Abstract:
Es wird ein Wellenlängenkonversionselement (1) mit einem Matrixmaterial und einem im Matrixmaterial eingebetteten Wellenlängenkonversionsstoff angegeben, wobei das Matrixmaterial schichtförmig mit einer Haupterstreckungsebene (9) ausgebildet ist und eine senkrecht zur Haupterstreckungsebene (9) in das Wellenlängenkonversionselement (1) ragende Vertiefung (10) aufweist, die von einem entlang der Haupterstreckungsebene (9) zumindest teilweise umlaufenden Rand (11) umgeben ist, wobei das Wellenlängenkonversionselement (1) selbsttragend ist. Weiterhin werden ein optoelektronisches Bauelement mit einem Wellenlängenkonversionselement auf einem Licht emittierenden Halbleiterchip und ein Verfahren zur Herstellung eines Wellenlängenkonversionselements angegeben.
Abstract:
Ein Gehäusekörper für ein optoelektronisches Bauelement umfasst insbesondere eine Hauptoberfläche (2) mit einem ersten Flächenbereich (21) und einem zweiten Flächenbereich (22), wobei der erste Flächenbereich (21) und der zweite Flächenbereich (22) eine Stufe in der Hauptoberfläche (2) bilden, der erste Flächenbereich (21) und der zweite Flächenbereich (22) mittels einer Außenkante (20) aneinander angrenzen und der zweite Flächenbereich (22) und die Außenkante (20) den ersten Flächenbereich (21) umschließen.
Abstract:
In at least one embodiment of the method, the latter serves for producing a silicone foil (2) by means of molding for use in an optoelectronic semiconductor component (10). The method comprises the following steps: introducing a mold foil (1) into a mold (5), introducing a carrier foil (3) into the mold (5), wherein the carrier foil (3) is fitted on a substrate foil (4) and the substrate foil (4) projects laterally beyond the carrier foil (3), providing and applying a silicone base composition (20) to the mold foil (1) or to the carrier foil (3), molding the silicone base composition (20) to form the silicone foil (2) between the mold foil (1) and the carrier foil (3), wherein the silicone base composition is brought into contact with the substrate foil (4) in an overlap region (24) laterally alongside the carrier foil (3), removing the mold foil (1) from the silicone foil (2), and separating the overlap region (24).
Abstract:
Es wird ein Verfahren zur Herstellung eines optoelektronischen Halbleiterbauelements angegeben, bei dem ein Kontakt von elektrischen Kontakten des späteren optoelektronischen Halbleiterbauelements mit Fremdpartikeln eines Füllstoffs vermieden wird.
Abstract:
Es wird ein Verfahren zur Herstellung einer Leuchtdiode mit den folgenden Schritten angegeben: - Bereitstellen zumindest eines Leuchtdiodenchips (1), - Bereitstellen einer Suspension umfassend ein Lösungsmittel (2) und Partikel (3) zumindest eines Leuchtstoffes, - Anordnen des zumindest einen Leuchtdiodenchips (1) in der Suspension, - elektrophoretisches Abscheiden der Partikel auf einer Außenfläche (1a) des zumindest einen Leuchtdiodenchips (1), - Fertigstellen der Leuchtdiode.
Abstract:
Es ist ein Verfahren zum Herstellen einer Mehrzahl von Strahlungsemittierenden Halbleiterbauelementen (10) angegeben, die jeweils mindestens einen Halbleiterchip (1) und ein Konverterplättchen (2) aufweisen. Hierzu wird eine Mehrzahl von Halbleiterchips (1) im Waferverbund (10a) bereitgestellt, die jeweils geeignet sind, eine Primärstrahlung zu emittieren. Zudem wird eine Mehrzahl von Konverterplättchen (2) auf einem gemeinsamen Träger (2a) bereitgestellt, die jeweils geeignet sind, die Primärstrahlung in eine Sekundärstrahlung umzuwandeln, wobei jeweils ein Konverterplättchen (2) auf einem Halbleiterchip (1) oder auf mehrere Halbleiterchips (1) mittels eines automatisierten Verfahrens montiert wird.
