公开(公告)号：US20140004467A1

公开(公告)日：2014-01-02

申请号：US14003708

申请日：2012-03-07

申请人： Tomoyuki Hirano ,  Daichi Takaki ,  Daiju Shiono ,  Kenri Konno ,  Isamu Takagi

发明人： Tomoyuki Hirano ,  Daichi Takaki ,  Daiju Shiono ,  Kenri Konno ,  Isamu Takagi

IPC分类号： G03F7/32

CPC分类号： G03F7/325 ,  C08F220/24 ,  C08F220/28 ,  C08F220/38 ,  C08F224/00 ,  C08F226/02 ,  C08F228/06 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/0397 ,  G03F7/2041

摘要： A method of forming a resist pattern including: forming a resist film on a substrate using a resist composition containing a base component (A) which exhibits decreased solubility in an organic solvent by action of an acid; exposing the resist film; and patterning by a negative-tone development using a developing solution containing the organic solvent, wherein the base component (A) contains a resin component (A1) having a structural unit (a0) which generates acid upon exposure and a structural unit (a1) derived from an acrylate ester which may have the hydrogen atom bonded to the carbon atom on the α-position substituted with a substituent and contains an acid decomposable group which exhibits increased polarity by the action of acid, and the developing solution contains a nitrile solvent.

摘要翻译： 一种形成抗蚀剂图案的方法，包括：使用含有通过酸作用在有机溶剂中溶解度降低的基础组分（A）的抗蚀剂组合物在基材上形成抗蚀剂膜; 曝光抗蚀膜; 以及使用含有有机溶剂的显影液进行负色发展的图案化，其中，所述基材（A）含有具有曝光时产生酸的结构单元（a0）的树脂成分（A1）和结构单元（a1） 衍生自可以具有与被取代基取代的在α位上的碳原子键合的氢原子的丙烯酸酯，并且含有通过酸作用显示出极性增加的酸分解基团，显影液含有腈溶剂。

公开(公告)号：US20130084528A1

公开(公告)日：2013-04-04

申请号：US13599398

申请日：2012-08-30

申请人： Jun Hatakeyama ,  Koji Hasegawa

发明人： Jun Hatakeyama ,  Koji Hasegawa

IPC分类号： C08F220/68 ,  G03F7/004 ,  C08F228/06 ,  C08F232/08 ,  C08F234/02 ,  C08F228/04 ,  G03F7/20

CPC分类号： C08F220/68 ,  C08F220/22 ,  C08F228/04 ,  C08F228/06 ,  C08F232/08 ,  C08F234/02 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/0392 ,  G03F7/0397 ,  Y10S430/111

摘要： A positive resist composition comprising a polymer having carboxyl groups substituted with an acid labile group having formula (1) exhibits a high contrast of alkaline dissolution rate before and after exposure, a high resolution, a reduced acid diffusion rate, and forms a pattern with good profile, minimal edge roughness, and etch resistance. In formula (1), R1 is methylene or ethylene, R2 is alkyl, aryl, or alkenyl, which may contain oxygen or sulfur, R3 is fluorine or trifluoromethyl, and m is an integer of 1 to 4.

摘要翻译： 包含具有由具有式（1）的酸不稳定基团取代的羧基的聚合物的正型抗蚀剂组合物在曝光前后显示出高的对比度的碱溶解速率，高分辨率，降低的酸扩散速率，并形成良好的图案 轮廓，最小边缘粗糙度和耐蚀刻性。 在式（1）中，R 1是亚甲基或亚乙基，R 2是可以含有氧或硫的烷基，芳基或烯基，R 3是氟或三氟甲基，m是1至4的整数。

公开(公告)号：US20120282551A1

公开(公告)日：2012-11-08

申请号：US13402820

申请日：2012-02-22

申请人： Kensuke MATSUZAWA ,  Jun IWASHITA ,  Yoshitaka KOMURO ,  Masatoshi ARAI

发明人： Kensuke MATSUZAWA ,  Jun IWASHITA ,  Yoshitaka KOMURO ,  Masatoshi ARAI

IPC分类号： C08F228/06 ,  C08F228/02 ,  G03F7/20

CPC分类号： G03F7/0045 ,  C08F220/18 ,  C08F220/28 ,  C08F220/38 ,  C08F228/06 ,  C08F2220/382 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/0397 ,  G03F7/2039 ,  G03F7/38

