公开(公告)号：CN107484346A

公开(公告)日：2017-12-15

申请号：CN201710422592.X

申请日：2017-06-07

申请人： 日东电工株式会社

发明人： 杉本悠 ,  田边浩之 ,  藤村仁人

IPC分类号： H05K3/10 ,  H05K1/02

CPC分类号： G03F7/2022 ,  G03F1/38 ,  G03F7/039 ,  G03F7/2002 ,  G03F7/26 ,  G03F7/38 ,  H05K1/056 ,  H05K3/064 ,  H05K3/108 ,  H05K3/188 ,  H05K3/44 ,  H05K3/4682 ,  H05K2201/09272 ,  H05K2203/0557 ,  H05K1/0278 ,  H05K2201/0191

摘要： 本发明提供布线电路基板的制造方法，该布线电路基板包括绝缘层和相互隔有间隔且相邻的第1布线及第2布线。包括：工序1，设置具有斜面的绝缘层；工序2，在绝缘层的表面设置金属薄膜；工序3，在金属薄膜的表面设置光致抗蚀剂层；工序4，将光掩模配置为，光致抗蚀剂层中的与第1布线相对应的第1曝光部分和与第2布线相对应的第2曝光部分能够被曝光，隔着光掩模对光致抗蚀剂层进行曝光；工序5，使金属薄膜的与第1曝光部分及第2曝光部分相对应的部分暴露出来；工序6，在金属薄膜的表面设置第1布线及第2布线。斜面具有俯视大致圆弧状。光致抗蚀剂层的第2曝光部分具有与斜面相对的相对部分。以满足条件A～C的方式配置光掩模。

公开(公告)号：CN105407837B

公开(公告)日：2017-09-26

申请号：CN201480041251.2

申请日：2014-09-12

申请人： 加州理工学院

发明人： 戴聿昌 ,  张瀚杰

IPC分类号： A61F2/14 ,  A61N1/05 ,  H01B7/08

CPC分类号： H05K1/189 ,  A61N1/0543 ,  A61N1/36046 ,  H05K3/064 ,  H05K2201/0154 ,  H05K2201/052 ,  H05K2201/1003 ,  H05K2201/10151

摘要： 描述了一种生物相容性、微制造的带状电缆，其中，至少一组导体横向发散到旁路翼部中，该旁路翼部形成穿过带状电缆的孔口。该旁路翼部沿穿过该孔口的线折叠并折叠在带状电缆的中心部上面，导致带状电缆具有窄的叠层区域。该窄区域可穿过膜中的小切口，诸如穿过眼球的巩膜中的切口装配。带状电缆可以具有用于附接至眼球的视网膜的一体化形成的电极阵列和用于向电极阵列发送信号的其他电子设备。

公开(公告)号：CN104022017B

公开(公告)日：2017-05-10

申请号：CN201410256945.X

申请日：2014-06-10

申请人： 京东方科技集团股份有限公司

发明人： 舒适 ,  吕志军 ,  谷敬霞 ,  石岳 ,  张方振 ,  孙冰 ,  徐传祥

IPC分类号： H01L21/02 ,  H01L21/027

CPC分类号： H01L21/76892 ,  H01L21/3081 ,  H01L21/32055 ,  H01L23/49877 ,  H01L2924/0002 ,  H05K3/064 ,  H05K2201/0108 ,  H05K2201/0323 ,  H05K2201/10128 ,  H01L2924/00

摘要： 本发明的实施例提供了一种石墨烯图案化的方法及显示基板的制作方法，涉及电子技术领域，可以避免现有技术中光刻胶材料剥离时导致石墨烯薄膜脱落或者光刻胶在石墨烯膜层上残留的不良的情况，能够在保证生产成本的情况下提高产品良率。该方法包括：在石墨烯层上形成隔离层；在所述隔离层上形成光刻胶层；对所述光刻胶层进行图案化处理；按照图案化的光刻胶层对所述隔离层进行刻蚀形成图案化的隔离层；按照所述图案化的光刻胶层对所述石墨烯层进行刻蚀形成图案化的石墨烯层；将所述图案化的隔离层去除。本发明应用于电子设备中石墨烯图案化的方法。

