公开(公告)号：US20100201042A1

公开(公告)日：2010-08-12

申请号：US12762658

申请日：2010-04-19

申请人： Sidlgata V. Sreenivasan ,  Byung J. Choi ,  Norman E. Schumaker ,  Ronald D. Voisin ,  Michael P.C. Watts ,  Mario J. Meissl

发明人： Sidlgata V. Sreenivasan ,  Byung J. Choi ,  Norman E. Schumaker ,  Ronald D. Voisin ,  Michael P.C. Watts ,  Mario J. Meissl

IPC分类号： B29C59/16 ,  B29C59/02 ,  B29C59/00

CPC分类号： B81C1/0046 ,  B82Y10/00 ,  B82Y30/00 ,  B82Y40/00 ,  G03F7/0002

摘要： Methods of forming continuous layers on regions of a substrate are described. Generally, an imprint lithography template may contact liquid positioned on the substrate. The liquid may be cured forming a masking layer, and the imprint lithography template separated from the masking layer. Prior to separation, pressurized gas and/or vacuum may be applied between the template and the substrate. Additionally, during separation, pressurized gas and/or vacuum may be applied between the template and the substrate.

摘要翻译： 描述了在衬底区域上形成连续层的方法。 通常，压印光刻模板可接触位于基底上的液体。 液体可以固化形成掩模层，并且压印光刻模板与掩模层分离。 在分离之前，加压气体和/或真空可以施加在模板和基底之间。 此外，在分离期间，加压气体和/或真空可以施加在模板和基底之间。

公开(公告)号：US07224443B2

公开(公告)日：2007-05-29

申请号：US11389731

申请日：2006-03-27

申请人： Byung-Jin Choi ,  Ronald D. Voisin ,  Sidlgata V. Sreenivasan ,  Michael P. C. Watts ,  Daniel A. Babbs ,  Mario J. Meissl ,  Hillman L. Bailey ,  Norman E. Schumaker

发明人： Byung-Jin Choi ,  Ronald D. Voisin ,  Sidlgata V. Sreenivasan ,  Michael P. C. Watts ,  Daniel A. Babbs ,  Mario J. Meissl ,  Hillman L. Bailey ,  Norman E. Schumaker

IPC分类号： G03B27/62 ,  G03B27/42 ,  G03B27/60 ,  H01L21/4763

CPC分类号： G03F7/70875 ,  B29C33/20 ,  B29C43/003 ,  B29C43/021 ,  B29C43/36 ,  B29C43/58 ,  B29C2043/025 ,  B29C2043/3233 ,  B29C2043/3488 ,  B29C2043/5841 ,  B29D11/00365 ,  G03B27/62 ,  G03F7/707

摘要： The present invention is directed to a chucking system to modulate substrates so as to properly shape and position the same with respect to a wafer upon which a pattern is to be formed with the substrate. The chucking system includes a chuck body having first and second opposed sides. A side surface extends therebetween. The first side includes first and second spaced-apart recesses defining first and second spaced-apart support regions. The first support region cinctures the second support region and the first and second recesses. The second support region cinctures the second recess, with a portion of the body in superimposition with the second recess being transparent to radiation having a predetermined wavelength. The second side and the side surface define exterior surfaces. The body includes throughways placing the first and second recesses in fluid communication with one of the exterior surfaces.

摘要翻译： 本发明涉及一种夹持系统，用于调制基板，以便相对于其上将与基底形成图案的晶片适当地成形和定位基板。 夹持系统包括具有第一和第二相对侧的卡盘体。 侧面在其间延伸。 第一侧包括限定第一和第二间隔开的支撑区域的第一和第二间隔开的凹部。 第一支撑区域使第二支撑区域和第一和第二凹槽成像。 第二支撑区域使第二凹部成像，其中身体的与第二凹部重叠的部分对于具有预定波长的辐射是透明的。 第二面和侧面限定外表面。 主体包括使第一和第二凹槽与外表面之一流体连通的通道。

