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公开(公告)号:JP2017122100A
公开(公告)日:2017-07-13
申请号:JP2017027076
申请日:2017-02-16
发明人: イマッド・アカッド , チェン−バイ・スー , ミンキー・リー , シンタロウ・ヤマダ , ウィリアム・ウィリアムズ・ザ・サード
IPC分类号: C07D313/06 , C07D327/04 , C07D493/18 , C07D497/18 , C07C381/12 , G03F7/004 , G03F7/039 , C07C309/65
CPC分类号: G03F7/30 , C07C309/65 , C07C311/09 , C07D313/08 , C07D313/10 , C07D327/04 , C07D493/18 , C07D497/18 , G03F7/0045 , G03F7/0046 , G03F7/038 , G03F7/0397 , G03F7/2041 , C07C2603/74
摘要: 【課題】より優れた拡散制御及びレジストプロファイルのような付随する特性を有する光酸発生剤(PAG)となる化合物、及びそれを含むフォトレジスト組成物の提供。 【解決手段】次式の光酸発生剤化合物。[A−(CHR 1 ) p ] k −(L)−(CH 2 ) m −(C(R 2 ) 2 ) n −SO 3 − Z + (Aは置換/非置換の単環式、多環式又は縮合多環式のC 5 以上の環式脂肪族基;R 1 はH、単結合又は置換/非置換のC 1−30 アルキル基;R 2 は独立してH、F、又はC 1−4 フルオロアルキル;Lはスルホナート基、スルホンアミド基またはC 1−30 スルホナート/スルホンアミド含有基を含む連結基;Zは有機/無機カチオン;pは0〜10の整数;kは1又は2:mは0以上の整数;nは1以上の整数) 【選択図】なし
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公开(公告)号:JP5846889B2
公开(公告)日:2016-01-20
申请号:JP2011273768
申请日:2011-12-14
申请人: 東京応化工業株式会社
IPC分类号: G03F7/039 , C07C59/13 , C07C69/753 , C07C381/12 , G03F7/004
CPC分类号: G03F7/027 , C07C25/18 , C07C323/52 , C07C381/12 , C07C59/125 , C07C59/13 , C07C59/66 , C07C59/70 , C07C62/04 , C07C69/14 , C07C69/63 , C07C69/753 , C07C69/78 , C07D307/00 , C07D307/33 , C07D313/10 , C07D327/04 , C07D333/46 , C07D333/54 , C07D333/76 , C07D335/02 , C07D335/16 , C07D493/08 , C07D493/18 , G03F7/0045 , G03F7/0397 , C07C2101/08 , C07C2103/74
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公开(公告)号:JP2012526066A
公开(公告)日:2012-10-25
申请号:JP2012508973
申请日:2010-04-14
IPC分类号: C07C237/42 , A01N37/24 , A01N37/34 , A01N43/08 , A01N43/10 , A01N43/24 , A01N43/36 , A01N43/40 , A01N43/54 , A01N43/56 , A01N43/76 , A01N43/78 , A01N43/80 , A01N43/828 , A01N43/84 , A01N57/14 , A01P7/02 , A01P7/04 , C07C255/23 , C07C255/57 , C07C317/46 , C07C323/60 , C07D213/81 , C07D213/82 , C07D231/14 , C07D239/28 , C07D263/34 , C07D277/20 , C07D277/56 , C07D285/06 , C07D295/14 , C07D307/68 , C07F9/145
CPC分类号: C07C237/44 , A01N37/46 , A01N43/08 , A01N43/10 , A01N43/24 , A01N43/32 , A01N43/36 , A01N43/40 , A01N43/54 , A01N43/56 , A01N43/60 , A01N43/76 , A01N43/78 , A01N43/80 , A01N43/82 , C07C255/57 , C07C317/44 , C07C317/46 , C07C323/62 , C07D207/34 , C07D213/60 , C07D213/61 , C07D213/64 , C07D213/70 , C07D213/81 , C07D213/89 , C07D231/14 , C07D231/16 , C07D239/28 , C07D239/30 , C07D241/26 , C07D241/28 , C07D261/10 , C07D261/12 , C07D263/34 , C07D275/03 , C07D277/56 , C07D285/06 , C07D307/36 , C07D307/56 , C07D307/68 , C07D307/72 , C07D313/10 , C07D333/28 , C07D333/38
摘要: 殺虫性化合物
