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公开(公告)号：CN103102251A
公开(公告)日：2013-05-15
申请号：CN201210519762.3
申请日：2007-11-01
Applicant: 三菱瓦斯化学株式会社
IPC: C07C39/17 , C07C37/20 , C07C39/42 , C07C59/70 , C07C65/105 , C07C69/736 , C08G8/04 , C08G8/08 , C08G8/20 , G03F7/004 , G03F7/00
CPC classification number: G03F7/0045 , C07C37/20 , C07C39/12 , C07C39/17 , C07C39/42 , C07C45/49 , C07C59/70 , C07C65/105 , C07C69/736 , C07C2601/14 , C07C2603/74 , C07C2603/92 , C07D307/33 , C08G8/04 , C08G8/08 , C08G8/20 , G03F7/022 , G03F7/038 , G03F7/0382 , G03F7/0392 , G03F7/0397 , Y10S430/106 , Y10S430/108 , Y10S430/109 , C07C47/546
Abstract: 本发明提供了含有高灵敏度、高分辨力、高耐蚀刻性、低逸气量、以及得到的抗蚀图形的形状良好的抗蚀剂化合物的放射线敏感性组合物；以及使用该放射线敏感性组合物的抗蚀图形的形成方法；以及光学特性和耐蚀刻性良好的、而且实质上无升华物的用于形成新的光刻胶下层膜的组合物及由其形成的下层膜。该放射线敏感性组合物含有具有特定结构的环状化合物和溶剂，所述环状化合物为通过醛类化合物A1和酚类化合物A2的缩合反应而合成的分子量为700-5000的环状化合物A，其中所述醛类化合物A1为碳原子数为2-59且具有1-4个甲酰基的化合物，所述酚类化合物A2为碳原子数为6-15且具有1-3个酚羟基的化合物。还提供了用于该组合物的环状化合物。
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公开(公告)号：CN102712561A
公开(公告)日：2012-10-03
申请号：CN201180006129.8
申请日：2011-01-13
Applicant: 三菱瓦斯化学株式会社
IPC: C07C43/12 , C07C41/09 , C07C43/23 , C07C59/72 , C07C69/54 , C07C69/712 , C08F20/28 , C08K5/04 , C08L33/14 , G03F7/004 , G03F7/039
CPC classification number: C07C69/54 , C07C43/12 , C07C43/23 , C07C59/72 , C07C69/712 , C07C2601/14 , C08F20/28 , C08F220/28 , C08K5/04 , G03F7/0392 , G03F7/0397 , C08F2220/282 , C08F2220/283 , C08F220/20
Abstract: 公开一种二环己烷衍生物及其生产方法，所述二环己烷衍生物可用于与光致抗蚀剂或医药和农药化合物的中间体有关的技术领域。具体公开一种由通式(II)表示的二环己烷衍生化合物(其中，各Y独立地表示C1-10烷基、卤素原子、酰氧基、烷氧羰基或羟基，X1表示卤素原子，m表示0-11的整数和m'表示0-10的整数)。
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公开(公告)号：CN1853141A
公开(公告)日：2006-10-25
申请号：CN200480026859.4
申请日：2004-08-30
Applicant: 三菱瓦斯化学株式会社
IPC: G03F7/039 , C07D309/12 , C07D311/82 , C07D311/96 , C07C43/23 , C07C69/96 , H01L21/027
Abstract: 右式(1)表示的化合物，其中R1、R2、R4、R5、m0至m2、和n0至n2如说明书中所定义。还提供含有式(1)化合物作为固体组分的主要组分的辐射敏感组合物。该组合物敏感度、分辨率、耐热性、抗蚀性、和在溶剂中的溶解性极好。
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公开(公告)号：CN1468883A
公开(公告)日：2004-01-21
申请号：CN03149428.5
申请日：2003-06-18
Applicant: 三菱瓦斯化学株式会社
IPC: C08G59/50
CPC classification number: C08G59/5026 , C07C209/60 , C07C211/18 , C07C211/27 , C07C2601/14 , C08G59/5033
Abstract: 本发明的目的是提供作为环氧树脂固化剂使用时，环氧树脂组合物的反应性不下降，赋予长的贮存期和良好的涂膜外观的氨基组合物。该氨基组合物为间苯二甲胺、1，3－二(氨甲基)环己烷等二胺和苯乙烯的加成反应制得的氨基组合物，氨基组合物中的该二胺的含量低于15重量％，并且相对于具有1个苯乙烯基的1加成物的由加成反应制得的氨基化合物全量的比例为50～100重量％。