公开(公告)号：US06980282B2

公开(公告)日：2005-12-27

申请号：US10316963

申请日：2002-12-11

申请人： Byung J. Choi ,  Ronald D. Voisin ,  Sidlgata V. Sreenivasan ,  Michael P. C. Watts ,  C. Grant Willson ,  Norman E. Schumaker ,  Mario J. Meissl

发明人： Byung J. Choi ,  Ronald D. Voisin ,  Sidlgata V. Sreenivasan ,  Michael P. C. Watts ,  C. Grant Willson ,  Norman E. Schumaker ,  Mario J. Meissl

IPC分类号： G03F7/20 ,  G03B27/58 ,  G03B27/60 ,  G03B27/62 ,  H01L21/302

CPC分类号： G03F7/707 ,  G03F7/70875

摘要： The present invention is directed to a method for modulating shapes of a substrate, having first and second opposed surfaces. This is achieved by creating a pressure differential between differing regions of the first opposed surface to attenuate structural distortions in the second opposed surface that results from external forces bearing on the substrate.

摘要翻译： 本发明涉及一种用于调制具有第一和第二相对表面的基底的形状的方法。 这是通过在第一相对表面的不同区域之间产生压差来减少第二相对表面中由轴承在基底上的外力产生的结构变形来实现的。

公开(公告)号：US07019819B2

公开(公告)日：2006-03-28

申请号：US10293224

申请日：2002-11-13

申请人： Byung J. Choi ,  Ronald D. Voisin ,  Sidlgata V. Sreenivasan ,  Michael P. C. Watts ,  Daniel Babbs ,  Mario J. Meissl ,  Hillman Bailey ,  Norman E. Schumaker

发明人： Byung J. Choi ,  Ronald D. Voisin ,  Sidlgata V. Sreenivasan ,  Michael P. C. Watts ,  Daniel Babbs ,  Mario J. Meissl ,  Hillman Bailey ,  Norman E. Schumaker

IPC分类号： G03B27/62 ,  G03B27/42 ,  G03B27/60 ,  H01L21/4763

CPC分类号： G03F7/70875 ,  B29C33/20 ,  B29C43/003 ,  B29C43/021 ,  B29C43/36 ,  B29C43/58 ,  B29C2043/025 ,  B29C2043/3233 ,  B29C2043/3488 ,  B29C2043/5841 ,  B29D11/00365 ,  G03B27/62 ,  G03F7/707

摘要： The present invention is directed to a chucking system to modulate substrates so as to properly shape and position the same with respect to a wafer upon which a pattern is to be formed with the substrate. The chucking system includes a chuck body having first and second opposed sides. A side surface extends therebetween. The first side includes first and second spaced-apart recesses defining first and second spaced-apart support regions. The first support region cinctures the second support region and the first and second recesses. The second support region cinctures the second recess, with a portion of the body in superimposition with the second recess being transparent to radiation having a predetermined wavelength. The second side and the side surface define exterior surfaces. The body includes throughways placing the first and second recesses in fluid communication with one of the exterior surfaces.

摘要翻译： 本发明涉及一种夹持系统，用于调制基板，以便相对于其上将与基底形成图案的晶片适当地成形和定位基板。 夹持系统包括具有第一和第二相对侧的卡盘体。 侧面在其间延伸。 第一侧包括限定第一和第二间隔开的支撑区域的第一和第二间隔开的凹部。 第一支撑区域使第二支撑区域和第一和第二凹槽成像。 第二支撑区域使第二凹部成像，其中身体的与第二凹部重叠的部分对于具有预定波长的辐射是透明的。 第二面和侧面限定外表面。 主体包括使第一和第二凹槽与外表面之一流体连通的通道。

公开(公告)号：US06900881B2

公开(公告)日：2005-05-31

申请号：US10194414

申请日：2002-07-11

申请人： Sidlgata V. Sreenivasan ,  Michael P. C. Watts ,  Byung Jin Choi ,  Mario J. Meissl ,  Norman E. Schumaker ,  Ronald D. Voisin

