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    Test pattern, inspection method, and device manufacturing method
    32.
    发明授权
    Test pattern, inspection method, and device manufacturing method 有权
    测试模式，检验方法和器件制造方法

    公开(公告)号：US07151594B2

    公开(公告)日：2006-12-19

    申请号：US10696742

    申请日：2003-10-30

    申请人： Arie Jeffrey Den Boef ,  Hans Van Der Laan ,  Antonius Johannes Josephus Van Dijsseldonk ,  Mircea Dusa ,  Antoine Gaston Marie Kiers

    发明人： Arie Jeffrey Den Boef ,  Hans Van Der Laan ,  Antonius Johannes Josephus Van Dijsseldonk ,  Mircea Dusa ,  Antoine Gaston Marie Kiers

    IPC分类号： G01B9/00

    CPC分类号： G03F7/706

    摘要： In a method according to one embodiment of the invention, aberrations in a lithographic apparatus are detected by printing a test pattern having at least one degree of symmetry and being sensitive to a particular aberration in the apparatus, and using a scatterometer to derive information concerning the aberration. The test structure may comprise a two-bar grating, in which case the inner and outer duty ratios can be reconstructed to derive information indicative of comatic aberration. Alternatively, a hexagonal array of dots can be used, such that scatterometry data can be used to reconstruct dot diameters indicative of 3-wave aberration.

    摘要翻译： 在根据本发明的一个实施例的方法中，通过印刷具有至少一个对称度并对装置中的特定像差敏感的测试图案来检测光刻设备中的像差，并且使用散射仪来得到关于 像差 测试结构可以包括双杆格栅，在这种情况下，可以重建内部和外部占空比以导出指示彗形像差的信息。 或者，可以使用六边形点阵列，使得散射测量数据可以用于重建指示3波像差的点直径。

    Lithographic apparatus, device manufacturing method and device manufactured thereby
    33.
    发明授权
    Lithographic apparatus, device manufacturing method and device manufactured thereby 失效
    平版印刷设备，器件制造方法和由此制造的器件

    公开(公告)号：US06960775B1

    公开(公告)日：2005-11-01

    申请号：US10822865

    申请日：2004-04-13

    申请人： Rene Hubert Jacobus Carpaij ,  Hans Van Der Laan

    发明人： Rene Hubert Jacobus Carpaij ,  Hans Van Der Laan

    IPC分类号： G03F7/20 ,  G03F9/00 ,  G21K5/10 ,  H01J37/08 ,  H01J37/302 ,  H01L21/027

    CPC分类号： G03F7/70425

    摘要： A device manufacturing method using lithographic apparatus, in which method a patterned beam of radiation is projected on to a target portion of a substrate. Prior to exposing the substrate to the patterned beam of radiation a beam of compensating radiation is irradiated on to a predetermined area of the substrate, the beam of compensating radiation having an intensity which varies across said predetermined area. In the described embodiment the beam of compensating radiation is applied to an annular edge region of the substrate and has an intensity which is tilted across the cross-section of the beam so as to increase or decrease in intensity towards the edge of the substrate. This is done to improve the critical dimension (CD) uniformity across the substrate.

    摘要翻译： 一种使用光刻设备的器件制造方法，其中将图案化的辐射束投射到衬底的目标部分上。 在将衬底暴露于图案化的辐射束之前，将补偿辐射束照射到衬底的预定区域上，补偿辐射束具有在所述预定区域上变化的强度。 在所描述的实施例中，补偿辐射束被施加到衬底的环形边缘区域，并且具有横过束的横截面倾斜的强度，以便朝着衬底的边缘增加或减小强度。 这样做是为了提高衬底上的临界尺寸（CD）均匀性。

    Method of measuring aberration of a projection system of a lithographic apparatus, device manufacturing method, and device manufactured thereby
    35.
    发明授权
    Method of measuring aberration of a projection system of a lithographic apparatus, device manufacturing method, and device manufactured thereby 有权
    测量光刻设备的投影系统的像差的方法，器件制造方法和由此制造的器件

    公开(公告)号：US06787789B2

    公开(公告)日：2004-09-07

    申请号：US10225458

    申请日：2002-08-22

    申请人： Hans Van Der Laan

    发明人： Hans Van Der Laan

    IPC分类号： G03B2742

    CPC分类号： G03F7/706

    摘要： A method of determining aberration of a projection system according to one embodiment of the invention includes using a test pattern to pattern a projection beam of radiation, using the projection system to project the patterned beam, and directly measuring an aerial image of the test pattern as formed by the projection system. The test pattern includes a two-dimensional lattice comprising a plurality of unit cells, each unit cell including at least three isolated areas. At least one of a transmissivity, a reflectivity, and a phase-shifting property of the isolated areas is substantially different from that of a remainder of the area of the unit cell.

    摘要翻译： 根据本发明的一个实施例的确定投影系统的像差的方法包括使用测试图案来对辐射束进行图案化，使用投影系统投射图案化的光束，并且直接测量测试图案的空中图像，如 由投影系统形成。 测试图案包括包括多个单位单元的二维网格，每个单位单元包括至少三个隔离区域。 隔离区域的透射率，反射率和相移特性中的至少一个与单元电池的其余部分的透射率，反射率和相移特性中的至少一个基本不同。

    Illumination unit for an optical apparatus
    36.
    发明授权
    Illumination unit for an optical apparatus 失效
    用于光学设备的照明单元

    公开(公告)号：US6028660A

    公开(公告)日：2000-02-22

    申请号：US684873

    申请日：1996-07-25

    申请人： Hans Van Der Laan ,  Johannes C. H. Mulkens ,  Judocus M. D. Stoeldrayer

    发明人： Hans Van Der Laan ,  Johannes C. H. Mulkens ,  Judocus M. D. Stoeldrayer

    IPC分类号： G03F7/22 ,  G02B27/09 ,  G02B27/14 ,  G03F7/20 ,  H01L21/027 ,  G03B27/42 ,  G02B26/08 ,  G03B27/54

    CPC分类号： G03F7/70058 ,  G03F7/70066 ,  G03F7/70075 ,  G03F7/70558 ,  G03F7/7085

    摘要： Illumination unit (2) for an optical system, including an illumination system (1) which comprises, in this order, a radiation source (3) and a first optical integrator (11). The illumination unit (2) further comprises a detection system (45) including a radiation-sensitive detector (47). The illumination system (1) comprises a second optical integrator (13). The two integrators (11, 13) enclose a prism system (15) comprising at least one prism (17). The prism system (15) has a coupling-out surface via which light can be coupled out of the illumination system (1), and an exit surface via which light can be coupled out of the prism system (15), without the intensity in the main light path being essentially influenced. The detection system (45) is arranged proximate to the exit surface of the prism system (15) and comprises light-integrating means.

    摘要翻译： 一种用于光学系统的照明单元（2），包括照明系统（1），其依次包括辐射源（3）和第一光学积分器（11）。 照明单元（2）还包括包括辐射敏感检测器（47）的检测系统（45）。 照明系统（1）包括第二光学积分器（13）。 两个积分器（11,13）包围包括至少一个棱镜（17）的棱镜系统（15）。 棱镜系统（15）具有耦合出的表面，通过该耦合输出表面，光可以耦合到照明系统（1）外，出射表面可以通过该出射表面将光耦合到棱镜系统（15）之外，而没有强度 主光线基本上受到影响。 检测系统（45）布置成靠近棱镜系统（15）的出射表面并且包括光集成装置。