半导体装置及其制造方法及制造装置

    公开(公告)号:CN102610566A

    公开(公告)日:2012-07-25

    申请号:CN201210017248.X

    申请日:2012-01-19

    CPC classification number: H01L21/78 H01L21/6836

    Abstract: 本发明提供半导体装置及其制造方法及制造装置。根据一实施例,公开了半导体装置的制造方法。该方法包含:(a)在形成有半导体元件的半导体晶片的元件形成面形成切断沟的步骤;(b)在上述半导体晶片的元件形成面贴附保护带的步骤;(c)研削上述半导体晶片的背面,使上述半导体晶片薄化,并将上述半导体晶片分割为形成有半导体元件的多个半导体芯片的步骤;(d)在上述半导体晶片的背面形成粘接剂层的步骤;(e)通过加热在上述半导体晶片的背面形成的上述粘接剂层使其熔融或软化并向上述粘接剂层吹出高压空气,将上述粘接剂层按每个上述半导体芯片分离切断的步骤;以及(f)剥离上述保护带的步骤。

    半导体装置的制造方法

    公开(公告)号:CN105990100A

    公开(公告)日:2016-10-05

    申请号:CN201510101170.3

    申请日:2015-03-06

    Inventor: 友野章

    Abstract: 本发明的实施方式提供一种一面抑制半导体衬底的破损一面将半导体衬底与支持衬底分离的半导体装置的制造方法。实施方式的半导体装置的制造方法是形成包括半导体衬底、第1接着剂层、第2接着剂层、及支持衬底的接着体者,且以第1接着剂层的周缘部露出的方式去除支持衬底的一部分与第2接着剂层的一部分,自支持衬底的与第2接着剂层的接着面的相反面沿厚度方向去除支持衬底的一部分,至少在支持衬底的一部分形成沿支持衬底的第1方向延伸的脆弱部,沿在支持衬底的平面上与第1方向交叉的第2方向剥离支持衬底。

    半导体装置及其制造方法及制造装置

    公开(公告)号:CN102610566B

    公开(公告)日:2015-03-25

    申请号:CN201210017248.X

    申请日:2012-01-19

    CPC classification number: H01L21/78 H01L21/6836

    Abstract: 本发明提供半导体装置及其制造方法及制造装置。根据一实施例,公开了半导体装置的制造方法。该方法包含:(a)在形成有半导体元件的半导体晶片的元件形成面形成切断沟的步骤;(b)在上述半导体晶片的元件形成面贴附保护带的步骤;(c)研削上述半导体晶片的背面,使上述半导体晶片薄化,并将上述半导体晶片分割为形成有半导体元件的多个半导体芯片的步骤;(d)在上述半导体晶片的背面形成粘接剂层的步骤;(e)通过加热在上述半导体晶片的背面形成的上述粘接剂层使其熔融或软化并向上述粘接剂层吹出高压空气,将上述粘接剂层按每个上述半导体芯片分离切断的步骤;以及(f)剥离上述保护带的步骤。

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