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    Method and device for coating at least one wiper-blade element
    1.
    发明授权
    Method and device for coating at least one wiper-blade element 失效
    用于涂覆至少一个刮片元件的方法和装置

    公开(公告)号：US06793978B2

    公开(公告)日：2004-09-21

    申请号：US10049763

    申请日：2002-06-04

    申请人： Kurt Burger ,  Guenter Schneider ,  Klaus Burghoff ,  Thomas Weber ,  Jeanne Forget-Funk

    发明人： Kurt Burger ,  Guenter Schneider ,  Klaus Burghoff ,  Thomas Weber ,  Jeanne Forget-Funk

    IPC分类号： C23C1650

    CPC分类号： C23C16/458 ,  B60S2001/3829 ,  C23C16/0245 ,  C23C16/509

    摘要： The invention is based on a method for coating at least one wiper blade element (10) made of an elastomer material, in which first, the surface of the wiper blade element (10) is cleaned and activated by means of a plasma, and then in a CVD process, a coating material is brought into a plasma state and at least one protective coating (64) forms on the surface of the wiper blade element (10), where a high-frequency voltage is applied to the region of the wiper blade element (10) oriented away from the protective layer (64) by means of an electrode (56). The invention proposes that before being brought into a treatment chamber (32, 34, 36, 38, 40, 74), the wiper blade element (10) be cut to a useful length (66) from a profiled band and placed on an electrode plate (56) so that its wiper lip (18) stands approximately perpendicular to the electrode plate (56), which extends to both sides of the wiper blade element (10), and is subjected to a plasma flow (50).

    摘要翻译： 本发明基于一种用于涂覆由弹性体材料制成的至少一个刮片元件（10）的方法，其中首先，通过等离子体清洁和激活刮水片元件（10）的表面，然后 在CVD工艺中，涂层材料进入等离子体状态，并且在刮片元件（10）的表面上形成至少一个保护涂层（64），其中高频电压被施加到擦拭器的区域 叶片元件（10）通过电极（56）远离保护层（64）。本发明提出在被带入处理室（32,34,36,38,40,74）之前，刮水器 叶片元件（10）从成型带切割成有用长度（66）并放置在电极板（56）上，使得其擦拭器唇缘（18）大致垂直于电极板（56），其延伸到两个 并且经受等离子体流（50）。

    Method and device for vacuum-coating a substrate
    6.
    发明授权
    Method and device for vacuum-coating a substrate 有权
    用于真空涂覆基材的方法和装置

    公开(公告)号：US07942111B2

    公开(公告)日：2011-05-17

    申请号：US11008413

    申请日：2004-12-09

    申请人： Kurt Burger ,  Thomas Weber ,  Johannes Voigt ,  Susanne Lucas

    发明人： Kurt Burger ,  Thomas Weber ,  Johannes Voigt ,  Susanne Lucas

    IPC分类号： C23C14/00 ,  C23C16/00

    CPC分类号： C23C28/044 ,  C23C8/36 ,  C23C14/06 ,  C23C14/22 ,  C23C16/30 ,  C23C16/50 ,  C23C28/42 ,  Y10T428/24975 ,  Y10T428/265 ,  Y10T428/30

    摘要： A method is proposed for vacuum-coating a substrate using a plasma-CVD method. In order to control ion bombardment during the vacuum coating, a substrate voltage, produced independently from a coating plasma, is applied to the substrate. The substrate voltage is modified during the coating. The substrate voltage is a direct voltage that is pulsed in bipolar fashion with a frequency of 0.1 kHz to 10 MHz. A wear-resistant and friction-reducing multilayer structure of alternating hard material individual layers and carbon or silicon individual layers is proposed.

