在通过式处理设备中处理平坦物体的方法与装置

    公开(公告)号:CN1638603B

    公开(公告)日:2010-08-18

    申请号:CN200410086676.3

    申请日:2004-12-10

    IPC分类号: H05K3/00 C25D5/08 C23F1/08

    摘要: 本发明涉及用于利用借助输送辊的水平输送在通过式处理设备中对电路板和电路膜的输送和处理。根据现有技术,如果在相同的设备中要在不进行改装的情况下生产电路板,对于薄电路膜不再存在所需的输送可靠性。根据本发明,通过沿输送方向(3)镜像对称地指向物体(1)的电解液流(8)来实现要求的输送可靠性。当电路板具有盲孔时,为了提高孔中的物质交换,附加的电解液流(11)镜像对称地接近垂直地流向物体(1)。为了形成另外的流过通孔的通过流,根据伯努利定理在物体的两侧产生电解液静压差。特别是对于通过式处理的电解设备。对于电解液流(8、11)的喷洒管选择一种“管中管”结构,以在保持设备总长度不变时,实现较大的有效设备长度。

    喷嘴装置
    15.
    发明公开

    公开(公告)号:CN1711140A

    公开(公告)日:2005-12-21

    申请号:CN200380102840.9

    申请日:2003-11-28

    IPC分类号: B05B1/20

    摘要: 本发明公开一种喷嘴装置,其尤其用于作为针对印刷电路板水平通过之电镀系统的流喷嘴。所述喷嘴装置包括一个纵向的壳体(2),该壳体(2)具有至少一个用于馈入处理液来处理工件(如印刷电路板)的流体馈入开口,以及优选地多个用于释放处理液的狭缝式流体输出开口(8)。在壳体(2)中形成有一个流体通道(5),用于将处理液从流体馈入开口馈送到流体输出开口(8)。为了在流体输出开口(8)处获得尽可能均衡的处理液流速,(a)用于处理液的流体通道(5)的通过流量沿壳体(2)的纵向从流体馈入开口连续减小,并且/或者(b)在流体从流体输出开口(8)输出之前设置有一个存储腔。

    在通过式处理设备中处理平坦物体的方法与装置

    公开(公告)号:CN1638603A

    公开(公告)日:2005-07-13

    申请号:CN200410086676.3

    申请日:2004-12-10

    IPC分类号: H05K3/00 C25D5/08 C23F1/08

    摘要: 本发明涉及用于利用借助输送辊的水平输送在通过式处理设备中对电路板和电路膜的输送和处理。根据现有技术,如果在相同的设备中要在不进行改装的情况下生产电路板,对于薄电路膜不再存在所需的输送可靠性。根据本发明,通过沿输送方向(3)镜像对称地指向物体(1)的电解液流(8)来实现要求的输送可靠性。当电路板具有盲孔时,为了提高孔中的物质交换,附加的电解液流(11)镜像对称地接近垂直地流向物体(1)。为了形成另外的流过通孔的通过流,根据伯努利定理在物体的两侧产生电解液静压差。特别是对于通过式处理的电解设备。对于电解液流(8、11)的喷洒管选择一种“管中管”结构,以在保持设备总长度不变时,实现较大的有效设备长度。

    连续镀敷装置
    19.
    发明授权

    公开(公告)号:CN105143522B

    公开(公告)日:2017-12-05

    申请号:CN201480016290.7

    申请日:2014-01-16

    IPC分类号: C25D17/00 C25D17/12

    摘要: 本发明涉及一种连续镀敷装置及连续镀敷方法,所述连续镀敷装置包含:阴极辊,其以至少外表面具有导电性且所述外表面与被镀敷材相接的方式具备;第一电源,其与所述阴极辊的所述外表面电连接而对所述外表面施加阴极电;喷射单元,其以与所述阴极辊相隔的方式定位,向所述被镀敷材的方向喷射包含阳极离子的镀敷液;及第一储存槽,其连接到所述喷射单元,向所述喷射单元提供所述镀敷液。根据本发明,不仅可使镀敷面积变宽,而且可减少镀敷时间而将效率极大化。