公开(公告)号：US08054467B2

公开(公告)日：2011-11-08

申请号：US12805852

申请日：2010-08-20

申请人： Arie Jeffrey Maria Den Boef ,  Arno Jan Bleeker ,  Youri Johannes Laurentius Maria Van Dommelen ,  Mircea Dusa ,  Antoine Gaston Marie Kiers ,  Paul Frank Luehrmann ,  Henricus Petrus Maria Pellemans ,  Maurits Van Der Schaar ,  Cedric Desire Grouwstra ,  Markus Gerardus Martinus Van Kraaij

发明人： Arie Jeffrey Maria Den Boef ,  Arno Jan Bleeker ,  Youri Johannes Laurentius Maria Van Dommelen ,  Mircea Dusa ,  Antoine Gaston Marie Kiers ,  Paul Frank Luehrmann ,  Henricus Petrus Maria Pellemans ,  Maurits Van Der Schaar ,  Cedric Desire Grouwstra ,  Markus Gerardus Martinus Van Kraaij

IPC分类号： G01J3/45

CPC分类号： G01N21/8806 ,  G03F7/70341 ,  G03F7/70633 ,  G03F7/7065 ,  G03F9/7034

摘要： An apparatus and method to determine a property of a substrate by measuring, in the pupil plane of a high numerical aperture lens, an angle-resolved spectrum as a result of radiation being reflected off the substrate. The property may be angle and wavelength dependent and may include the intensity of TM- and TE-polarized radiation and their relative phase difference.

摘要翻译： 通过在高数值孔径透镜的光瞳平面中测量作为辐射的结果的角度分辨光谱从衬底反射来确定衬底的性质的装置和方法。 该属性可以是角度和波长相关的，并且可以包括TM和TE偏振辐射的强度及其相对相位差。

公开(公告)号：US07894038B2

公开(公告)日：2011-02-22

申请号：US11717786

申请日：2007-03-14

申请人： Alex Oudshoorn ,  Roland Blok

发明人： Alex Oudshoorn ,  Roland Blok

IPC分类号： G03B27/42

CPC分类号： G03F7/70725 ,  G03F9/7003 ,  G03F9/7026 ,  G03F9/7034

摘要： A device manufacturing method includes exposing a substrate with a patterned beam of radiation formed by a reticle mounted on a displaceable reticle stage, determining a non-linear function for approximating a height and a tilt profile of a surface of the reticle with respect to the reticle stage, and controlling a displacement of the reticle stage during exposure of the substrate in accordance with the non-linear function.

摘要翻译： 一种器件制造方法，包括用安装在可移位标线片平台上的标线片形成的图案化的辐射束暴露衬底，确定用于近似光掩模的表面相对于光罩的高度和倾斜分布的非线性函数 并且根据非线性函数控制在衬底曝光期间标线片台的位移。

公开(公告)号：US20110032504A1

公开(公告)日：2011-02-10

申请号：US12840553

申请日：2010-07-21

申请人： Ryo Sasaki

发明人： Ryo Sasaki

IPC分类号： G03B27/58 ,  G01B11/02

CPC分类号： G01B9/02028 ,  G01B9/02022 ,  G01B9/0209 ,  G01B11/2441 ,  G01B2290/45 ,  G03B27/58 ,  G03F9/7034

摘要： The present invention provides a measurement apparatus which measures a height of a test surface, the apparatus including an image sensing device including a plurality of detection units configured to detect interfering light formed by measurement light from the test surface and reference light from a reference surface, and an optical system configured to guide the measurement light and the reference light to the plurality of detection units, wherein the reference surface is placed such that differences are generated among optical path differences between measurement light beams and reference light beams which enter the plurality of detection units, respectively.

摘要翻译： 本发明提供了一种测量测试表面的高度的测量装置，该装置包括一个图像感测装置，该图像感测装置包括多个检测单元，该多个检测单元被配置为检测由来自测试表面的测量光形成的干扰光和来自参考表面的参考光， 以及光学系统，被配置为将测量光和参考光引导到所述多个检测单元，其中所述参考表面被放置成使得在测量光束和参考光束之间的光程差之间产生差异，所述参考光进入所述多个检测 单位。

公开(公告)号：US20100233600A1

公开(公告)日：2010-09-16

申请号：US12722955

申请日：2010-03-12

申请人： Arie Jeffrey DEN BOEF ,  Jozef Petrus Henricus Benschop ,  Ralph Brinkhof ,  Lukasz Jerzy Macht

发明人： Arie Jeffrey DEN BOEF ,  Jozef Petrus Henricus Benschop ,  Ralph Brinkhof ,  Lukasz Jerzy Macht

IPC分类号： G03F7/20 ,  G01B11/14 ,  G03B27/54

CPC分类号： G03F9/7034 ,  G03F9/7065 ,  G03F9/7088

摘要： A level sensor arrangement is useable for measuring a height of a surface of a substrate in a lithographic apparatus. The level sensor arrangement is provided with a light source emitting detection radiation towards the substrate, and a detector unit for measuring radiation reflected from the substrate in operation. The light source is arranged to emit detection radiation in a wavelength range in which a resist to be used for processing the substrate in the lithographic apparatus is sensitive.

