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公开(公告)号：CN102549494A
公开(公告)日：2012-07-04
申请号：CN201080038300.9
申请日：2010-08-17
Applicant: 富士胶片株式会社
IPC: G03F7/004 , C08F20/10 , G03F7/039 , H01L21/027
CPC classification number: C08F20/10 , G03F7/0045 , G03F7/0046 , G03F7/0397 , G03F7/2041
Abstract: 本发明提供一种光化射线敏感或辐射敏感树脂组合物，所述光化射线敏感或辐射敏感树脂组合物包含：(PA)化合物，所述化合物具有质子受体官能团并且当用光化射线或辐射照射时进行分解以产生减小或失去质子受体性的化合物或由质子受体官能性变为酸性，其中化合物(PA)在193nm的波长在乙腈溶剂中测得的摩尔消光系数ε为55,000以下，并且提供使用所述组合物的图案形成方法。
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公开(公告)号：CN118020024A
公开(公告)日：2024-05-10
申请号：CN202280064908.1
申请日：2022-09-16
Applicant: 富士胶片株式会社
Abstract: 本发明的课题在于提供一种感光化射线性或感放射线性树脂组合物，其在将所形成的抗蚀剂图案用作掩膜而进行蚀刻处理的情况下，所形成的图案不易产生缺陷，并且保存稳定性优异。另外，本发明的课题也在于提供一种抗蚀剂图案的制造方法。本发明的感光化射线性或感放射线性树脂组合物含有通过酸的作用而极性增大的树脂、光酸产生剂、选自由式(1)表示的化合物及由式(2)表示的化合物所组成的组中的至少一种的化合物Y、以及金属原子，上述化合物Y的含量相对于上述金属原子的含量的质量比为1.0×10～1.0×109。#imgabs0#
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公开(公告)号：CN117916671A
公开(公告)日：2024-04-19
申请号：CN202280060759.1
申请日：2022-09-13
Applicant: 富士胶片株式会社
IPC: G03F7/32 , G03F7/038 , H01L21/027
Abstract: 本发明的课题在于提供一种处理液的检定方法，其判定在用作显影液或冲洗液时，是否为能够形成抑制了线宽的不均的抗蚀剂图案的处理液。本发明的课题还在于提供一种处理液的制造方法。本发明的处理液的检定方法是一种含脂肪族烃系溶剂的处理液的检定方法，其具有：工序A1：获取处理液中的选自由具有碳数为1～3的烃基的羧酸及甲酸所组成的组中的至少一种酸成分的含量的测量数据；以及工序A2：判定工序A1中得到的测量数据是否包含于预先设定的许可范围。
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公开(公告)号：CN111512229A
公开(公告)日：2020-08-07
申请号：CN201880082630.4
申请日：2018-10-30
Applicant: 富士胶片株式会社
Abstract: 本发明提供一种可获得灵敏度优异的抗蚀剂膜且可获得LER性能优异的图案，并且能够抑制图案形成时的图案崩塌的感光化射线性或感放射线性树脂组合物。并且，提供一种使用了上述感光化射线性或感放射线性树脂组合物的抗蚀剂膜、图案形成方法、带抗蚀剂膜的空白掩模、光罩的制造方法以及电子元件的制造方法。本发明的感光化射线性或感放射线性树脂组合物包含：树脂X，其具有以通式(I)表示的重复单元A、具有酸分解性基的重复单元B以及选自由以通式(II)表示的重复单元c1等的重复单元C；化合物Y，其为通过光化射线或放射线的照射而碱性降低的碱性化合物或铵盐化合物；及光产酸剂Z，其为化合物Y以外的化合物。
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公开(公告)号：CN110537148A
公开(公告)日：2019-12-03
申请号：CN201880026076.8
申请日：2018-04-12
Applicant: 富士胶片株式会社
Abstract: 本发明提供一种Z-因子良好且能够形成图案崩塌得到抑制的图案的EUV光用感光性组合物、图案形成方法及电子器件的制造方法。EUV光用感光性组合物含有规定的树脂及光产酸剂，或者含有具有含光产酸基团的重复单元的规定的树脂，且满足要件1和要件2。要件1：由式(1)求出的A值为0.14以上。式(1)：A＝([H]×0.04+[C]×1.0+[N]×2.1+[O]×3.6+[F]×5.6+[S]×1.5+[I]×39.5)/([H]×1+[C]×12+[N]×14+[O]×16+[F]×19+[S]×32+[I]×127)。要件2：EUV光用感光性组合物中的固体成分浓度为2.5质量％以下。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN109643064A
公开(公告)日：2019-04-16
申请号：CN201780052378.8
申请日：2017-07-14
Applicant: 富士胶片株式会社
