公开(公告)号：US20080096359A1

公开(公告)日：2008-04-24

申请号：US11541373

申请日：2006-09-29

申请人： Atul Gupta ,  Joseph C. Olson

发明人： Atul Gupta ,  Joseph C. Olson

IPC分类号： H01L21/66 ,  H01L21/336 ,  H01L21/425

CPC分类号： H01L22/14 ,  H01J37/1471 ,  H01J37/3171 ,  H01J2237/1501 ,  H01J2237/24528 ,  H01J2237/24535 ,  H01J2237/24578 ,  H01J2237/3045 ,  H01J2237/31703

摘要： A method includes directing an ion beam at a plurality of differing incident angles with respect to a target surface of a substrate to implant ions into a plurality of portions of the substrate, wherein each one of the plurality of differing incident angles is associated with a different one of the plurality of portions, measuring angle sensitive data from each of the plurality of portions of the substrate, and determining an angle misalignment between the target surface and the ion beam incident on the target surface from the angle sensitive data. A method of determining a substrate miscut is also provided.

摘要翻译： 一种方法包括将离子束相对于衬底的目标表面以多个不同的入射角引导，以将离子注入到衬底的多个部分中，其中多个不同入射角中的每一个与不同的入射角相关联 多个部分中的一个，测量来自基板的多个部分中的每个部分的角度敏感数据，以及从角度敏感数据确定入射到目标表面上的目标表面和离子束之间的角度偏移。 还提供了确定衬底杂交的方法。

公开(公告)号：US06600869B1

公开(公告)日：2003-07-29

申请号：US09120646

申请日：1998-07-22

申请人： George K. Chen ,  Atul Gupta ,  Michael Keith ,  Jeffrey S. McVeigh ,  Stephen V. Wood

发明人： George K. Chen ,  Atul Gupta ,  Michael Keith ,  Jeffrey S. McVeigh ,  Stephen V. Wood

IPC分类号： H04N593

CPC分类号： G11B27/034

摘要： Digital video (DV) formatted image streams may be converted into an intermediate format having a lower resolution than the original image streams. A user may then edit the intermediate formatted image streams to generate a sequence of edit commands. The edit commands may then be processed to generate an output image stream based on the original image streams. The output image stream may be in any desired format, including DV format. The sequence of edit commands may also be processed to generate a preview image stream in the intermediate format.

摘要翻译： 数字视频（DV）格式的图像流可以被转换成具有比原始图像流更低的分辨率的中间格式。 然后，用户可以编辑中间格式化的图像流以生成编辑命令的序列。 然后可以处理编辑命令以基于原始图像流生成输出图像流。 输出图像流可以是任何期望的格式，包括DV格式。 还可以处理编辑命令的顺序以生成中间格式的预览图像流。

公开(公告)号：US20190034592A1

公开(公告)日：2019-01-31

申请号：US15658599

申请日：2017-07-25

申请人： Atul Gupta ,  Meenesh Arun Bhimani

发明人： Atul Gupta ,  Meenesh Arun Bhimani

IPC分类号： G06F19/00

摘要： Health care record analytic and medical treatment assessment systems and methods include at least one processor-based device configured to identify a medical condition or treatment action item and facilitate its completion in a desired timeframe.

公开(公告)号：US08685846B2

公开(公告)日：2014-04-01

申请号：US12695729

申请日：2010-01-28

申请人： Russell J. Low ,  William T. Weaver ,  Nicholas P. T. Bateman ,  Atul Gupta

发明人： Russell J. Low ,  William T. Weaver ,  Nicholas P. T. Bateman ,  Atul Gupta

IPC分类号： H01L21/425

CPC分类号： H01L21/266 ,  H01J37/09 ,  H01J37/3171 ,  H01J2237/0458 ,  H01J2237/31711 ,  H01L31/1804 ,  Y02E10/547 ,  Y02P70/521

摘要： An improved technique for processing a substrate is disclosed. In one particular exemplary embodiment, the technique may be realized as a method for processing a substrate. The method may comprise ion implanting a substrate disposed downstream of the ion source with ions generated in an ion source; and disposing a first portion of a mask in front of the substrate to expose the first portion of the mask to the ions, the mask being supported by the first and second mask holders, the mask further comprising a second portion wound in the first mask holder.

