公开(公告)号：US20060291062A1

公开(公告)日：2006-12-28

申请号：US11416447

申请日：2006-05-02

申请人： Wolfgang Singer ,  Wilhelm Egle ,  Markus Weiss ,  Joachim Hainz ,  Joachim Wietzorrek ,  Johannes Wangler ,  Frank Melzer ,  Bernhard Gellrich ,  Bernhard Geuppert ,  Erich Schubert ,  Martin Antoni

发明人： Wolfgang Singer ,  Wilhelm Egle ,  Markus Weiss ,  Joachim Hainz ,  Joachim Wietzorrek ,  Johannes Wangler ,  Frank Melzer ,  Bernhard Gellrich ,  Bernhard Geuppert ,  Erich Schubert ,  Martin Antoni

IPC分类号： G02B27/10

CPC分类号： B82Y10/00 ,  G02B5/09 ,  G02B7/182 ,  G02B17/006 ,  G02B19/0023 ,  G02B19/0047 ,  G02B19/0095 ,  G03F7/70158 ,  G03F7/70166 ,  G03F7/70175 ,  G03F7/702 ,  G03F7/70233 ,  G03F7/70358 ,  G03F7/70825 ,  G21K1/06 ,  G21K5/04

摘要： There is provided a projection exposure system operable in a scanning mode along a scanning direction. The projection exposure system includes a collector that receives light having a wavelength 193 nm and illuminates a region in a plane. The plane is defined by a local coordinate system having a y-direction parallel to the scanning direction and an x-direction perpendicular to the scanning direction. The collector includes (a) a first mirror shell, (b) a second mirror shell within the first mirror shell, and (c) a fastening device for fastening the first and second mirror shells. The mirror shells are substantially rotational symmetric about a common rotational axis. The fastening device has a support spoke that extends in a radial direction of the mirror shells, and the support spoke, when projected into the plane, yields a projection that is non-parallel to the y-direction.

摘要翻译： 提供了沿着扫描方向以扫描模式操作的投影曝光系统。 投影曝光系统包括：收集器，其接收波长为193nm的光并照射平面中的区域。 平面由具有与扫描方向平行的y方向和垂直于扫描方向的x方向的局部坐标系限定。 收集器包括（a）第一镜壳，（b）第一镜壳内的第二镜壳，以及（c）用于紧固第一镜壳和第二镜壳的紧固装置。 镜壳基本上围绕公共旋转轴线旋转对称。 紧固装置具有在镜壳的径向方向上延伸的支撑辐条，并且当​​投影到平面中时支撑辐条产生不平行于y方向的突起。

公开(公告)号：US20060017894A1

公开(公告)日：2006-01-26

申请号：US10896000

申请日：2004-07-22

申请人： Tjarko Adriaan Van Empel ,  Erik Loopstra ,  Antonius Van Der Net ,  Yuri Johannes Van De Vijver ,  Bernhard Gellrich ,  Bauke Jansen ,  Rens Sanderse

发明人： Tjarko Adriaan Van Empel ,  Erik Loopstra ,  Antonius Van Der Net ,  Yuri Johannes Van De Vijver ,  Bernhard Gellrich ,  Bauke Jansen ,  Rens Sanderse

IPC分类号： G03B27/52

CPC分类号： G03F7/70933 ,  G03F7/70908

摘要： A lithographic apparatus is disclosed. The apparatus includes a projection system configured to project a patterned radiation beam onto a target portion of a substrate. The projection system includes a housing and a plurality of optical elements arranged in the housing. The apparatus also includes an inlet for feeding conditioned gas to the housing and a gas exhaust for exhausting the conditioned gas from the housing for providing a gas conditioned environment in the housing. At least one gate is provided for providing communication of the gas conditioned environment with ambient atmosphere. The gate is arranged to provide a predetermined leakage of the conditioned gas to the ambient atmosphere.

