公开(公告)号：US07875408B2

公开(公告)日：2011-01-25

申请号：US11698182

申请日：2007-01-25

申请人： John A. Hoffnagle ,  David R. Medeiros ,  Robert D. Miller ,  Libor Vycklicky ,  Gregory M. Wallraff

发明人： John A. Hoffnagle ,  David R. Medeiros ,  Robert D. Miller ,  Libor Vycklicky ,  Gregory M. Wallraff

IPC分类号： G03F7/00 ,  G03F7/004 ,  G03F7/031 ,  G03F7/075

CPC分类号： G03F7/091 ,  G03F7/0382 ,  G03F7/0392 ,  Y10S430/106 ,  Y10S430/146

摘要： Compositions comprising photobleachable organic materials can be bleached by 193 nm light, and brought back to their original state by stimuli after exposure. (reversible photobleaching). We use these compositions in art-known contrast enhancement layers and as a part of a photoresist, especially in optical lithography processes for semiconductor fabrication. They may comprise polymers such as organo-silicon polymers, polymers comprising polymers of aromatic hydroxyl compounds such as phenol and naphthol such as phenol formaldehyde polymers and naphthol formaldehyde polymers styrene polymers and phenolic acrylate polymers or cyclic materials comprising: where the radicals “R” and “Y” represent organo, or substituted organo moieties, Structures I, II, and III represent basic organic skeletons and can be unsubstituted or substituted in any available position with any one or combinations of multiple substituents.

摘要翻译： 包含可光漂白有机材料的组合物可以用193nm的光漂白，并且在曝光后通过刺激使其恢复到其初始状态。 （可逆光漂白）。 我们将这些组合物用于本领域已知的对比增强层和作为光致抗蚀剂的一部分，特别是在用于半导体制造的光刻工艺中。 它们可以包括聚合物，例如有机硅聚合物，包含芳族羟基化合物如苯酚和萘酚的聚合物的聚合物，例如苯酚甲醛聚合物和萘酚甲醛聚合物苯乙烯聚合物和酚醛丙烯酸酯聚合物或环状材料，其包括：其中基团“R”和 “Y”表示有机或取代的有机部分，结构I，II和III表示碱性有机骨架，并且可以在任何可用位置被未取代或被任何一个或多个取代基的组合取代。

公开(公告)号：US07867689B2

公开(公告)日：2011-01-11

申请号：US11750356

申请日：2007-05-18

申请人： Robert D. Allen ,  Phillip Brock ,  Blake W. Davis ,  Qinghuang Lin ,  Robert D. Miller ,  Alshakim Nelson ,  Ratnam Sooriyakumaran

发明人： Robert D. Allen ,  Phillip Brock ,  Blake W. Davis ,  Qinghuang Lin ,  Robert D. Miller ,  Alshakim Nelson ,  Ratnam Sooriyakumaran

IPC分类号： G03F7/038 ,  G03F7/075 ,  G03F7/20 ,  G03F7/30 ,  G03F7/40

CPC分类号： H01L21/3122 ,  G03F7/0382 ,  G03F7/0757 ,  G03F7/40 ,  H01L21/02137 ,  H01L21/02282 ,  H01L21/02348 ,  H01L21/76802 ,  H01L21/76814 ,  H01L21/76825 ,  H01L21/76826 ,  H01L21/76828 ,  Y10S430/106 ,  Y10S430/108 ,  Y10S430/12 ,  Y10S430/121 ,  Y10S430/122 ,  Y10S430/126

摘要： A method. The method includes dip coating a film of a composition on a silicon wafer substrate. The composition includes a polymer blend of a first polymer and a second polymer. The first polymer is a substituted silsesquioxane copolymer. The second polymer is a polysilsesquioxane having silanol end groups. The composition includes a photosensitive acid generator, an organic base, and an organic crosslinking agent. The film is patternwise imaged and at least one region is exposed to radiation having a wavelength of about 248 nanometers. The film is baked, resulting in inducing crosslinking in the film. The film is developed resulting in removal of base-soluble unexposed regions of the film, wherein a relief pattern from the film remains. The relief pattern is cured at a temperature between about 300° C. and about 450° C., and the curing utilizes a combination of thermal treatment with UV radiation.