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公开(公告)号：CN119422108A
公开(公告)日：2025-02-11
申请号：CN202380052382.X
申请日：2023-07-03
Applicant: 三菱瓦斯化学株式会社
Abstract: 利用本发明，能够提供一种抗蚀剂组合物，其含有树脂（A）和包含下述通式（b－1）所示的化合物（B1）的溶剂（B），上述抗蚀剂组合物的总量基准计的有效成分的含量为45质量％以下。〔下述式（b－1）中，R0为碳原子数1～10的烷基、碳原子数6～10的芳基或碳原子数1～10的酰基，R1为氢原子或碳原子数1～10的烷基。〕#imgabs0#。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN118973989A
公开(公告)日：2024-11-15
申请号：CN202380032674.7
申请日：2023-04-10
Applicant: 三菱瓦斯化学株式会社
Abstract: 下述式(1)所示的化合物。(式中，RG为包含至少1个环状结构的基团，I为碘原子，R1为任选相同或不同的碳原子数0～30且不含聚合性不饱和键的一价官能团，n为1～5的整数，m为1～5的整数。)#imgabs0#
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公开(公告)号：CN115605517B
公开(公告)日：2024-09-06
申请号：CN202180035126.0
申请日：2021-05-12
Applicant: 三菱瓦斯化学株式会社
Abstract: 一种含碘的(甲基)丙烯酸酯化合物，其用式(1)表示。式(1)中，R1表示氢原子、甲基或卤素，R2各自独立地表示氢原子、碳数1～20的直链状的有机基团、碳数3～20的支链状的有机基团、或碳数3～20的环状的有机基团，A表示碳数1～30的有机基团，A包含至少1个酰基，n1表示0或1，n2表示1～20的整数。#imgabs0#
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公开(公告)号：CN117716297A
公开(公告)日：2024-03-15
申请号：CN202280052673.4
申请日：2022-07-25
Applicant: 三菱瓦斯化学株式会社
IPC: G03F7/42
Abstract: 根据本发明，能够提供一种稀释剂组合物，其含有包含下述通式(b‑1)所示的化合物(B1)的溶剂(B)。另外，根据本发明，还能够提供一种半导体器件的制造方法，其包括在基板上涂布光致抗蚀剂膜材料或光致抗蚀剂下层膜材料之前，在上述基板上涂布上述稀释剂组合物的工序。#imgabs0#[上述式(b‑1)中，R1为碳原子数1～10的烷基]。
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公开(公告)号：CN111655662B
公开(公告)日：2023-09-26
申请号：CN201980010153.5
申请日：2019-01-31
Applicant: 三菱瓦斯化学株式会社
IPC: C07C43/295 , C07C321/30 , C08G4/00 , G03F7/11 , G03F7/20 , G03F7/40 , H01L21/027
Abstract: 一种下述式(1)所示的化合物。(式(1)中，A为包含杂原子的基团，R1为任选具有取代基的碳数1～30的2n价的基团，R2～R5各自独立地为任选具有取代基的碳数1～30的直链状、支链状或环状的烷基、任选具有取代基的碳数6～30的芳基、任选具有取代基的碳数2～30的烯基、任选具有取代基的碳数2～30的炔基、任选具有取代基的碳数1～30的烷氧基、卤素原子、硝基、氨基、羧酸基、交联性基团、解离性基团、巯基或羟基，前述烷基、前述芳基、前述烯基、前述烷氧基任选包含醚键、酮键或酯键，R4中的至少1个和/或R5中的至少1个为羟基和/或巯基，m2和m3各自独立地为0～8的整数，m4和m5各自独立地为0～9的整数，n为1～4的整数，p2～p5各自独立地为0～2的整数。)#imgabs0#
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120.发明公开公开(公告)号：CN116194502A
公开(公告)日：2023-05-30
申请号：CN202180061314.0
申请日：2021-07-15
Applicant: 三菱瓦斯化学株式会社
IPC: C08G8/20
Abstract: 一种聚合物，其具有源自选自由式(1A)及(1B)所示的芳香族羟基化合物组成的组中的至少1种单体的重复单元，前述重复单元彼此通过芳香环彼此的直接键合来连接。(式(1A)及(1B)中，R各自独立地为任选具有取代基的碳数1～40的烷基、任选具有取代基的碳数6～40的芳基、任选具有取代基的碳数2～40的烯基、碳数2～40的炔基、任选具有取代基的碳数1～40的烷氧基、卤素原子、硫醇基、氨基、硝基、氰基、硝基、杂环基、羧基或羟基，至少1个R为包含羟基的基团，m各自独立地为1～10的整数。)
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