半导体器件的制造方法
    3.
    发明公开

    公开(公告)号:CN1574393A

    公开(公告)日:2005-02-02

    申请号:CN200410047239.0

    申请日:2004-05-28

    Abstract: 一种半导体器件的制造方法,包括形成pn柱,由此pn柱设计为在一部分半导体衬底内具有条形形状,并且在要形成具有相同结构的多个半导体器件的区域上的衬底表面上,pn柱具有p导电类型和n导电类型的重复图形,在设置有重复图形的区域中形成具有相同结构的多个半导体器件的其余组成部件,而pn柱作为每个半导体器件的组成部件的一部分,以及在形成有相同结构的多个半导体器件的区域中将各半导体器件切割成单个半导体器件芯片。

    用于制造半导体功率器件的方法

    公开(公告)号:CN1267970C

    公开(公告)日:2006-08-02

    申请号:CN02155731.4

    申请日:2002-12-09

    Abstract: 利用以下步骤制造一种具有较低接通电阻的半导体器件。首先,形成晶片,该晶片包括一个半导体层以及一个位于半导体层上的半导体元件层。随后,从设有半导体层的侧面均匀地磨削晶片,以达到预定的厚度。接着,从设有半导体层的侧面蚀刻晶片,以达到预定的厚度,同时,掩蔽晶片的周边,使其与蚀刻剂隔离,以在周边处形成一个边缘。通过位于周边处的边缘加强晶片,因此即使晶片较大,也能够在通过蚀刻使晶片变薄之后的后续步骤中防止晶片破裂或翘曲。

    用于制造半导体功率器件的方法

    公开(公告)号:CN1426093A

    公开(公告)日:2003-06-25

    申请号:CN02155731.4

    申请日:2002-12-09

    Abstract: 利用以下步骤制造一种具有较低接通电阻的半导体器件。首先,形成晶片,该晶片包括一个半导体层以及一个位于半导体层上的半导体元件层。随后,从设有半导体层的侧面均匀地磨削晶片,以达到预定的厚度。接着,从设有半导体层的侧面蚀刻晶片,以达到预定的厚度,同时,掩蔽晶片的周边,使其与蚀刻剂隔离,以在周边处形成一个边缘。通过位于周边处的边缘加强晶片,因此即使晶片较大,也能够在通过蚀刻使晶片变薄之后的后续步骤中防止晶片破裂或翘曲。

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