Abstract: 本发明提供即使将曝光的扫描速度设为超高速，也能够具有液浸液的高追随性并能够减少残渣和显影缺陷的感光化射线性或感放射线性树脂组合物等。感光化射线性或感放射线性树脂组合物含有具有以通式(1)所表示的重复单元的树脂(C)。图案形成方法包含通过感光化射线性或感放射线性树脂组合物形成膜的工序，电子器件的制造方法包含图案形成方法。通式(1)中，Z表示卤素原子、以R11OCH2－所表示的基团或以R12OC(＝O)CH2－所表示的基团。R11及R12表示一价取代基。X表示氧原子或硫原子。L表示(n+1)价的连结基团。R表示如下基团，该基团具有通过碱显影液的作用而分解并在碱显影液中的溶解度增大的基团。n表示正整数。
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公开(公告)号：CN108292097A
公开(公告)日：2018-07-17
申请号：CN201680070315.0
申请日：2016-12-01
Applicant: 富士胶片株式会社
IPC: G03F7/11
CPC classification number: G03F7/11 , G03F7/091 , G03F7/2041
Abstract: 根据本发明的一实施方式提供一种图案形成方法，所述图案形成方法包括：使用活性光线敏感性或放射线敏感性树脂组合物在基板上形成活性光线敏感性或放射线敏感性膜的工序；使用上层膜形成用组合物在上述活性光线敏感性或放射线敏感性膜上形成上层膜的工序；对包含上述活性光线敏感性或放射线敏感性膜和上述上层膜的层叠膜进行曝光的工序；及对经曝光的上述层叠膜使用包含有机溶剂的显影液进行显影的工序。上述上层膜形成用组合物包含树脂(XA)、含有氟原子的树脂(XB)、碱性化合物(XC)以及溶剂(XD)，且树脂(XA)为不含有氟原子的树脂，或在含有氟原子的情况下，该树脂(XA)为基于质量基准的氟原子的含有率低于树脂(XB)中的氟原子的含有率的树脂。
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公开(公告)号：CN107250914A
公开(公告)日：2017-10-13
申请号：CN201680011620.2
申请日：2016-02-18
Applicant: 富士胶片株式会社
IPC: G03F7/11 , C08F20/38 , G03F7/32 , H01L21/027
CPC classification number: G03F7/11 , C08F20/38 , C09D133/10 , C09D133/14 , G03F7/0397 , G03F7/168 , G03F7/20 , G03F7/2041 , G03F7/32 , H01L21/027
Abstract: 本发明提供一种上层膜形成用组合物以及使用了该上层膜形成用组合物的图案形成方法和电子器件的制造方法，本发明的含有聚合物的光致抗蚀剂用上层膜形成用组合物中，能够通过光致抗蚀剂用上层膜形成用组合物，以较高的焦点深度性能形成具有超微细的宽度或孔直径，例如60nm以下的沟槽图案或孔图案，所述光致抗蚀剂用上层膜形成用组合物在聚合物的通过凝胶渗透色谱法测定的分子量分布中，重均分子量为4万以上的高分子量成分的峰面积相对于整体峰面积为0.1％以下。
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公开(公告)号：CN106796401A
公开(公告)日：2017-05-31
申请号：CN201580052504.0
申请日：2015-09-28
Applicant: 富士胶片株式会社
CPC classification number: G03F7/11 , C08F220/18 , C08F220/28 , C08F2220/283 , C09D133/08 , C09D133/14 , G03F7/0045 , G03F7/0397 , G03F7/091 , G03F7/162 , G03F7/168 , G03F7/2004 , G03F7/2041 , G03F7/325 , G03F7/38 , G03F7/40 , H01L21/027
Abstract: 本发明提供一种DOF、EL及水渍缺陷性能良好的图案形成方法、利用所述图案形成方法而形成的抗蚀剂图案、所述图案形成方法中使用的上层膜形成用组合物、以及包含所述图案形成方法的电子元件的制造方法。所述图案形成方法包括：步骤a，将感光化射线性或感放射线性树脂组合物涂布于基板上而形成抗蚀剂膜；步骤b，通过在所述抗蚀剂膜上涂布上层膜形成用组合物，而在所述抗蚀剂膜上形成上层膜；步骤c，对形成有所述上层膜的所述抗蚀剂膜进行曝光；以及步骤d，使用包含有机溶剂的显影液，对经所述曝光的所述抗蚀剂膜进行显影而形成图案；并且所述上层膜的表面的水的后退接触角为80°以上。
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公开(公告)号：CN103649833B
公开(公告)日：2017-05-03
申请号：CN201280032605.8
申请日：2012-06-28
Applicant: 富士胶片株式会社
IPC: G03F7/095 , G03F7/038 , G03F7/039 , G03F7/32 , H01L21/027
CPC classification number: G03F7/325 , G03F7/0392 , G03F7/0397 , G03F7/095
Abstract: 所提供的是一种图案形成方法，所述方法包括：(i)通过使用第一树脂组合物(I)在基板上形成第一膜的步骤；(ii)通过使用与所述树脂组合物(I)不同的第二树脂组合物(II)在所述第一膜上形成第二膜的步骤；(iii)将具有所述第一膜和所述第二膜的多层膜曝光的步骤；和(iv)通过使用含有有机溶剂的显影液将经曝光的多层膜中的所述第一膜和所述第二膜显影以形成负型图案的步骤。
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