Abstract:
Es wird ein Verfahren zur Herstellung eines optoelektronischen Bauelements angegeben, bei dem ein Lumineszenzdiodenchip (10) an einer Grundfläche (8) auf den ersten Anschlussbereich (1) eines Trägers (3) montiert wird. Eine elektrisch isolierende Schicht (4) wird auf Seitenflanken (17) des Lumineszenzdiodenchips (10) aufgebracht. Nachfolgend wird eine elektrisch leitfähige Schicht (5), welche von einem zweiten Anschlusskontakt (12) des Lumineszenzdiodenchips (10) über die elektrisch isolierende Schicht (4) zu einem zweiten Anschlussbereich (2) auf dem Träger (3) führt, aufgebracht. Es wird eine Fotolackschicht (7) auf die elektrisch leitfähige Schicht (5) aufgebracht, die durch Anlegen einer elektrischen Spannung an den Lumineszenzdiodenchip (10), so dass der Lumineszenzdiodenchip (10) Strahlung (23) emittiert, belichtet wird. Nach dem Entwickeln der Fotolackschicht (7) wird ein auf der Strahlungsaustrittsfläche (9) angeordneter Teil der elektrisch leitfähigen Schicht (5) mit einem Ätzprozess, bei dem die Fotolackschicht (7) als Maske dient, entfernt.
Abstract:
Es wird ein Verfahren zur Herstellung zumindest eines optoelektronischen Halbleiterbauelements mit den folgenden Schritten angegeben: a) Bereitstellen eines Trägers (1) und Aufbringen einer Mehrzahl von in lateraler Richtung (L) beabstandet zueinander angeordneten optoelektronischen Halbleiterchips (2) an einer Oberseite (12) des Trägers (1); c) Aufbringen zumindest einer reflektierenden Umhüllung (3) auf freiliegende Stellen des Trägers (1) und Seitenflächen (24) der optoelektronischen Halbleiterchips (2); d) Einbringen von Öffnungen (5) in die reflektierende Umhüllung (3), welche die reflektierende Umhüllung (3) vollständig durchdringen; e) Anordnen von elektrisch leitfähigem Material (8) auf der reflektierenden Umhüllung (3) und zumindest stellenweise in den Öffnungen (5), wobei - Strahlungsdurchtrittsflächen (25) der optoelektronischen Halbleiterchips (2) frei von der reflektierenden Umhüllung (3) sind, und - die reflektierende Umhüllung (3) die optoelektronischen Halbleiterchips (2) seitlich nicht überragt.
Abstract:
In mindestens einer Ausführungsform des optoelektronischen Halbleiterbauteils (1) umfasst dieses einen Träger (2) sowie mindestens einen optoelektronischen Halbleiterchip (3), der an einer Trägeroberseite (20) angebracht ist. Weiterhin beinhaltet das Halbleiterbauteil (1) mindestens einen Bonddraht (4), über den der Halbleiterchip (3) elektrisch kontaktiert ist, sowie mindestens einen Abdeckkörper (5), der auf einer Strahlungshauptseite (30) angebracht ist und der den Bonddraht (4) überragt. Zumindest eine reflektierende Vergussmasse (6) umgibt den Halbleiterchip (3) in lateraler Richtung und reicht mindestens bis zu der Strahlungshauptseite (30) des Halbleiterchips (3). Der Bonddraht (4) ist vollständig von der reflektierenden Vergussmasse (6) oder vollständig von der reflektierenden Vergussmasse (6) zusammen mit dem Abdeckkörper (5) überdeckt.
Abstract:
Verfahren zum Herstellen einer Vielzahl von gleichartigen Leuchtdioden-Bauelementen, mit jeweils zumindest einem Leuchtdioden-Chip (3) und einem Konversionsmittel, das einer den Leuchtdioden-Chip (3) umgebenden Spritzmasse (2) beigefügt ist und welches zumindest einen Teil einer vom zumindest einen Leuchtdioden-Chip (3) ausgesandten elektromagnetischen Primärstrahlung wellenlängenkonvertiert.