摘要翻译： 一个方法。 该方法包括在硅晶片衬底上浸涂组合物的膜。 该组合物包括第一聚合物和第二聚合物的聚合物共混物。 第一聚合物是取代的倍半硅氧烷共聚物。 第二聚合物是具有硅烷醇端基的聚倍半硅氧烷。 该组合物包括光敏酸产生剂，有机碱和有机交联剂。 膜被图案化成像，并且至少一个区域暴露于波长为约248纳米的辐射。 该膜被烘烤，导致膜中引起交联。 显影该膜，导致去除基底溶解的膜的未曝光区域，其中残留有膜的浮雕图案。 浮雕图案在约300℃和约450℃之间的温度下固化，并且固化利用与UV辐射的热处理的组合。

公开(公告)号：US07799416B1

公开(公告)日：2010-09-21

申请号：US09720710

申请日：1999-07-02

申请人： Vanessa Z. H. Chan ,  Edwin L. Thomas ,  Victor Y. Lee ,  Robert D. Miller ,  Apostolos Avgeropoulos ,  Nikos Hadjichristidis

发明人： Vanessa Z. H. Chan ,  Edwin L. Thomas ,  Victor Y. Lee ,  Robert D. Miller ,  Apostolos Avgeropoulos ,  Nikos Hadjichristidis

IPC分类号： B32B3/26 ,  B32B3/00 ,  C08F30/08 ,  C08F236/00

CPC分类号： B81C1/00031 ,  B81C2201/0149 ,  B82Y30/00 ,  C08F283/00 ,  C08F297/00 ,  C08F297/02 ,  C08L51/003 ,  C08L53/00 ,  G03F7/0015 ,  G03F7/0758 ,  Y10T428/249953 ,  Y10T428/249967 ,  Y10T428/249969 ,  C08L2666/02

摘要： The current invention involves periodically ordered nanostructured materials and methods of using and modifying the materials. In some embodiments, the invention provides periodically structured microphase separated polymeric articles that include periodically occurring separate domains. The polymeric species comprising one or more of the domains, for some embodiments, contains an inorganic species capable of forming an inorganic oxide ceramic. In another aspect, the invention provides methods for modifying the polymeric articles by oxidation and/or radiation to form periodically structured porous and relief articles that, in some embodiments, include a ceramic oxide in their structure. The invention also provides methods of use for the novel articles and novel structures constructed utilizing the articles.

摘要翻译： 本发明涉及周期性订购的纳米结构材料以及使用和修饰材料的方法。 在一些实施方案中，本发明提供周期性结构的微相分离的聚合物制品，其包括周期性发生的分离的结构域。 在一些实施方案中，包含一个或多个结构域的聚合物种包含能够形成无机氧化物陶瓷的无机物质。 在另一方面，本发明提供了通过氧化和/或辐射来改性聚合物制品以形成周期性结构化的多孔和浮雕制品的方法，其在一些实施方案中包括其结构中的陶瓷氧化物。 本发明还提供了利用该制品构造的新型制品和新颖结构的使用方法。

公开(公告)号：US07651735B2

公开(公告)日：2010-01-26

申请号：US12061777

申请日：2008-04-03

申请人： Joy Cheng ,  Ho-Cheol Kim ,  Robert D. Miller

发明人： Joy Cheng ,  Ho-Cheol Kim ,  Robert D. Miller

IPC分类号： B05D5/00

CPC分类号： B29D22/00 ,  B33Y10/00 ,  B33Y80/00 ,  B81C1/00031 ,  B81C2201/0149 ,  B82Y30/00 ,  C08L53/00 ,  G03F7/0002 ,  Y10S977/70 ,  Y10S977/701 ,  Y10S977/712 ,  Y10S977/788 ,  Y10S977/932 ,  Y10T428/1393 ,  Y10T428/24132 ,  Y10T428/249921 ,  C08L2666/02 ,  C08L2666/24