摘要翻译： 公开了一种光刻设备。 该装置包括投影系统，其配置成将图案化的辐射束投影到基板的目标部分上。 投影系统包括壳体和布置在壳体中的多个光学元件。 该设备还包括用于将调节气体供给到壳体的入口和用于从壳体排出调节气体的排气口，以在壳体中提供气体调节环境。 提供至少一个门，用于提供气体环境与环境气氛的通信。 门被设置成将经调节的气体预定的泄漏提供给环境大气。

公开(公告)号：US08027024B2

公开(公告)日：2011-09-27

申请号：US12029165

申请日：2008-02-11

申请人： Bernhard Gellrich ,  Ulrich Weber

发明人： Bernhard Gellrich ,  Ulrich Weber

IPC分类号： G03B27/54 ,  G03B27/42

CPC分类号： G03F7/70825 ,  G03F7/70308 ,  G03F7/70691

摘要： Replacement devices for at least one replaceable optical element mounted at least indirectly in a lithographic projection exposure apparatus are disclosed. Lithography objectives and illumination systems are also disclosed. Methods for positioning a replaceable optical element within a lithographic projection exposure apparatus of this type, and methods for replacing a replaceable optical element within a lithographic projection exposure apparatus via a replacement device are also disclosed.

摘要翻译： 公开了至少一个至少间接安装在光刻投影曝光装置中的可更换光学元件的替换装置。 还公开了光刻目标和照明系统。 在这种类型的光刻投影曝光装置内定位可更换光学元件的方法以及通过更换装置替代光刻投影曝光装置内的可更换光学元件的方法也被公开。

公开(公告)号：US20090233233A1

公开(公告)日：2009-09-17

申请号：US12403132

申请日：2009-03-12

申请人： Stephan SIX ,  Michael Lill ,  Ruediger Duesing ,  Bernhard Gellrich ,  Michael Widmann ,  Andreas Schubert ,  Tilmann Von Papen ,  Thomas Ihl

发明人： Stephan SIX ,  Michael Lill ,  Ruediger Duesing ,  Bernhard Gellrich ,  Michael Widmann ,  Andreas Schubert ,  Tilmann Von Papen ,  Thomas Ihl

IPC分类号： G03F7/20 ,  G03B27/54 ,  G03F7/004

CPC分类号： G03F7/70958 ,  G03F7/70341 ,  G03F7/706

摘要： An optical arrangement for immersion lithography, having at least one component (1) to which a hydrophobic coating (6, 7) is applied, the hydrophobic coating (6, 7) being exposed to UV radiation during operation of a projection lens, and the at least one component (1) being wetted at least in part by an immersion fluid during operation of the projection lens. The hydrophobic coating (6, 7) includes at least one UV-resistant layer (6) that absorbs and/or reflects UV radiation at a wavelength of less than 260 nm.

摘要翻译： 一种用于浸没光刻的光学装置，其具有至少一个施加有疏水涂层（6,7）的组分（1），所述疏水涂层（6,7）在投影透镜的操作期间暴露于UV辐射，并且 至少一个部件（1）在投影透镜的操作期间至少部分地被浸没流体润湿。 疏水涂层（6,7）包括吸收和/或反射波长小于260nm的UV辐射的至少一个抗紫外线层（6）。

公开(公告)号：US20080174758A1

公开(公告)日：2008-07-24

申请号：US12029165

申请日：2008-02-11

申请人： Bernhard Gellrich ,  Ulrich Weber

发明人： Bernhard Gellrich ,  Ulrich Weber

IPC分类号： G03B27/54

CPC分类号： G03F7/70825 ,  G03F7/70308 ,  G03F7/70691

摘要： Replacement devices for at least one replaceable optical element mounted at least indirectly in a lithographic projection exposure apparatus are disclosed. Lithography objectives and illumination systems are also disclosed. Methods for positioning a replaceable optical element within a lithographic projection exposure apparatus of this type, and methods for replacing a replaceable optical element within a lithographic projection exposure apparatus via a replacement device are also disclosed.