摘要翻译： 公开了一种用于处理衬底的改进技术。 在一个特定的示例性实施例中，该技术可以被实现为用于处理衬底的方法。 该方法可以包括离子注入在离子源的下游设置的离子，其离子在离子源中产生; 以及将掩模的第一部分设置在所述基板的前面以将所述掩模的所述第一部分暴露于所述离子，所述掩模由所述第一和第二掩模保持器支撑，所述掩模还包括缠绕在所述第一掩模保持器中的第二部分 。

公开(公告)号：US08679868B2

公开(公告)日：2014-03-25

申请号：US14043115

申请日：2013-10-01

申请人： Atul Gupta ,  Nicholas P. T. Bateman

发明人： Atul Gupta ,  Nicholas P. T. Bateman

IPC分类号： H01L21/00

CPC分类号： H01L31/18 ,  H01L31/0684 ,  H01L31/1804 ,  H01L31/1864 ,  H01L31/1868 ,  Y02E10/547 ,  Y02P70/521

摘要： An improved bifacial solar cell is disclosed. In some embodiments, the front side includes an n-type field surface field, while the back side includes a p-type emitter. In other embodiments, the p-type emitter is on the front side. To maximize the diffusion of majority carriers and lower the series resistance between the contact and the substrate, the regions beneath the metal contacts are more heavily doped. Thus, regions of higher dopant concentration are created in at least one of the FSF or the emitter. These regions are created through the use of selective implants, which can be performed on one or two sides of the bifacial solar cell to improve efficiency.

摘要翻译： 公开了一种改进的双面太阳能电池。 在一些实施例中，前侧包括n型场表面场，而后侧包括p型发射器。 在其他实施例中，p型发射器在前侧。 为了使多数载流子的扩散最大化并降低接触和衬底之间的串联电阻，金属接触点下方的区域更加重掺杂。 因此，在至少一个FSF或发射极中产生较高掺杂浓度的区域。 这些区域是通过使用选择性植入物产生的，这可以在双面太阳能电池的一侧或两侧进行，以提高效率。

公开(公告)号：US08664027B2

公开(公告)日：2014-03-04

申请号：US13364476

申请日：2012-02-02

申请人： San Yu ,  Atul Gupta

发明人： San Yu ,  Atul Gupta

IPC分类号： H01L21/00

CPC分类号： H01L33/44 ,  H01L21/2654 ,  H01L21/26586 ,  H01L33/0095 ,  H01L2933/0025

摘要： A method of LED manufacturing is disclosed. A coating is applied to a mesa. This coating may have different thicknesses on the sidewalls of the mesa compared to the top of the mesa. Ion implantation into the mesa will form implanted regions in the sidewalls in one embodiment. These implanted regions may be used for LED isolation or passivation.

摘要翻译： 公开了一种LED制造方法。 将涂层施加到台面。 与台面的顶部相比，该涂层在台面的侧壁上可能具有不同的厚度。 在一个实施例中，离子注入台面将在侧壁中形成注入区域。 这些注入区可用于LED隔离或钝化。

公开(公告)号：US08598547B2

公开(公告)日：2013-12-03

申请号：US13170815

申请日：2011-06-28

申请人： Russell J. Low ,  Atul Gupta ,  William T. Weaver

发明人： Russell J. Low ,  Atul Gupta ,  William T. Weaver

IPC分类号： A61N5/00 ,  G21G5/00

CPC分类号： H01J37/20 ,  G21K5/10 ,  H01J37/304 ,  H01J37/3045 ,  H01J37/3171 ,  H01J2237/20285 ,  H01J2237/31703 ,  H01L31/18 ,  H01L31/1804 ,  Y02E10/547 ,  Y02P70/521

摘要： Glitches during ion implantation of a workpiece, such as a solar cell, can be compensated for. In one instance, a workpiece is implanted during a first pass at a first speed. This first pass results in a region of uneven dose in the workpiece. The workpiece is then implanted during a second pass at a second speed. This second speed is different from the first speed. The second speed may correspond to the entire workpiece or just the region of uneven dose in the workpiece.