摘要： A resist composition including a resin component which generates acid upon exposure and exhibits changed solubility in a developing solution under the action of acid, the resin component including a resin component having a structural unit represented by a general formula (a0-0-1) shown below in which R represents a hydrogen atom, an alkyl group of 1 to 5 carbon atoms or a halogenated alkyl group of 1 to 5 carbon atoms, R0-1 represents a single bond or a divalent linking group, each of R2, R3 and R4 independently represents a linear, branched or cyclic alkyl group which may have a non-aromatic substituent, or R3 and R4 may be bonded to each other to form a ring together with the sulfur atom, and X represents a non-aromatic divalent linking group or a single bond.

摘要翻译： 一种抗蚀剂组合物，其包含在曝光后产生酸的树脂组分，并且在酸的作用下在显影液中显示出改变的溶解性，所述树脂组分包括具有由通式（a0-0-1）表示的结构单元的树脂组分 其中R表示氢原子，1至5个碳原子的烷基或1至5个碳原子的卤代烷基，R 0-1表示单键或二价连接基团，R 2，R 3和R 4各自 独立地表示可以具有非芳香族取代基的直链状，支链状或环状的烷基，或者R3和R4可以与硫原子一起形成环，X表示非芳香族二价连接基团或 单一债券。

公开(公告)号：US08173045B2

公开(公告)日：2012-05-08

申请号：US12474174

申请日：2009-05-28

申请人： Kwan-Yue Jen ,  Zhengwei Shi ,  Jingdong Luo ,  Su Huang ,  Xinghua Zhou

发明人： Kwan-Yue Jen ,  Zhengwei Shi ,  Jingdong Luo ,  Su Huang ,  Xinghua Zhou

IPC分类号： H01B1/12 ,  C08F34/00 ,  C07D333/00

CPC分类号： G02F1/3614 ,  C08F222/1006 ,  C08F228/06 ,  C08G83/002

摘要： Diels-Alder crosslinkable dendritic nonlinear optical chromophore compounds, films and crosslinked polymer composites formed from the chromophore compounds, methods for making and using the chromophore compounds, films, and crosslinked polymer composites, and electro-optic devices that include films and crosslinked polymer composites formed from the chromophore compounds.

摘要翻译： Diels-Alder可交联树枝状非线性光学发色团化合物，由发色团化合物形成的膜和交联聚合物复合物，制备和使用发色团化合物，膜和交联聚合物复合材料的方法以及形成膜和交联聚合物复合材料的电光器件 从发色团化合物。

公开(公告)号：US20110281921A1

公开(公告)日：2011-11-17

申请号：US13130089

申请日：2009-11-19

申请人： Morris Srebnik ,  Itzhack Polacheck ,  Doron Steinberg ,  Adel Jabbour ,  Edward Sionov

发明人： Morris Srebnik ,  Itzhack Polacheck ,  Doron Steinberg ,  Adel Jabbour ,  Edward Sionov

IPC分类号： A61K31/426 ,  C07D207/448 ,  A61P31/00 ,  A01N43/78 ,  A01N43/36 ,  A01P1/00 ,  C07D277/34 ,  A61K31/4015

CPC分类号： C07D277/34 ,  A01N37/32 ,  A01N43/50 ,  A01N43/76 ,  A01N43/78 ,  C07D207/448 ,  C08F220/14 ,  C08F220/56 ,  C08F222/40 ,  C08F228/06 ,  C08G65/33337 ,  C08G65/3348 ,  A01N43/653 ,  A01N2300/00

摘要： Novel agents exhibiting anti-biofilm formation activity while being non-cytotoxic are provided, as well as methods of using the same, either per se or conjugated to a polymer, for preventing and/or reducing the formation of microbial biofilms and/or for disrupting microbial biofilms. The novel agents described herein include thiazolidine-2,4-diones (TZDs), pyrrolidine-2,5-diones (PYDs), imidazolidine-2,4-diones or oxazolidine-2,4-diones, substituted by an alkyl having 7-20 carbon atoms in its backbone chain.