摘要翻译： 液位传感器装置可用于测量光刻设备中的基板表面的高度。 液位传感器装置设置有朝向基板发射检测辐射的光源，以及用于在操作中测量从基板反射的辐射的检测器单元。 光源布置成在光刻设备中用于处理基板的抗蚀剂敏感的波长范围内发射检测辐射。

公开(公告)号：US07795603B2

公开(公告)日：2010-09-14

申请号：US12318036

申请日：2008-12-19

申请人： Joeri Lof ,  Joannes Theodoor De Smit ,  Roelof Aeilko Siebrand Ritsema ,  Klaus Simon ,  Theodorus Marinus Modderman ,  Johannes Catharinus Hubertus Mulkens ,  Hendricus Johannes Maria Meijer ,  Erik Roelof Loopstra

发明人： Joeri Lof ,  Joannes Theodoor De Smit ,  Roelof Aeilko Siebrand Ritsema ,  Klaus Simon ,  Theodorus Marinus Modderman ,  Johannes Catharinus Hubertus Mulkens ,  Hendricus Johannes Maria Meijer ,  Erik Roelof Loopstra

IPC分类号： G01N21/86 ,  G03B27/42

CPC分类号： G03F7/70341 ,  G03F7/707 ,  G03F7/7085 ,  G03F9/7003 ,  G03F9/7034 ,  G03F9/7088

摘要： A map of the surface of a substrate is generated at a measurement station. The substrate is then moved to where a space between a projection lens and the substrate is filled with a liquid. The substrate is then aligned using, for example, a transmission image sensor and, using the previous mapping, the substrate can be accurately exposed. Thus the mapping does not take place in a liquid environment.

摘要翻译： 在测量站产生衬底表面的图。 然后将衬底移动到投影透镜和衬底之间的空间被液体填充到的位置。 然后使用例如透射图像传感器对衬底进行对准，并且使用先前的映射可以准确地暴露衬底。 因此，映射不会发生在液体环境中。

公开(公告)号：US07704826B2

公开(公告)日：2010-04-27

申请号：US11483497

申请日：2006-07-10

申请人： Jong-Ho Lim

发明人： Jong-Ho Lim

IPC分类号： H01L21/8242

CPC分类号： G03F9/7003 ,  G03F9/7034

摘要： A method of reading surface levels of a field defined on a substrate using a sensing apparatus having at least one cell array composed of a plurality of cells, in which some of the cells constituting the at least one cell array are selected and designated as available cells. Light is radiated onto a surface of the field. Light reflected to the available cells from the surface is sensed to extract available level signals. The available level signals may be calculated to read the surface level of the field. The surface level of the field are used in a method of controlling the level of an exposure apparatus controlling the substrate mounted on a leveling stage in up, down, right, left, front, back, and rotational directions using the surface level.

摘要翻译： 使用具有由多个单元组成的至少一个单元阵列的感测装置读取在基板上限定的场的表面电平的方法，其中构成所述至少一个单元阵列的一些单元被选择并被指定为可用单元 。 光被辐射到场地的表面上。 感测从表面反射到可用单元的光以提取可用电平信号。 可以计算可用电平信号以读取场的表面电平。 场的表面水平用于控制使用表面水平控制安装在调平台上的基板的曝光装置的水平的方法，所述曝光装置使用上下左右，前，后，后的方向。

公开(公告)号：US20100086865A1

公开(公告)日：2010-04-08

申请号：US12591925

申请日：2009-12-04

申请人： Masayuki Shiraishi

发明人： Masayuki Shiraishi

IPC分类号： G03F7/20 ,  G03B27/54 ,  G03B27/72 ,  G01B11/02

CPC分类号： G03F7/7085 ,  G03F7/706 ,  G03F9/7034 ,  G03F9/7076

摘要： A measuring member has a first face and a plurality of first marks arranged on the first face. The first marks have respective orientations corresponding to their positions in a first direction.