公开(公告)号：CN104395833B

公开(公告)日：2016-07-06

申请号：CN201480001256.2

申请日：2014-05-12

申请人： 倍科有限公司

发明人： 河东和彦 ,  羽生慎一

IPC分类号： G03F7/20 ,  H01L21/027 ,  H05K3/00

CPC分类号： G03F7/70925 ,  H05K3/064 ,  H05K2203/0514

摘要： 本发明提供一种曝光装置，其具备：基板保持载物台(110)，可保持基板(W)并往复移动及升降；曝光载物台(320)，保持掩模板(310)，使图案面(M2)与基板(W)的感光面(M1)相面对；掩模除尘部(120)，与基板保持载物台(110)一起前进，通过推压掩模板(310)的图案面(M2)的方向的力(第1方向的力)而与图案面(M2)的表面接触，一边旋转一边除尘；及基板除尘部(210)，通过基板保持载物台(110)前进，而利用推压基板(W)的感光面(M1)的方向的力(第2方向的力)与基板(W)的感光面(M1)接触，一边旋转一边除尘。根据本发明的曝光装置，能够简化用于对基板的感光面及掩模的表面进行除尘的机构整体，并且能够使大量的基板高速曝光。

公开(公告)号：CN105474098A

公开(公告)日：2016-04-06

申请号：CN201480045740.5

申请日：2014-09-29

申请人： 日立化成株式会社

发明人： 岩下健一 ,  加藤哲也 ,  海老原雅彦 ,  村上泰治

IPC分类号： G03F7/038 ,  G03F7/004 ,  G03F7/027 ,  H05K3/28

CPC分类号： G03F7/038 ,  G03F7/0047 ,  G03F7/0382 ,  G03F7/38 ,  G03F7/40 ,  H05K3/064 ,  H05K3/1258 ,  H05K3/287 ,  H05K2201/0209

摘要： 一种感光性树脂组合物，其含有：(A)成分，具有酚羟基的树脂；(B)成分，具有2个以上选自丙烯酰氧基、甲基丙烯酰氧基、缩水甘油氧基和羟基中的1种以上官能团的脂肪族化合物；(C)成分，光敏性酸产生剂；以及(D)成分，平均粒径小于或等于100nm的无机填料。

公开(公告)号：CN102782578B

公开(公告)日：2016-01-20

申请号：CN201080064710.0

申请日：2010-12-27

申请人： 株式会社微处理 ,  台湾永光化学工业股份有限公司

发明人： 上田昭史 ,  中河原秀孝 ,  渡边和夫 ,  渡边茂辉 ,  篮伟仁 ,  林昭文

IPC分类号： G03F7/023 ,  G03F7/004 ,  G03F7/022 ,  H05K3/06 ,  H05K3/18

CPC分类号： G03F7/0233 ,  G03F7/0226 ,  G03F7/30 ,  H05K1/0393 ,  H05K3/064

摘要： 本发明涉及一种感光性树脂组合物、感光性干膜以及使用该感光性树脂组合物的图案形成方法，所述感光性树脂组合物包含：具有来源于含有酚性羟基和羧基的乙烯基系单体(b)的构成单元的乙烯基系共聚物(I)、醌二叠氮化合物(II)和式(5)所示的化合物(III)。根据本发明，可以提供可以形成不易发生破裂，未曝光部的膜减少小，灵敏度、分辨率良好的抗蚀剂膜的感光性树脂组合物，感光性干膜以及使用该感光性树脂组合物的图案形成方法。［式中，Y为碳原子数1～6的直链或支链的烃基；l和m分别为1～3的整数；n为1或2；p和q分别为0或1。］。

公开(公告)号：CN105163503A

公开(公告)日：2015-12-16

申请号：CN201510541875.7

申请日：2015-08-31

申请人： 昆山龙朋精密电子有限公司

发明人： 许春雷 ,  曹明峰

IPC分类号： H05K3/06

CPC分类号： H05K3/064 ,  H05K2203/107

摘要： 本发明公开一种利用激光开窗制作FPC镂空板的方法，包括以下步骤：a)纯铜板裁切；b)第一次化学处理：对纯铜板进行表面化学处理；c)压合干膜：将干膜压在纯铜板的正面；d)复合反面覆盖膜：将反面覆盖膜的正面与纯铜板的反面复合；e)紫外线曝光；f)显影；g)蚀刻；h)去膜；i)第二次化学处理：对线路部分进行表面化学处理；j)复合正面覆盖膜：将正面覆盖膜的反面与线路部分的正面复合；k)激光开窗：利用激光对反面覆盖膜进行开窗处理，形成镂空板。本发明先进行显影、蚀刻和去膜步骤，再对反面覆盖膜进行开窗处理，能够防止在蚀刻时蚀刻液进入镂空板内部，避免造成蚀刻不良，从而提高产品的稳定性和品质，节省原料。