摘要翻译： 提供了表现出抗细胞毒性的抗生物膜形成活性的新型药剂，以及其本身或与聚合物共轭的方法，用于预防和/或减少微生物生物膜的形成和/或用于破坏 微生物生物膜。 本文所述的新型试剂包括噻唑烷-2,4-二酮（TZD），吡咯烷-2,5-二酮（PYD），咪唑烷-2,4-二酮或恶唑烷-2,4-二酮，其被具有7个 -20个碳原子在其主链。

公开(公告)号：US20100196821A1

公开(公告)日：2010-08-05

申请号：US12687430

申请日：2010-01-14

申请人： Takahiro Dazai ,  Daiju Shiono ,  Tomoyuki Hirano ,  Tasuku Matsumiya ,  Masaru Takeshita

发明人： Takahiro Dazai ,  Daiju Shiono ,  Tomoyuki Hirano ,  Tasuku Matsumiya ,  Masaru Takeshita

IPC分类号： G03F7/20 ,  G03F7/004 ,  C08F220/26 ,  C08F228/06

CPC分类号： C08F220/26 ,  C08F228/06 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/0397

摘要： A positive resist composition including a base component (A) which exhibits changed solubility in an alkali developing solution under the action of acid and an acid-generator component (B) which generates acid upon exposure dissolved in an organic solvent (S), the base component (A) containing a polymeric compound (A1) including a structural unit (a0) derived from an acrylate ester having a cyclic group containing a sulfonyl group on the side chain thereof, a structural unit (a1) derived from an acrylate ester containing an acid dissociable, dissolution inhibiting group and a structural unit (a5) represented by general formula (a5-1) (Y1 represents an aliphatic hydrocarbon group; Z represents a monovalent organic group; a represents an integer of 1 to 3, and b represents an integer of 0 to 2, provided that a+b=1 to 3).

摘要翻译： 一种正性抗蚀剂组合物，其包含在碱的作用下在碱性显影液中的溶解度变化的碱成分（A）和暴露于有机溶剂（S）时产生酸的酸产生剂成分（B），所述碱 含有由侧链上具有含有磺酰基的环状基团的丙烯酸酯衍生的结构单元（a0）的高分子化合物（A1）的组分（A），来源于丙烯酸酯的结构单元（a1） 酸解离，溶解抑制基团和由通式（a5-1）表示的结构单元（a5）（Y1表示脂族烃基; Z表示一价有机基团; a表示1〜3的整数，b表示 0〜2的整数，条件是a + b = 1〜3）。

公开(公告)号：US20100117030A1

公开(公告)日：2010-05-13

申请号：US11375581

申请日：2006-03-15

申请人： Richard D. McCullough ,  Genevieve Sauve ,  Mihaela Iovu ,  Malika Jeffries-El

发明人： Richard D. McCullough ,  Genevieve Sauve ,  Mihaela Iovu ,  Malika Jeffries-El

IPC分类号： H01B1/12 ,  C08F228/06

CPC分类号： H01B1/127 ,  C08F228/06

摘要： Novel polymer compositions which provide controlled end-group functionalization for polythiophenes including regioregular polythiophenes including alkenyl and alkynyl functionalization. Monocapped polymers are formed and can be converted to block copolymers. Conditions and reagents can be selected to provide more monocapping than dicapping of the polymer. Devices, films, and blends can be prepared.

