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公开(公告)号：CN1977360A
公开(公告)日：2007-06-06
申请号：CN200580021755.9
申请日：2005-06-24
申请人： 佳能株式会社
IPC分类号： H01L21/027 , G03F1/14 , G03F7/20
CPC分类号： G03F7/7035 , B82Y10/00 , G03F1/50 , G03F1/60 , G03F7/2014 , G03F7/70325 , G03F7/70433 , G03F7/70691 , G03F9/703 , G03F9/7053 , G03F9/7088
摘要： 本发明公开了一种曝光设备、曝光方法和曝光掩模，用于改进的光学光刻。具体来讲，根据本发明的一个优选方式，该曝光设备被设置成与具有可弹性变形的保持部件和提供在该保持部件上并形成有开口图案的光阻挡膜的曝光掩模一起使用，其中，为了曝光，使曝光掩模弯曲以便与要曝光的物体接触。该曝光设备包括距离检测系统，用于检测弯曲之前的曝光掩模和要曝光的物体之间的距离，和距离控制系统，用于根据来自所述距离检测系统的信号来控制弯曲之前的曝光掩模和要曝光的物体之间的距离。
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公开(公告)号：CN107121894A
公开(公告)日：2017-09-01
申请号：CN201710447079.6
申请日：2017-06-14
申请人： 福建中科晶创光电科技有限公司
CPC分类号： G03F7/70325 , G02B5/1857 , G03F7/70025
摘要： 本发明涉及光束干涉角调整装置及干涉角的调整方法，该装置包括激光器、分束镜、第一反射镜、第二反射镜、第一透光板、第二透光板和角度规；激光器发出紫外光，分束镜将激光器发出的紫外光分为第一光束和第二光束；第一反射镜反射第一光束穿过第一透光板，第二反射镜反射第二光束穿过第二透光板，第一光束和第二光束最终汇聚于一点；第一反射镜、第二反射镜、第一透光板和第二透光板的位置可调；角度规包括角度规反射镜、精密电动转台和调整架，角度规反射镜反射第一光束至第一透光板上，角度规反射镜反射第二光束至第二透光板上，精密电动转台调整角度规反射镜在水平面上的角度，调整架调整精密电动转台和角度规反射镜二者整体的空间位置。
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公开(公告)号：CN104903793A
公开(公告)日：2015-09-09
申请号：CN201380068718.8
申请日：2013-10-15
申请人： 西北大学
发明人： 查德·A·米尔金 , 廖兴 , 基思·A·布朗 , 刘国良 , 阿布林·L·施穆克尔 , 何舒 , 沈伍扬 , 丹尼尔·J·艾歇尔斯德费尔 , 波利斯·拉西
CPC分类号： G03F7/7035 , B05D1/26 , B05D3/06 , B82Y40/00 , G02B13/143 , G03F7/0002 , G03F7/20 , G03F7/2049 , G03F7/70141 , G03F7/70325 , G03F7/70383 , G03F7/7045
摘要： 根据本公开的实施例，一种图案化方法可以包括将图像分为帧部分组；通过所述帧部分组中的每个帧部分中的尖端阵列中的每个尖端，来确定要被图案化的图像的相应部分的尖端图案；将所述尖端阵列设置在基板的第一区位中的图案化位置，所述第一区位与基板的其中所述帧部分组中的第一帧部分要被图案化的区位对应；将辐射的第一图案投射到所述尖端阵列上以选择性地照射所述尖端阵列的一个或多个尖端并图案化所述基板，其中辐射的第一图案与所述第一帧部分的尖端图案对应；将尖端阵列设置在基板的第二区位中的图案化位置，所述第二区位与基板的其中帧部分组中的第二帧部分要被图案化的区位对应；将辐射的第二图案投射到所述尖端阵列上，以选择性地照射所述尖端阵列的尖端并图案化所述基板，其中辐射的第二图案与所述第二帧部分的尖端图案对应；以及针对所述帧部分组中的每个帧部分重复所述放置和投射以图案化所述图像。
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公开(公告)号：CN104395832A
公开(公告)日：2015-03-04
申请号：CN201380034909.2
申请日：2013-03-29
申请人： 株式会社V技术
IPC分类号： G03F7/20 , G02F1/1337
CPC分类号： G02F1/133788 , G02F1/1303 , G02F1/133753 , G02F2001/133757 , G03F7/201 , G03F7/70275 , G03F7/70283 , G03F7/70308 , G03F7/70325 , G03F7/70358
摘要： 本发明提供一种光取向曝光装置及光取向曝光方法。将取向曝光方式适用于多域法时，消除单位图像区域的分割区域中的边界附近的取向混乱。一种光取向曝光装置(100)，其将液晶显示元件的各单位图像区域分割为多个分割区域，并分别向不同方向对各分割区域的取向材料膜进行光取向，所述光取向曝光装置具备：第1掩模(M1)及第1曝光装置(11)，用于单独接近式曝光第1分割区域(Da1)；第2掩模(M2)及第2曝光装置(12)，用于单独接近式曝光与第1分割区域(Da1)相邻的第2分割区域(Da2)；及第3掩模(M3)及第3曝光装置(13)，用于曝光第1分割区域(Da1)与第2分割区域(Da2)的边界附近的第1分割区域(Da1)侧的区域，第3曝光装置(13)相对于被曝光面Bs具备与第1曝光装置(11)或第2曝光装置(12)相同的光照射角度，在第3掩模(M3)的掩模开口与被曝光面(Bs)之间具备聚光机构(20)，其使掩模透射光聚光于边界附近的第1分割区域(Da1)侧的区域。
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公开(公告)号：CN103969962A