摘要： Methods and a structure. A first film of a first block copolymer is formed inside a trough integrally disposed on an energetically neutral surface layer of a substrate. Line-forming microdomains are assembled of the first block copolymer, and form first self-assembled structures within the first film normal to the sidewalls and parallel to the surface layer. At least one microdomain is removed from the first film such that oriented structures remain in the trough oriented normal to the sidewalls and parallel to the surface layer. A second film of a second block copolymer is formed inside the trough. Line-forming microdomains are assembled of the second block copolymer, and form second self-assembled structures within the second film oriented normal to the oriented structures and parallel to the sidewalls. A second method and a structure are also provided.

摘要翻译： 方法和结构。 第一嵌段共聚物的第一膜形成在整体设置在基材的能量中性表面层上的槽内。 线形成微区域由第一嵌段共聚物组装，并且在垂直于侧壁并平行于表面层的第一膜内形成第一自组装结构。 至少一个微区域从第一膜移除，使得定向结构保持在垂直于侧壁并平行于表面层的槽中。 在槽内形成第二嵌段共聚物的第二膜。 线形成微区域由第二嵌段共聚物组装，并且在第二膜中形成第二自组装结构，其定向垂直于取向结构并平行于侧壁。 还提供了第二种方法和结构。

公开(公告)号：US20090233226A1

公开(公告)日：2009-09-17

申请号：US12047435

申请日：2008-03-13

申请人： Robert D. Allen ,  Phillip Joe Brock ,  Blake W. Davis ,  Qinghuang Lin ,  Robert D. Miller ,  Alshakim Nelson ,  Ratnam Sooriyakumaran

发明人： Robert D. Allen ,  Phillip Joe Brock ,  Blake W. Davis ,  Qinghuang Lin ,  Robert D. Miller ,  Alshakim Nelson ,  Ratnam Sooriyakumaran

IPC分类号： G03F7/004 ,  G03F7/20

CPC分类号： G03F7/0757 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/40 ,  Y10S430/106 ,  Y10S430/115 ,  Y10S430/12 ,  Y10S430/122 ,  Y10S430/126

摘要： Compositions, a method, and a photopatternable blend. The compositions include a blend of a first and a second polymer. The first polymer is a substituted silsesquioxane copolymer. The second polymer is a substituted silsesquioxane polymer. The second polymer is configured to undergo chemical crosslinking with the first polymer, the second polymer, or a combination thereof, upon exposure to light, thermal energy, or a combination thereof. The compositions include a photosensitive acid generator. The method includes forming a film. The film is patternwise imaged, and at least one region is exposed to radiation. After the imaging, the film is baked, wherein at least one exposed region is rendered substantially soluble. After the baking, the film is developed, wherein a relief pattern remains. The relief pattern is exposed to radiation. The relief pattern is baked. The relief pattern is cured. A chemically amplified positive-tone photopatternable blend is also described.

摘要翻译： 组合，一种方法和一种光图案化混合物。 组合物包括第一和第二聚合物的共混物。 第一聚合物是取代的倍半硅氧烷共聚物。 第二聚合物是取代的倍半硅氧烷聚合物。 第二聚合物被配置为在暴露于光，热能或其组合时与第一聚合物，第二聚合物或其组合进行化学交联。 组合物包括光敏酸产生剂。 该方法包括形成膜。 膜被图案化成像，并且至少一个区域暴露于辐射。 在成像之后，烘烤该膜，其中至少一个曝光区域呈现基本上可溶的。 烘烤后，显影膜，其中保留有浮雕图案。 浮雕图案暴露于辐射。 浮雕图案被烘烤。 浮雕图案被修复。 还描述了化学放大的正色调可光图案化混合物。

公开(公告)号：US20090073849A1

公开(公告)日：2009-03-19

申请号：US12275547

申请日：2008-11-21

申请人： Jane Frommer ,  Robert D. Miller ,  Craig Hawker ,  Urs T. Duerig ,  Bernd Gotsmann ,  Peter Vettiger ,  Mark A. Lantz