发明人： Sidlgata V. Sreenivasan ,  Michael P. C. Watts ,  Byung Jin Choi ,  Mario J. Meissl ,  Norman E. Schumaker ,  Ronald D. Voisin

IPC分类号： B29C35/08 ,  B29C59/02 ,  G03F7/00 ,  H01L21/027 ,  G03B27/58 ,  G03B27/02 ,  G03B27/20

CPC分类号： B82Y10/00 ,  B29C35/0888 ,  B29C59/022 ,  B29C2035/0827 ,  B29C2059/023 ,  B81C1/0046 ,  B82Y40/00 ,  G03F7/0002 ,  H01L21/0271

摘要： Described are systems for patterning a substrate by imprint lithography. Imprint lithography systems include an imprint head configured to hold a template in a spaced relation to a substrate. The imprint lithography system is configured to dispense an activating light curable liquid onto a substrate or template. The system includes a light source that applies activating light to cure the activating light curable liquid.

摘要翻译： 描述的是通过压印光刻来图案化衬底的系统。 压印光刻系统包括压印头，其被配置为将模板保持为与衬底间隔开的关系。 压印光刻系统被配置为将激活光可固化液体分配到基底或模板上。 该系统包括施加激活光以固化活化光可固化液体的光源。

公开(公告)号：US09196765B2

公开(公告)日：2015-11-24

申请号：US14716233

申请日：2015-05-19

申请人： Shuqiang Yang ,  Michael N. Miller ,  Mohamed M. Hilali ,  Fen Wan ,  Gerard M. Schmid ,  Liang Wang ,  Sidlgata V. Sreenivasan ,  Frank Y. Xu

发明人： Shuqiang Yang ,  Michael N. Miller ,  Mohamed M. Hilali ,  Fen Wan ,  Gerard M. Schmid ,  Liang Wang ,  Sidlgata V. Sreenivasan ,  Frank Y. Xu

IPC分类号： H01L31/0236 ,  C23C14/34 ,  H01L31/20

CPC分类号： H01L31/02363 ,  B82Y20/00 ,  C23C14/34 ,  H01L31/022466 ,  H01L31/0236 ,  H01L31/035263 ,  H01L31/035281 ,  H01L31/03762 ,  H01L31/0392 ,  H01L31/03921 ,  H01L31/03926 ,  H01L31/0463 ,  H01L31/075 ,  H01L31/076 ,  H01L31/202 ,  Y02E10/548 ,  Y02P70/521

摘要： Systems and methods for fabrication of nanostructured solar cells having arrays of nanostructures are described, including nanostructured solar cells having a repeating pattern of pyramid nanostructures, providing for low cost thin-film solar cells with improved PCE.

摘要翻译： 描述了具有纳米结构阵列的纳米结构太阳能电池的制造系统和方法，包括具有金字塔纳米结构重复图案的纳米结构太阳能电池，为具有改进的PCE的低成本薄膜太阳能电池提供。

公开(公告)号：US08828297B2

公开(公告)日：2014-09-09

申请号：US13290770

申请日：2011-11-07

申请人： Sidlgata V. Sreenivasan ,  Vikramjit Singh ,  Frank Y. Xu ,  Byung-Jin Choi

发明人： Sidlgata V. Sreenivasan ,  Vikramjit Singh ,  Frank Y. Xu ,  Byung-Jin Choi

IPC分类号： B82Y40/00 ,  G03F7/00

CPC分类号： B29C59/022 ,  B82Y10/00 ,  B82Y40/00 ,  G03F7/0002 ,  H01L29/0673

摘要： Methods of making nano-scale structures with geometric cross-sections, including convex or non-convex cross-sections, are described. The approach may be used to directly pattern substrates and/or create imprint lithography templates or molds that may be subsequently used to directly replicate nano-shaped patterns into other substrates, such as into a functional or sacrificial resist to form functional nanoparticles.

