium hydroxide; and (B) a component selected from the group consisting of water-soluble acids and their water-soluble salts of the general formulas (I) to (V): (R1—S03-)nXn+ (I), R—P032−(Xn+)3-n (II); (RO—S03-)nXn+ (III), RO—P032−(Xn+)3-n, (IV), and [(RO)2P02−]nXn+ (V); wherein the n=1 or 2; X is hydrogen or alkaline or alkaline-earth metal; the variable R1 is an olefinically unsaturated aliphatic or cycloaliphatic moiety and R is R1 or an alkylaryl moiety; the use of the composition for treating silicon substrates, a method for treating the surface of silicon substrates, and methods for manufacturing devices generating electricity upon the exposure to electromagnetic radiation.

    摘要翻译： 一种用于处理硅衬底表面的水性碱性蚀刻和清洁组合物，所述组合物包含：（A）季铵氢氧化物; 和（B）选自水溶性酸及其通式（I）至（V）的水溶性盐的组分：（R1-SO3-）nXn +（I），R-P032-（ Xn +）3-n（II）; （RO-S03-）nXn +（III），RO-P032-（Xn +）3-n，（IV）和[（RO）2P02-] nXn +（V） 其中n = 1或2; X是氢或碱金属或碱土金属; 变量R1是烯属不饱和脂族或脂环族部分，R是R 1或烷芳基部分; 使用用于处理硅衬底的组合物，用于处理硅衬底的表面的方法，以及在暴露于电磁辐射时产生电的器件的制造方法。