发明人： Jane Frommer ,  Robert D. Miller ,  Craig Hawker ,  Urs T. Duerig ,  Bernd Gotsmann ,  Peter Vettiger ,  Mark A. Lantz

IPC分类号： G11B9/10

CPC分类号： G11B9/14 ,  B82Y10/00 ,  G11B9/1409 ,  G11B9/1472 ,  G11B9/149

摘要： A data storage system includes a read/write head having a tip connected to a resistive path locally exerting heat at the tip when an electrical current is applied; and a data storage medium from which information is reproduced by scanning a surface of the medium with a tip positioned in contact therewith, the medium comprising: a substrate; and a polymer recording surface within which data bit values are determined by the topographical state at the bit location, characterized in that the polymer contains thermally reversible crosslinkages.

摘要翻译： 数据存储系统包括读/写头，其具有连接到电阻路径的尖端，当施加电流时局部地在顶端施加热量; 以及数据存储介质，其中通过用与其接触的尖端扫描介质的表面来再现信息，所述介质包括：基板; 以及聚合物记录表面，其中数据位值由比特位置处的形貌状态确定，其特征在于，所述聚合物含有热可逆交联。

公开(公告)号：US20080233343A1

公开(公告)日：2008-09-25

申请号：US12061777

申请日：2008-04-03

申请人： Joy Cheng ,  Ho-Cheol Kim ,  Robert D. Miller

发明人： Joy Cheng ,  Ho-Cheol Kim ,  Robert D. Miller

IPC分类号： B32B5/12 ,  B05D3/00

CPC分类号： B29D22/00 ,  B33Y10/00 ,  B33Y80/00 ,  B81C1/00031 ,  B81C2201/0149 ,  B82Y30/00 ,  C08L53/00 ,  G03F7/0002 ,  Y10S977/70 ,  Y10S977/701 ,  Y10S977/712 ,  Y10S977/788 ,  Y10S977/932 ,  Y10T428/1393 ,  Y10T428/24132 ,  Y10T428/249921 ,  C08L2666/02 ,  C08L2666/24

摘要： Methods and a structure. A first film of a first block copolymer is formed inside a trough integrally disposed on an energetically neutral surface layer of a substrate. Line-forming microdomains are assembled of the first block copolymer, and form first self-assembled structures within the first film normal to the sidewalls and parallel to the surface layer. At least one microdomain is removed from the first film such that oriented structures remain in the trough oriented normal to the sidewalls and parallel to the surface layer. A second film of a second block copolymer is formed inside the trough. Line-forming microdomains are assembled of the second block copolymer, and form second self-assembled structures within the second film oriented normal to the oriented structures and parallel to the sidewalls. A second method and a structure are also provided.

摘要翻译： 方法和结构。 第一嵌段共聚物的第一膜形成在整体设置在基材的能量中性表面层上的槽内。 线形成微区域由第一嵌段共聚物组装，并且在垂直于侧壁并平行于表面层的第一膜内形成第一自组装结构。 至少一个微区域从第一膜移除，使得定向结构保持在垂直于侧壁并平行于表面层的槽中。 在槽内形成第二嵌段共聚物的第二膜。 线形成微区域由第二嵌段共聚物组装，并且在第二膜中形成第二自组装结构，其定向垂直于取向结构并平行于侧壁。 还提供了第二种方法和结构。

公开(公告)号：US07334469B2

公开(公告)日：2008-02-26

申请号：US11193645

申请日：2005-07-29

申请人： Robert D. Miller ,  Steven H. Thomas

发明人： Robert D. Miller ,  Steven H. Thomas

IPC分类号： G01L19/00

CPC分类号： G01P5/165 ,  G01P21/025

摘要： A method for characterizing pressure sensors to improve accuracy in an air data system is described where the sensors include at least one static pressure sensor and at least one total pressure sensor. The method includes characterizing the static pressure sensor and the total pressure sensor to determine a static pressure sensor error, Pse, and a total pressure sensor error, Pte, and performing a second ratiometric characterization to reference the total pressure sensor error, Pte, to the static pressure sensor error, Pse.