摘要翻译： 描述了制造具有几何横截面的纳米级结构的方法，包括凸形或非凸形横截面。 该方法可以用于直接图案化衬底和/或创建压印光刻模板或模具，其可以随后用于将纳米形图案直接复制到其它衬底中，例如形成功能性或牺牲抗蚀剂以形成功能纳米颗粒。

公开(公告)号：US08556616B2

公开(公告)日：2013-10-15

申请号：US13073533

申请日：2011-03-28

申请人： Douglas J. Resnick ,  Mario Johannes Meissl ,  Byung-Jin Choi ,  Sidlgata V. Sreenivasan

发明人： Douglas J. Resnick ,  Mario Johannes Meissl ,  Byung-Jin Choi ,  Sidlgata V. Sreenivasan

IPC分类号： B29C59/02

CPC分类号： H01L21/67126 ,  B82Y10/00 ,  B82Y40/00 ,  G03F7/0002 ,  H01L21/6715

摘要： A nanoimprint lithography template including, inter alia, a body having first and second opposed sides with a first surface disposed on the first side, the second side having a recess disposed therein, the body having first and second regions with the second region surrounding the first region and the recess in superimposition with the first region, with a portion of the first surface in superimposition with the first region being spaced-apart from the second side a first distance and a portion of the first surface in superimposition with the second region being spaced-apart from the second side a second distance, with the second distance being greater than the first distance; and a mold disposed on the first side of the body in superimposition a portion of the first region.

摘要翻译： 一种纳米压印光刻模板，其特别包括具有第一和第二相对侧的主体，第一表面设置在第一侧上，第二侧具有设置在其中的凹部，该主体具有第一和第二区域，第二区域围绕第一 所述凹部与所述第一区域叠加，所述第一表面的与所述第一区域重叠的部分与所述第二侧面间隔开第一距离，并且所述第一表面的与所述第二区域重叠的部分间隔开 从第二侧排出第二距离，第二距离大于第一距离; 以及模具，其设置在所述主体的第一侧上，以叠加所述第一区域的一部分。

公开(公告)号：US08123514B2

公开(公告)日：2012-02-28

申请号：US12717664

申请日：2010-03-04

申请人： Sidlgata V. Sreenivasan ,  Byung-Jin Choi ,  Ronald D. Voisin

发明人： Sidlgata V. Sreenivasan ,  Byung-Jin Choi ,  Ronald D. Voisin

IPC分类号： B29C59/02

CPC分类号： B29C43/003 ,  B29C2043/025 ,  B82Y10/00 ,  B82Y40/00 ,  G03F7/0002 ,  Y10S977/887

摘要： The present invention includes a template for patterning liquids disposed on a substrate. The template includes a body having opposed first and second surfaces with one surface having at least one recess and the other surface having a patterning region. In one embodiment, the template may be mounted to a fluid chamber having an inlet and a throughway. The template may be connected to the throughway and the inlet is connected to a fluid source.

摘要翻译： 本发明包括用于图案化液体的模板，该模板设置在基板上。 模板包括具有相对的第一和第二表面的主体，一个表面具有至少一个凹部，另一个表面具有图案化区域。 在一个实施例中，模板可以安装到具有入口和通道的流体室。 模板可以连接到通道，并且入口连接到流体源。

公开(公告)号：US08066930B2

公开(公告)日：2011-11-29

申请号：US12749552

申请日：2010-03-30

申请人： Sidlgata V. Sreenivasan ,  Michael P. C. Watts

发明人： Sidlgata V. Sreenivasan ,  Michael P. C. Watts

IPC分类号： B29C41/12 ,  B81C1/00

CPC分类号： G03F7/0002 ,  B29C59/02 ,  B82Y10/00 ,  B82Y40/00

摘要： The present invention is directed to a method of forming an imprinting layer on a substrate including high resolution features, and transferring the features into a solidified region of the substrate. Desired thickness of the residual layer may be minimized in addition to visco-elastic behavior of the material.

摘要翻译： 本发明涉及一种在包括高分辨率特征的基板上形成压印层的方法，并将特征转移到基板的固化区域中。 除了材料的粘弹性行为之外，残留层的期望厚度可以最小化。