本発明は、式(I)のビスアミド誘導体、それらを調製するためのプロセスおよび中間体、昆虫、ダニ、線虫、および軟体動物の害虫を駆除するためにそれらを使用する方法、ならびにそれらを含む殺虫性、殺ダニ性、殺線虫性、および殺軟体動物性の組成物に関する。-
公开(公告)号:JP2003073321A
公开(公告)日:2003-03-12
申请号:JP2001261632
申请日:2001-08-30
申请人: Daicel Chem Ind Ltd , ダイセル化学工業株式会社
发明人: ISHII YASUTAKA , NAKANO TATSUYA , INOUE KEIZO
IPC分类号: C07B61/00 , C07C41/16 , C07C43/16 , C07C43/162 , C07C43/166 , C07C43/188 , C07C43/215 , C07C49/753 , C07C67/31 , C07C69/00 , C07C69/757 , C07D307/33 , C07D307/93 , C07D313/10 , C07D493/04
CPC分类号: C07D313/10 , C07C41/16 , C07C43/162 , C07C49/753 , C07C69/757 , C07C2601/14 , C07C2603/74 , C07C2603/86 , C07D307/33 , C07D307/93 , Y02P20/55 , C07C43/16 , C07C43/168 , C07C43/178 , C07C43/188 , C07C43/215
摘要: PROBLEM TO BE SOLVED: To simply obtain a vinyl ether compound under a mild condition.
SOLUTION: This vinyl ether compound represented by the formula (3) (wherein, R
2 , R
3 , R
4 and R
5 are same as above mentioned ones) is obtained by reacting a vinyl ester compound represented by the formula (1) (wherein, R
1 , R
2 , R
3 and R
4 may be the same or different and are H or an organic group) with a hydroxy compound represented by the formula (2): R
5 OH (wherein, R
5 is an organic group) in the presence of a transition element compound. The transition element compound includes group VIII element compounds such as an iridium compound.
COPYRIGHT: (C)2003,JPO摘要翻译: 要解决的问题:在温和条件下简单地获得乙烯基醚化合物。 溶液:由式(3)表示的乙烯基醚化合物(其中R 2,R 3,R 4和R 5与上述相同)是通过使乙烯基酯化合物 由式(1)表示(其中R 1,R 2,R 3和R 4可以相同或不同,为H或有机基团)与由 式(2):R 5 OH(其中R 5是有机基团)在过渡元素化合物的存在下进行。 过渡元素化合物包括VIII族元素化合物如铱化合物。
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公开(公告)号:JP2018116086A
公开(公告)日:2018-07-26
申请号:JP2017005036
申请日:2017-01-16
申请人: 東京応化工業株式会社
IPC分类号: G03F7/039 , G03F7/038 , G03F7/20 , C07D333/52 , C07D333/64 , C07D285/16 , C07D327/04 , C07D313/10 , G03F7/004
CPC分类号: C07D285/16 , C07D313/10 , C07D327/04 , C07D333/52 , C07D333/64 , G03F7/004 , G03F7/038 , G03F7/039 , G03F7/20
摘要: 【課題】リソグラフィー特性に優れたレジスト組成物、及び該レジスト組成物を用いたレジストパターン形成方法の提供。 【解決手段】露光により酸を発生し、かつ、酸の作用により現像液に対する溶解性が変化するレジスト組成物であって、酸の作用により現像液に対する溶解性が変化する基材成分(A)と、露光により酸を発生する酸発生剤成分(B)とを含有し、前記酸発生剤成分(B)が、2種の化合物を含むことを特徴とするレジスト組成物。 【選択図】なし
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公开(公告)号:JP2016513135A
公开(公告)日:2016-05-12
申请号:JP2015560105
申请日:2014-02-28
发明人: ヨン イ、チュ , ヨン イ、チュ , ア イ、チョン , ア イ、チョン , アン、チェスン , ホ リュ、チェ , ホ リュ、チェ , ハン、ミン−ヨン , ユ、テキョン , ホ サ、チュン , ホ サ、チュン , キム、チェ−ソン