公开(公告)号：CN102264537B

公开(公告)日：2014-07-16

申请号：CN200980152593.0

申请日：2009-12-08

申请人： 富士胶片株式会社

发明人： 佐藤真隆

IPC分类号： B32B15/08 ,  H05K3/38

CPC分类号： H05K3/387 ,  H05K3/064 ,  H05K3/067 ,  H05K2201/0191 ,  H05K2203/0709 ,  H05K2203/1361 ,  H05K2203/1366 ,  Y10T428/12451 ,  Y10T428/12472 ,  Y10T428/24917 ,  Y10T428/265 ,  Y10T428/31678

摘要： 一种表面金属膜材料，其中，依次具有基板、接受镀敷催化剂或其前体的聚合物层和通过镀敷形成的金属膜，当设所述基板与所述聚合物层的界面的表面粗糙度(Ra)为xμm、所述聚合物层与所述金属膜的界面的表面粗糙度(Ra)为yμm时，满足：x＞y、且5μm＞x＞0.1μm，且当设所述聚合物层的厚度为Tμm时，满足2x≤T的关系。

公开(公告)号：CN103282829A

公开(公告)日：2013-09-04

申请号：CN201180062574.6

申请日：2011-11-28

申请人： 旭化成电子材料株式会社

发明人： 国松真一 ,  筒井大和 ,  内藤一也

IPC分类号： G03F7/027 ,  C08F2/50 ,  C08F20/26 ,  C08F290/06 ,  H05K3/06

CPC分类号： C08F2/50 ,  C08F222/1006 ,  C08F290/062 ,  G03F7/027 ,  G03F7/031 ,  H05K3/064

摘要： 本发明涉及一种感光性树脂组合物，其是含有（A）碱溶性高分子、（B）光聚合引发剂和（C）具有烯属不饱和双键的化合物的感光性树脂组合物，该（B）光聚合引发剂是2,4,5-三芳基咪唑二聚体或吖啶化合物，而且（C）具有烯属不饱和双键的化合物包含下述通式（I）所示的化合物，式中，R1、R2、A、B、n1、n2和n3如说明书中所定义。所述感光性树脂组合物的显影液分散稳定性优异，可抑制聚集物的产生，具有适度的显影性、固化抗蚀层的柔软性和良好的耐蚀刻性。

公开(公告)号：CN101523517B

公开(公告)日：2013-07-10

申请号：CN200780036318.3

申请日：2007-09-13

申请人： 鹤见曹达株式会社 ,  东亚合成株式会社

发明人： 井原孝 ,  藤本孝弘

IPC分类号： H01B13/00 ,  C08J7/00 ,  H01L21/306

CPC分类号： H05K3/067 ,  H01L21/32134 ,  H01L51/0017 ,  H01L51/0023 ,  H01L51/0037 ,  H05K1/09 ,  H05K3/064 ,  H05K2201/0329

摘要： 本发明的目的是提供一种对于导电性高分子具有优越的蚀刻处理能力的导电性高分子用蚀刻液、及使用该导电性高分子用蚀刻液来将导电性高分子予以图案化的方法。本发明的导电性蚀刻液，其特征为其是选自由下列所组成的族群中的蚀刻液：(1)含有超过0.5重量％、70重量％以下的(NH4)2Ce(NO3)6、或0.5重量％以上、30重量％以下的Ce(SO4)2的蚀刻液；(2)含有超过0.5重量％、30重量％以下的(NH4)4Ce(SO4)4的蚀刻液；(3)作为有效氯浓度为0.06重量％以上，并且pH值超过3且低于8的次氯酸盐水溶液的蚀刻液；(4)包括含有5重量％以上的盐酸、含有20重量％以上的硝酸，(盐酸浓度+0.51×硝酸浓度)的值为35重量％以下、且(盐酸浓度+0.5×硝酸浓度)的值为30重量％以上的亚硝酰氯的蚀刻液；(5)含有3重量％以上、40重量％以下的溴酸化合物，且含有4重量％以上的无机酸的蚀刻液；(6)含有6重量％以上、40重量％以下的氯酸化合物，且含有7重量％以上的卤化氢的蚀刻液；(7)含有0.001重量％以上、20重量％以下的高锰酸化合物的蚀刻液；以及(8)含有3重量％以上、30重量％以下的六价铬化合物的蚀刻液。