摘要翻译： 测量构件具有布置在第一面上的第一面和多个第一标记。 第一标记具有对应于它们在第一方向上的位置的各自的取向。

公开(公告)号：US07684050B2

公开(公告)日：2010-03-23

申请号：US11942348

申请日：2007-11-19

申请人： Takahiro Matsumoto ,  Ryo Sasaki

发明人： Takahiro Matsumoto ,  Ryo Sasaki

IPC分类号： G01B11/02

CPC分类号： G01B11/2441 ,  G03F9/7026 ,  G03F9/7034

摘要： A shape measuring method for measuring a surface shape of a measurement target includes dividing light from a light source into measurement light and reference light, the measurement light being obliquely incident upon a surface of the measurement target, the reference light being incident upon a reference mirror, introducing the measurement light reflected by the measurement target and the reference light reflected by the reference mirror to a photoelectric conversion element, detecting interference light formed by the measurement light and the reference light by the photoelectric conversion element while moving the measurement target, and measuring the surface shape of the measurement target based on an interference signal obtained from the measurement light that has been reflected at the same position on the surface of the measurement target.

摘要翻译： 用于测量测量对象的表面形状的形状测量方法包括将来自光源的光分成测量光和参考光，测量光倾斜地入射到测量对象的表面上，参考光入射到参考反射镜 将由测量对象反射的测量光和由参考反射镜反射的参考光引入光电转换元件，在移动测量目标的同时检测由光电转换元件测量的光和参考光形成的干涉光，并测量 基于从已经在测量对象的表面上的相同位置反射的测量光获得的干涉信号来测量目标的表面形状。

公开(公告)号：US20090323036A1

公开(公告)日：2009-12-31

申请号：US12466934

申请日：2009-05-15

申请人： Yasuhiro HIDAKA ,  Motofusa Ishikawa

发明人： Yasuhiro HIDAKA ,  Motofusa Ishikawa

IPC分类号： G03B27/42 ,  G01B11/14 ,  G03B27/32

CPC分类号： G03F9/7049 ,  G03F9/7026 ,  G03F9/7034

摘要： An apparatus is provided with a light-sending optical system which makes first light from a first pattern and second light from a second pattern incident to a predetermined surface to project intermediate images of the first and second patterns onto the predetermined surface respectively; a light-receiving optical system which guides the first and second light reflected on the predetermined surface, to first and second observation surfaces to form observation images of the first and second patterns, respectively; and a detecting section which detects position information of the observation images of the first and second patterns on the first and second observation surfaces respectively and which calculates a surface position of the predetermined surface, based on the position information. The light-sending optical system projects the intermediate image of the second pattern as an inverted image in a predetermined direction relative to the intermediate image of the first pattern.

摘要翻译： 一种装置设置有发光光学系统，其使来自第一图案的第一光和从入射到预定表面的第二图案的第二光分别将第一和第二图案的中间图像投影到预定表面上; 光接收光学系统，其将在预定表面上反射的第一和第二光引导到第一和第二观察表面，以分别形成第一和第二图案的观察图像; 以及检测部分，其基于所述位置信息分别检测所述第一和第二观察表面上的所述第一和第二图案的观察图像的位置信息，并且计算所述预定表面的表面位置。 发光光学系统相对于第一图案的中间图像将预定方向的第二图案的中间图像投影为反转图像。

公开(公告)号：US07616327B2

公开(公告)日：2009-11-10

申请号：US11909069

申请日：2006-03-17

申请人： Jean-Luc Michelin

发明人： Jean-Luc Michelin

IPC分类号： G01B11/14 ,  G01J1/00

CPC分类号： G03F9/7049 ,  G03F9/7026 ,  G03F9/7034 ,  G03F9/7065 ,  G03F9/7088

摘要： An optical triangulation measuring device includes an emmiter that emits two alternating light beams with different wavelengths along the same path; a beam splitter; an optical separator that directs the alternating split beams towards the surfaces from which they are reflected; an optical combiner that collects the beams and directs them along a path; optronic sensors that receive two light images and to deliver a signal indicating the position of the energy barycenter a time synchronizer for the two alternating beams and the two images on the optronic sensors; and a processor for processing the signals from the optronic sensors in order to supply information relating to the position and inclination of the surface.

摘要翻译： 光学三角测量装置包括发射器，其沿同一路径发射具有不同波长的两个交替光束; 分束器; 光学分离器，其将交替的分束射向它们被反射的表面; 收集光束并沿着路径引导光束的光学组合器; 光电传感器接收两个光图像并且传送指示能量重心位置的信号，用于两个交替光束的时间同步器和光电传感器上的两个图像; 以及用于处理来自光电传感器的信号的处理器，以便提供与表面的位置和倾斜有关的信息。