摘要翻译： 描述了用于表征压力传感器以提高空气数据系统中的精度的方法，其中传感器包括至少一个静态压力传感器和至少一个总压力传感器。 该方法包括表征静态压力传感器和总压力传感器以确定静态压力传感器误差Pse和总压力传感器误差Pte，并且执行第二比例表征以将总压力传感器误差Pte引用到 静压传感器错误，Pse。

公开(公告)号：US07209324B2

公开(公告)日：2007-04-24

申请号：US10611673

申请日：2003-06-30

申请人： Phillip J. Brock ,  Michael W. Chaw ,  Dan J. Dawson ,  Craig J. Hawker ,  James L. Hedrick ,  Teddie P. Magbitang ,  Dennis R. McKean ,  Robert D. Miller ,  Richard I. Palmisano ,  Willi Volksen

发明人： Phillip J. Brock ,  Michael W. Chaw ,  Dan J. Dawson ,  Craig J. Hawker ,  James L. Hedrick ,  Teddie P. Magbitang ,  Dennis R. McKean ,  Robert D. Miller ,  Richard I. Palmisano ,  Willi Volksen

IPC分类号： G11B5/60

CPC分类号： G11B5/6005

摘要： The invention relates generally to the bonding of one or more sliders in styrene and butadiene polymers. More particularly, the invention relates to planarized slider assemblies formed by using debondable solid encapsulants comprised of styrene and butadiene polymers. The invention also relates to methods that use such encapsulants in conjunction with resists to produce magnetic head sliders having patterned air-bearing surfaces.

摘要翻译： 本发明一般涉及一种或多种滑块在苯乙烯和丁二烯聚合物中的结合。 更具体地，本发明涉及通过使用由苯乙烯和丁二烯聚合物组成的可分离固体密封剂形成的平面化滑块组件。 本发明还涉及将这种密封剂与抗蚀剂结合使用以产生具有图案化空气轴承表面的磁头滑块的方法。

公开(公告)号：US07064929B2

公开(公告)日：2006-06-20

申请号：US10611317

申请日：2003-06-30

申请人： Dennis R. McKean ,  Robert D. Miller ,  Teddie P. Magbitang ,  James L. Hedrick ,  Craig J. Hawker ,  Willi Volksen ,  Phillip J. Brock ,  Dan J. Dawson ,  Michael W. Chaw ,  Richard I. Palmisano

发明人： Dennis R. McKean ,  Robert D. Miller ,  Teddie P. Magbitang ,  James L. Hedrick ,  Craig J. Hawker ,  Willi Volksen ,  Phillip J. Brock ,  Dan J. Dawson ,  Michael W. Chaw ,  Richard I. Palmisano

IPC分类号： G11B21/16

CPC分类号： B29C33/14 ,  B29C39/10 ,  B29C39/36 ,  B29K2025/00 ,  B29K2033/12 ,  B29K2105/0073 ,  G11B5/127 ,  G11B5/4853 ,  Y10T156/1092 ,  Y10T428/24752

摘要： The invention relates generally to the bonding of one or more sliders in styrene and acrylate polymers. More particularly, the invention relates to planarized slider assemblies formed by using debondable solid encapsulants comprised of styrene and acrylate polymers. The invention also relates to methods that use such encapsulants in conjunction with resists to produce magnetic head sliders having patterned air-bearing surfaces.

摘要翻译： 本发明一般涉及在苯乙烯和丙烯酸酯聚合物中粘合一个或多个滑块。 更具体地说，本发明涉及通过使用由苯乙烯和丙烯酸酯聚合物组成的可剥离固体密封剂形成的平面化滑块组件。 本发明还涉及将这种密封剂与抗蚀剂结合使用以产生具有图案化空气轴承表面的磁头滑块的方法。