公开(公告)日：2014-08-06
申请号：CN201310158694.7
申请日：2013-05-02
申请人： 台湾积体电路制造股份有限公司
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70325 , G03F1/24 , G03F7/70033 , G03F7/70091 , G03F7/70125 , G03F7/70191 , G03F7/702 , G03F7/70308 , G03F7/70316 , G03F7/70408 , G21K1/062
摘要： 本发明公开了一种远紫外线光刻处理方法。该处理方法包括：接收远紫外光(EUV)掩膜、EUV放射源和照明器。该处理方法也包括：通过放射光以小于3度的物体侧的主光线入射角(CRAO)曝光EUV，其中，辐射光来自EUV放射源且被照明器定向。该处理方法进一步包括去除大部分的非衍射光以及通过投影光学箱(POB)收集和定向衍射光和没有被去除的非衍射光，从而曝光目标。
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公开(公告)号：CN101086624B
公开(公告)日：2013-08-21
申请号：CN200610127750.0
申请日：2006-09-01
申请人： 旺宏电子股份有限公司
CPC分类号： G03F7/70325 , B82Y10/00 , G03F7/2014
摘要： 本发明是有关于一种微影系统及其制程，该微影制程，其包括：接收具有感光层的基底；提供能够使所述感光层的一部分曝光的光源；和提供能够定义要转移到感光层的至少一个图案的光罩。具体地说，基底在感光层上或上方具有上表面，且光罩在其第一表面处接收来自光源的电磁波，并从其第二表面产生多个电磁成分。微影制程还可包括：提供透镜，其在透镜的下表面处提供平整表面，用于将图案转移到感光层；和调节透镜的平整表面与基底的上表面之间的距离，以控制投射到感光层上的电磁成分的数目和量。
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公开(公告)号：CN101436003B
公开(公告)日：2011-08-17
申请号：CN200810184648.3
申请日：2004-06-18
申请人： 株式会社尼康
发明人： 蛯原明光
IPC分类号： G03F7/20 , H01L21/027
CPC分类号： G03F7/70333 , B82Y10/00 , G03F7/70225 , G03F7/70325 , G03F7/70341 , G03F7/70716 , G03F7/70725 , G03F7/70733 , G03F7/70758 , G03F7/70816 , Y10T29/49826
摘要： 本发明涉及曝光装置及器件制造方法。液压静力衬垫(32)和液压静力衬垫(34)保持晶片(W)和其上安置该晶片的台(TB)。液压静力衬垫(32)将轴承表面和晶片(W)之间在投影光学系统(PL)的光轴方向上的距离维持在预定值。另外，因为液压静力衬垫与静压气体轴承不同，液压静力衬垫利用在轴承表面和支撑物体(衬底)之间的不可压缩的流体(液体)的静压，所以轴承的刚度很高而且在轴承表面和衬底之间的距离维持稳定和恒定。此外，液体(如纯水)的粘滞度比气体(如空气)高，在振荡阻尼方面也比气体好。因此，在不一定必须布置焦点位置探测系统的情况下，可以实现转印到晶片(衬底)上的图案基本上没有散焦。
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公开(公告)号：CN101243360B
公开(公告)日：2011-04-13
申请号：CN200680029692.6
申请日：2006-05-26
申请人： 卡尔蔡司SMT有限责任公司
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G02B17/0892 , B82Y10/00 , G02B17/0804 , G02B17/0812 , G03F7/70225 , G03F7/70325 , G03F7/70341 , G03F7/70958
摘要： 一种适合于微光刻投影曝光机的投影物镜，其用于将该投影物镜的物平面(OP)中提供的图案成像到该投影物镜的像平面(IP)上，其具有多个光学元件，其对于该投影物镜的工作波长处的辐射是透明的。至少一个光学元件(LOE1，LOE2)是由在工作波长处折射率n≥1.6的高折射率材料制成的高折射率光学元件。
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公开(公告)号：CN101436003A
公开(公告)日：2009-05-20
申请号：CN200810184648.3
申请日：2004-06-18
申请人： 株式会社尼康
发明人： 蛯原明光
IPC分类号： G03F7/20 , H01L21/027
CPC分类号： G03F7/70333 , B82Y10/00 , G03F7/70225 , G03F7/70325 , G03F7/70341 , G03F7/70716 , G03F7/70725 , G03F7/70733 , G03F7/70758 , G03F7/70816 , Y10T29/49826
摘要： 本发明涉及曝光装置及器件制造方法。液压静力衬垫(32)和液压静力衬垫(34)保持晶片(W)和其上安置该晶片的台(TB)。液压静力衬垫(32)将轴承表面和晶片(W)之间在投影光学系统(PL)的光轴方向上的距离维持在预定值。另外，因为液压静力衬垫与静压气体轴承不同，液压静力衬垫利用在轴承表面和支撑物体(衬底)之间的不可压缩的流体(液体)的静压，所以轴承的刚度很高而且在轴承表面和衬底之间的距离维持稳定和恒定。此外，液体(如纯水)的粘滞度比气体(如空气)高，在振荡阻尼方面也比气体好。因此，在不一定必须布置焦点位置探测系统的情况下，可以实现转印到晶片(衬底)上的图案基本上没有散焦。
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