    摘要翻译： 提出了使用等离子体CVD法对基板进行真空镀膜的方法。 为了控制真空镀膜中的离子轰击，将独立于涂布等离子体生产的基板电压施加到基板上。 衬底电压在涂层期间被修改。 衬底电压是以0.1kHz至10MHz的频率以双极方式脉冲的直流电压。 提出了一种耐磨和减摩的多层结构，交替硬质材料单层和碳或硅单层。

    Method and device for vacuum-coating a substrate
    9.
    发明授权
    Method and device for vacuum-coating a substrate 有权
    用于真空涂覆基材的方法和装置

    公开(公告)号：US06372303B1

    公开(公告)日：2002-04-16

    申请号：US09446054

    申请日：2000-04-05

    申请人： Kurt Burger ,  Thomas Weber ,  Johannes Voigt ,  Susanne Lucas

    发明人： Kurt Burger ,  Thomas Weber ,  Johannes Voigt ,  Susanne Lucas

    IPC分类号： C23C1626

    CPC分类号： C23C28/044 ,  C23C8/36 ,  C23C14/06 ,  C23C14/22 ,  C23C16/30 ,  C23C16/50 ,  C23C28/42 ,  Y10T428/24975 ,  Y10T428/265 ,  Y10T428/30

    摘要： A method is proposed for vacuum-coating a substrate using a plasma-CVD method. In order to control ion bombardment during the vacuum coating, a substrate voltage produced independently from a coating plasma is applied to the substrate. The substrate voltage is modified during the coating. The substrate voltage is a direct voltage that is pulsed in bipolar fashion with a frequency of 0.1 kHz to 10 MHz. A wear-resistant and friction-reducing multilayer structure of alternating hard material individual layers and carbon or silicon individual layers is proposed.

    摘要翻译： 提出了使用等离子体CVD法对基板进行真空镀膜的方法。 为了控制真空镀膜中的离子轰击，将独立于涂覆等离子体产生的基板电压施加到基板上。 衬底电压在涂层期间被修改。 衬底电压是以0.1kHz至10MHz的频率以双极方式脉冲的直流电压。 提出了一种耐磨和减摩的多层结构，交替硬质材料单层和碳或硅单层。

    Temperature dependent electric resistor probe and a method of making the same
    10.
    发明授权
    Temperature dependent electric resistor probe and a method of making the same 失效
    温度依赖电阻探头及其制作方法

    公开(公告)号：US4708769A

    公开(公告)日：1987-11-24

    申请号：US852808

    申请日：1986-02-21

    申请人： Kurt Burger ,  Heinz Friedrich ,  Thomas Molkner ,  Peter Schottle

    发明人： Kurt Burger ,  Heinz Friedrich ,  Thomas Molkner ,  Peter Schottle

    IPC分类号： G01F1/68 ,  G01F1/692 ,  G01K7/18 ,  G01K13/02 ,  H01C1/012 ,  H01C7/04 ,  H01L21/312 ,  C03C15/00

    CPC分类号： G01K7/183 ,  G01F1/692 ,  Y10T29/49085

    摘要： A method of making a temperature dependent resistor probe for measuring temperature or mass of a flowing medium includes (a) preparation of a support plate of a metallic material; (b) applying a support foil of a temperature resistant plastic material on one side of the support plate; (c) applying a layer of temperature dependent resistive material on the support foil and finishing the resistive layer into a measuring resistor layer; and thereafter, an opening is formed in the support plate in the area below the measuring resistor layer.

    摘要翻译： PCT No.PCT / DE85 / 00247 Sec。 371日期1986年2月21日 102（e）日期1986年2月21日PCT提交1985年7月19日PCT公布。 出版物WO86 / 01290 日期：1986年2月27日。一种用于测量流动介质的温度或质量的温度依赖性电阻探针的方法包括（a）制备金属材料的支撑板; （b）在支撑板的一侧上涂覆耐热塑性材料的支撑箔; （c）在支撑箔上施加温度依赖性电阻材料层并将电阻层整理成测量电阻层; 此后，在测量电阻层下方的区域中的支撑板上形成开口。