摘要翻译： 提供对聚噻吩的受控端基官能化的新型聚合物组合物，其包括包括链烯基和炔基官能化的区域定向聚噻吩。 形成单体聚合物并可以转化为嵌段共聚物。 可以选择条件和试剂以提供比聚合物的缠绕更多的单相。 可以制备设备，薄膜和混合物。

公开(公告)号：US20060151782A1

公开(公告)日：2006-07-13

申请号：US11373890

申请日：2006-03-13

申请人： Andrew Holmes ,  Xiao-Chang Li ,  Stephen Moratti ,  Kenneth Murray ,  Richard Friend

发明人： Andrew Holmes ,  Xiao-Chang Li ,  Stephen Moratti ,  Kenneth Murray ,  Richard Friend

IPC分类号： H01L29/08 ,  C08L53/02 ,  H01L35/24

CPC分类号： H05B33/14 ,  C08F128/06 ,  C08F220/18 ,  C08F220/30 ,  C08F220/36 ,  C08F228/06 ,  C08G61/00 ,  C08G61/02 ,  C08G61/12 ,  C08G61/126 ,  C09K11/06 ,  H01L51/0003 ,  H01L51/0035 ,  H01L51/0036 ,  H01L51/0038 ,  H01L51/004 ,  H01L51/0043 ,  H01L51/007 ,  H01L51/5012 ,  H01L51/5048 ,  H05B33/10

摘要： Optical devices fabricated from solvent processible polymers suffer from susceptibility to solvents and morphological changes. A semiconductive polymer capable of luminescence in an optical device is provided. The polymer comprises a luminescent film-forming solvent processible polymer which contains cross-linking so as to increase its molar mass and to resist solvent dissolution, the cross-linking being such that the polymer retains semiconductive and luminescent properties.

公开(公告)号：US20040059077A1

公开(公告)日：2004-03-25

申请号：US10642097

申请日：2003-08-15

申请人： Cambridge Display Technology Ltd.

发明人： Andrew Bruce Holmes ,  Xiao-Chang Li ,  Stephen Carl Moratti ,  Kenneth Andrew Murray ,  Richard Henry Friend

IPC分类号： C08F004/04

CPC分类号： H05B33/14 ,  C08F128/06 ,  C08F220/18 ,  C08F220/30 ,  C08F220/36 ,  C08F228/06 ,  C08G61/00 ,  C08G61/02 ,  C08G61/12 ,  C08G61/126 ,  C09K11/06 ,  H01L51/0003 ,  H01L51/0035 ,  H01L51/0036 ,  H01L51/0038 ,  H01L51/004 ,  H01L51/0043 ,  H01L51/007 ,  H01L51/5012 ,  H01L51/5048 ,  H05B33/10

摘要： Optical devices fabricated from solvent processible polymers suffer from susceptibility to solvents and morphological changes. A semiconductive polymer capable of luminescence in an optical device is provided. The polymer comprises a luminescent film-forming solvent processible polymer which contains cross-linking so as to increase its molar mass and to resist solvent dissolution, the cross-linking being such that the polymer retains semiconductive and luminescent properties.

摘要翻译： 由溶剂可加工聚合物制成的光学器件易受溶剂和形态的影响。 提供了能够在光学装置中发光的半导体聚合物。 该聚合物包含含有交联以增加其摩尔质量和抵抗溶剂溶解的发光成膜溶剂可加工聚合物，交联使得聚合物保持半导体和发光性质。

公开(公告)号：US5545703A

公开(公告)日：1996-08-13

申请号：US332980

申请日：1994-11-01

申请人： Nicholas T. Castellucci

发明人： Nicholas T. Castellucci

IPC分类号： C07C45/59 ,  C07C261/04 ,  C08F20/50 ,  C08F228/06

CPC分类号： C08F228/06 ,  C07C261/04 ,  C07C45/59 ,  C08F20/50

摘要： Polymeric compositions having inherent electroconductive properties and unsaturated electron-donor and electron-receptor polymerizable monomers for producing such compositions in the form of blends of homopolymers of such monomers or as copolymers of such monomers.

摘要翻译： 具有固有导电性质的聚合物组合物和不饱和电子给体和电子受体可聚合单体，用于以这种单体的均聚物的共混物或这些单体的共聚物的形式制备这种组合物。