IPC分类号: C07D221/16 , A61K31/192 , A61K31/195 , A61K31/335 , A61K31/341 , A61K31/343 , A61K31/353 , A61K31/357 , A61K31/382 , A61K31/42 , A61K31/517 , A61K31/5377 , A61K31/541 , A61K31/55 , A61P1/00 , A61P1/18 , A61P3/04 , A61P3/06 , A61P3/10 , A61P7/02 , A61P7/10 , A61P9/10 , A61P9/12 , A61P13/12 , A61P15/00 , A61P17/00 , A61P19/00 , A61P25/00 , A61P25/18 , A61P25/24 , A61P25/28 , A61P27/02 , A61P29/00 , A61P35/00 , A61P37/02 , A61P37/08 , A61P43/00 , C07D223/18 , C07D239/70 , C07D307/20 , C07D307/83 , C07D311/80 , C07D313/10 , C07D321/10 , C07D335/02 , C07D405/12 , C07D407/12 , C07D409/12 , C07D409/14 , C07D413/12
CPC分类号: C07D307/80 , C07C59/72 , C07C229/46 , C07C317/18 , C07C2601/02 , C07C2603/26 , C07C2603/32 , C07D223/20 , C07D239/70 , C07D307/20 , C07D311/80 , C07D313/10 , C07D313/12 , C07D335/02 , C07D405/12 , C07D407/12 , C07D409/12 , C07D409/14 , C07D413/12
摘要: 本発明は、式Iの構造を有する三環式化合物、その薬学的に許容される塩、異性体、溶媒和物、および前駆体からなる群から選択される化合物、ならびにその使用に関する。本化合物は、GPR40を有効に制御し、したがって、GPR40と関連した疾患、例えば、糖尿病および多くの他の疾患の予防または処置に有効に使用され得る。【選択図】なし
摘要翻译: 具有式I,它们的药学上可接受的盐,异构体,溶剂化物,和选自前体及其用途的组中选择的化合物的结构的本发明的三环化合物。 这些化合物有效地控制一个GPR40,因此,与GPR40相关的疾病,例如,可以有效地用于糖尿病和许多其他疾病的预防或治疗。 系统技术领域
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公开(公告)号:JP5608009B2
公开(公告)日:2014-10-15
申请号:JP2010180908
申请日:2010-08-12
申请人: 大阪有機化学工業株式会社
IPC分类号: C07D493/08 , C08F20/28 , G03F7/039
CPC分类号: G03F7/004 , C07D313/06 , C07D313/10 , C08F220/28 , C08F220/30 , G03F7/0397
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公开(公告)号:JP4856826B2
公开(公告)日:2012-01-18
申请号:JP2001261632
申请日:2001-08-30
申请人: 株式会社ダイセル
IPC分类号: C07C41/16 , C07B61/00 , C07C43/16 , C07C43/162 , C07C43/166 , C07C43/188 , C07C43/215 , C07C49/753 , C07C67/31 , C07C69/00 , C07C69/757 , C07D307/33 , C07D307/93 , C07D313/10 , C07D493/04
CPC分类号: C07D313/10 , C07C41/16 , C07C43/162 , C07C49/753 , C07C69/757 , C07C2601/14 , C07C2603/74 , C07C2603/86 , C07D307/33 , C07D307/93 , Y02P20/55 , C07C43/16 , C07C43/168 , C07C43/178 , C07C43/188 , C07C43/215
摘要: A process produces vinyl ether compounds and includes allowing a vinyl ester compound represented by following Formula (1): wherein R , R , R and R are the same or different and are each a hydrogen atom or an organic group, to react with a hydroxy compound represented by following Formula (2): R OH wherein R is an organic group, in the presence of at least one transition element compound to thereby yield a vinyl ether compound represented by following Formula (3): wherein R , R , R and R have the same meanings as defined above. Such transition element compounds include iridium compounds and other compounds containing Group VIII elements. A vinyl ether compound represented by following Formula (4): wherein W is a divalent hydrocarbon; n is 0 or 1; m is an integer from 1 to 8; ring Z is any one of cyclic groups represented by following Formulae (5) through (12):