摘要翻译： 公开了至少一个至少间接安装在光刻投影曝光装置中的可更换光学元件的替换装置。 还公开了光刻目标和照明系统。 在这种类型的光刻投影曝光装置内定位可更换光学元件的方法以及通过更换装置替代光刻投影曝光装置内的可更换光学元件的方法也被公开。

公开(公告)号：US20080042079A1

公开(公告)日：2008-02-21

申请号：US11974718

申请日：2007-10-16

申请人： Wolfgang Singer ,  Wilhelm Egle ,  Markus Weiss ,  Joachim Hainz ,  Joachim Wietzorrek ,  Johannes Wangler ,  Frank Melzer ,  Bernhard Gellrich ,  Bernhard Geuppert ,  Erich Schubert ,  Martin Antoni

发明人： Wolfgang Singer ,  Wilhelm Egle ,  Markus Weiss ,  Joachim Hainz ,  Joachim Wietzorrek ,  Johannes Wangler ,  Frank Melzer ,  Bernhard Gellrich ,  Bernhard Geuppert ,  Erich Schubert ,  Martin Antoni

IPC分类号： G01J3/10

CPC分类号： B82Y10/00 ,  G02B5/09 ,  G02B7/182 ,  G02B17/006 ,  G02B19/0023 ,  G02B19/0047 ,  G02B19/0095 ,  G03F7/70158 ,  G03F7/70166 ,  G03F7/70175 ,  G03F7/702 ,  G03F7/70233 ,  G03F7/70358 ,  G03F7/70825 ,  G21K1/06 ,  G21K5/04

摘要： There is provided a system that includes a first optical sub-system contained in a first space, and a second optical sub-system contained in a second space. The first and said second spaces are separated by a structure selected from the group consisting of a diaphragm and a valve.

摘要翻译： 提供了一种包括包含在第一空间中的第一光学子系统和包含在第二空间中的第二光学子系统的系统。 第一和第二空间由选自隔膜和阀门的结构分开。

公开(公告)号：US07321126B2

公开(公告)日：2008-01-22

申请号：US11416447

申请日：2006-05-02

申请人： Wolfgang Singer ,  Wilhelm Egle ,  Markus Weiss ,  Joachim Hainz ,  Joachim Wietzorrek ,  Johannes Wangler ,  Frank Melzer ,  Bernhard Gellrich ,  Bernhard Geuppert ,  Erich Schubert ,  Martin Antoni

发明人： Wolfgang Singer ,  Wilhelm Egle ,  Markus Weiss ,  Joachim Hainz ,  Joachim Wietzorrek ,  Johannes Wangler ,  Frank Melzer ,  Bernhard Gellrich ,  Bernhard Geuppert ,  Erich Schubert ,  Martin Antoni

IPC分类号： A61N5/00

CPC分类号： B82Y10/00 ,  G02B5/09 ,  G02B7/182 ,  G02B17/006 ,  G02B19/0023 ,  G02B19/0047 ,  G02B19/0095 ,  G03F7/70158 ,  G03F7/70166 ,  G03F7/70175 ,  G03F7/702 ,  G03F7/70233 ,  G03F7/70358 ,  G03F7/70825 ,  G21K1/06 ,  G21K5/04

摘要： There is provided a projection exposure system operable in a scanning mode along a scanning direction. The projection exposure system includes a collector that receives light having a wavelength ≦193 nm and illuminates a region in a plane. The plane is defined by a local coordinate system having a y-direction parallel to the scanning direction and an x-direction perpendicular to the scanning direction. The collector includes (a) a first mirror shell, (b) a second mirror shell within the first mirror shell, and (c) a fastening device for fastening the first and second mirror shells. The mirror shells are substantially rotational symmetric about a common rotational axis. The fastening device has a support spoke that extends in a radial direction of the mirror shells, and the support spoke, when projected into the plane, yields a projection that is non-parallel to the y-direction.

摘要翻译： 提供了沿着扫描方向以扫描模式操作的投影曝光系统。 投影曝光系统包括收集器，其收集波长<= 193nm的光并照亮平面中的区域。 平面由具有与扫描方向平行的y方向和垂直于扫描方向的x方向的局部坐标系限定。 收集器包括（a）第一镜壳，（b）第一镜壳内的第二镜壳，以及（c）用于紧固第一镜壳和第二镜壳的紧固装置。 镜壳基本上围绕公共旋转轴线旋转对称。 紧固装置具有在镜壳的径向方向上延伸的支撑辐条，并且当​​投影到平面中时支撑辐条产生不平行于y方向的突起。

公开(公告)号：US06897599B2

公开(公告)日：2005-05-24

申请号：US10075797

申请日：2002-02-12

申请人： Franz Sorg ,  Stefan Xalter ,  Frank Melzer ,  Bernhard Gellrich ,  Michael Muehlbeyer

发明人： Franz Sorg ,  Stefan Xalter ,  Frank Melzer ,  Bernhard Gellrich ,  Michael Muehlbeyer

IPC分类号： F16F15/00 ,  F16F15/02 ,  F16L55/04 ,  G03F7/20 ,  H01L21/027 ,  H01L41/09 ,  H01L41/08

CPC分类号： G03F7/70991 ,  F16F15/005 ,  F16F15/02 ,  G03F7/709

摘要： In a system for overcoming or at least damping oscillations in or through channels (9) which carry fluid in a component, in particular coolant in cooling channels in an optical element (1), in particular a projection objective lens (1a) for semiconductor lithography, oscillations which occur are detected and evaluated by sensors (5), after which the result is passed, in the form of an adaptronic control loop to piezoelectric elements (9), which are integrated in the optical element, and are in the form of thin plates, films or layers which, when activated, produce the oscillations or frequencies which counteract oscillations and natural frequencies produced by the turbulence.

摘要翻译： 在用于克服或至少阻挡在通道（9）中或至少阻尼振荡的系统中，所述通道（9）承载组件中的流体，特别是光学元件（1）中的冷却通道中的冷却剂，特别是用于半导体的投影物镜（1a） 光刻，发生的振荡由传感器（5）检测和评估，之后结果通过自适应控制环路形式的压电元件（9）的形式，压电元件（9）集成在光学元件中，呈现形式 薄板，薄膜或层，当被激活时，产生抵消由湍流产生的振荡和固有频率的振荡或频率。

公开(公告)号：US06580570B2

公开(公告)日：2003-06-17

申请号：US10002097

申请日：2001-10-18

申请人： Jochen Becker ,  Bernhard Gellrich ,  Werner Lang ,  Alexander Kohl ,  Sascha Kraus

发明人： Jochen Becker ,  Bernhard Gellrich ,  Werner Lang ,  Alexander Kohl ,  Sascha Kraus

IPC分类号： G02B702

CPC分类号： G02B7/026

摘要： In the case of a mounting apparatus, an optical element having an inner mount and an outer mount, in particular a lens in a projection lens system for semiconductor lithography, the inner mount is connected to the outer mount via three circumferentially distributed solid-state articulations. Manipulators, by means of which the inner mount can be displaced, act on the solid-state articulations. The solid-state articulations are T-shaped in cross section with a T-bar and a T-support. Attachment points between the inner mount and the outer mount are located in each case in the region of the outer ends of the T-bar. The manipulators act on the T-support in each case.

公开(公告)号：US06445510B1

公开(公告)日：2002-09-03

申请号：US09678715

申请日：2000-10-04

申请人： Karlheinz Schuster ,  Thomas Bischoff ,  Bernhard Gellrich ,  Michael Muehlbeyer ,  Guenter Maul

发明人： Karlheinz Schuster ,  Thomas Bischoff ,  Bernhard Gellrich ,  Michael Muehlbeyer ,  Guenter Maul

IPC分类号： G02B900

CPC分类号： G03F7/7025 ,  G02B5/005

摘要： An optical imaging device, in particular a lens system, has a system diaphragm (1). An aperture of the system diaphragm (1) is adjustable in its opening diameter (D). The axial position of the aperture of the system diaphragm (1) with respect to the optical axis (4) of the system diaphragm (1) is fixed in dependence on the opening diameter (D) of the system diaphragm (1).

摘要翻译： 光学成像装置，特别是透镜系统，具有系统隔膜（1）。 系统隔膜（1）的孔径可以在其开口直径（D）上调节。 系统隔膜（1）的孔径相对于系统隔膜（1）的光轴（4）的轴向位置根据系统隔膜（1）的开口直径（D）固定。