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19.Homoadamantane derivative, method of producing the same, and photosensitive material for use in photoresist 审中-公开
标题翻译: 呫吨丹衍生物,其制备方法和用于光电子学的光敏材料公开(公告)号:JP2011219363A
公开(公告)日:2011-11-04
申请号:JP2010086352
申请日:2010-04-02
申请人: Idemitsu Kosan Co Ltd , 出光興産株式会社
发明人: TANAKA SHINJI , UENOYAMA YOSHITAKA , ONO HIDETOSHI , KONO NAOYA , ITO KATSUKI
IPC分类号: C07D313/06 , C08F20/26 , G03F7/039 , H01L21/027
CPC分类号: G03F7/039 , C07D313/10 , C08F20/26 , C08F222/10 , C08F224/00 , G03F7/0397 , G03F7/165 , G03F7/20 , G03F7/30 , G03F7/322
摘要: PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a polymer exhibiting excellent roughness reduction capability, solubility, compatibility, defect reduction capability, exposure sensitivity and the like when used as a positive photoresist, a monomer for producing the same, and a precursor (an intermediate, or a modifier) thereof.SOLUTION: The homoadamantane derivative is represented by formula (I) (wherein R, Rare each hydrogen or a 1-6C straight chain, branched or cyclic hydrocarbon group; X is a hydroxy group or a halogen atom; and n and m are each an integer of 0 to 3, provided that n and m are not 0 at the same time).
摘要翻译: 待解决的问题:提供当用作正性光致抗蚀剂时,显示出优异的粗糙度降低能力,溶解性,相容性,缺陷降低能力,曝光灵敏度等的聚合物,用于制备它的单体和前体( 中间体或修饰剂)。 解决方案:高金刚烷衍生物由式(I)表示(其中R
1 SP>,R 2 SP>分别为氢或 1-6C直链,支链或环状烃基; X是羟基或卤原子; n和m各自为0-3的整数,条件是n和m不同时为0)。 版权所有(C)2012,JPO&INPIT -
公开(公告)号:JPWO2002036533A1
公开(公告)日:2004-03-11
申请号:JP2002539295
申请日:2001-10-31
申请人: ダイセル化学工業株式会社
发明人: 井上 慶三
IPC分类号: C08F24/00 , C07C29/40 , C07C33/44 , C07C35/52 , C07C41/01 , C07C41/06 , C07C41/58 , C07C43/172 , C07C43/178 , C07C43/192 , C07C43/196 , C07C43/313 , C07C45/64 , C07C45/66 , C07C45/68 , C07C49/453 , C07C49/513 , C07C49/653 , C07C49/755 , C07D307/00 , C07D307/30 , C07D307/93 , C07D313/10 , C07D317/42 , C07D339/06 , C08F16/00 , C08F34/00 , G03F7/004 , G03F7/039
CPC分类号: C07C41/58 , C07C33/44 , C07C35/52 , C07C41/06 , C07C41/54 , C07C41/56 , C07C43/313 , C07C43/317 , C07C49/755 , C07C2602/42 , C07C2603/74 , C07D307/30 , C07D307/93 , C07D313/10 , C07D317/42 , C07D339/06 , C08F24/00 , G03F7/0046 , G03F7/0397 , C07C43/1786 , C07C43/196
摘要: 本発明の電子吸引性基含有単量体は、下記式(a)、(b)又は(c)(式中、A1、A2、A3は環を示し、Ra、Rb、Rc、Ruは、同一又は異なって、水素原子又は有機基を示す。Rs、Rw及びRvのうち少なくとも1つ、Rt及びRw1のうち少なくとも1つ、2つのRw2のうち少なくとも1つは、それぞれ電子吸引基を示し、残りは水素原子又は有機基を示す。W1は単結合又は連結基を示し、nは2〜25の整数を示す。Ra、Rb、Rc、Rs、Rt、Ru、Rv、Rw、Rw1、Rw2、W1、A1環を構成する炭素原子、A2環を構成する炭素原子、A3環を構成する炭素原子は、それぞれ2以上が結合して環を形成していてもよい)で表される。前記Rs、Rt、Rv、Rw、Rw1、Rw2における電子吸引性基は、例えばフッ素原子含有基である。この単量体はフォトレジスト用高分子化合物の原料として有用である。
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