摘要翻译： 可以补偿工件（例如太阳能电池）的离子注入期间的毛刺。 在一种情况下，在第一速度的第一次通过期间植入工件。 该第一次通过导致工件中不均匀剂量的区域。 然后在第二次通过期间以第二速度植入工件。 第二速度与第一速度不同。 第二速度可以对应于整个工件或者对应于工件中不均匀剂量的区域。

公开(公告)号：US08546157B2

公开(公告)日：2013-10-01

申请号：US13413965

申请日：2012-03-07

申请人： Atul Gupta ,  Nicholas P. T. Bateman

发明人： Atul Gupta ,  Nicholas P. T. Bateman

IPC分类号： H01L21/00

CPC分类号： H01L31/18 ,  H01L31/0684 ,  H01L31/1804 ,  H01L31/1864 ,  H01L31/1868 ,  Y02E10/547 ,  Y02P70/521

摘要： An improved bifacial solar cell is disclosed. In some embodiments, the front side includes an n-type field surface field, while the back side includes a p-type emitter. In other embodiments, the p-type emitter is on the front side. To maximize the diffusion of majority carriers and lower the series resistance between the contact and the substrate, the regions beneath the metal contacts are more heavily doped. Thus, regions of higher dopant concentration are created in at least one of the FSF or the emitter. These regions are created through the use of selective implants, which can be performed on one or two sides of the bifacial solar cell to improve efficiency.

摘要翻译： 公开了一种改进的双面太阳能电池。 在一些实施例中，前侧包括n型场表面场，而后侧包括p型发射器。 在其他实施例中，p型发射器在前侧。 为了使多数载流子的扩散最大化并降低接触和衬底之间的串联电阻，金属接触点下方的区域更加重掺杂。 因此，在至少一个FSF或发射极中产生较高掺杂浓度的区域。 这些区域是通过使用选择性植入物产生的，这可以在双面太阳能电池的一侧或两侧进行，以提高效率。

公开(公告)号：US08461032B2

公开(公告)日：2013-06-11

申请号：US12397542

申请日：2009-03-04

申请人： Nicholas Bateman ,  Atul Gupta ,  Christopher Hatem ,  Deepak Ramappa

发明人： Nicholas Bateman ,  Atul Gupta ,  Christopher Hatem ,  Deepak Ramappa

IPC分类号： H01L21/425

CPC分类号： H01L33/025 ,  H01L21/26513 ,  H01L31/022441 ,  H01L31/0236 ,  H01L31/03529 ,  H01L31/0682 ,  H01L31/1864 ,  Y02E10/547 ,  Y02P70/521

摘要： A method of tailoring the dopant profile of a substrate by utilizing two different dopants, each having a different diffusivity is disclosed. The substrate may be, for example, a solar cell. By introducing two different dopants, such as by ion implantation, furnace diffusion, or paste, it is possible to create the desired dopant profile. In addition, the dopants may be introduced simultaneously, partially simultaneously, or sequentially. Dopant pairs preferably consist of one lighter species and one heavier species, where the lighter species has a greater diffusivity. For example, dopant pairs such as boron and gallium, boron and indium, phosphorus and arsenic, and phosphorus and antimony, can be utilized.

摘要翻译： 公开了通过利用两种不同的掺杂剂来调整衬底的掺杂剂分布的方法，每种掺杂剂具有不同的扩散率。 衬底可以是例如太阳能电池。 通过引入两种不同的掺杂剂，例如通过离子注入，炉扩散或糊状物，可以产生所需的掺杂剂分布。 此外，掺杂剂可以同时，部分同时或顺序地引入。 掺杂剂对优选由一种较轻的物质和一种较重的物质组成，其中较轻的物质具有较大的扩散系数。 例如，可以使用诸如硼和镓，硼和铟，磷和砷的掺杂物对，以及磷和锑。

公开(公告)号：US08407509B2

公开(公告)日：2013-03-26

申请号：US12901579

申请日：2010-10-11

申请人： Rajeev Sharma ,  Ajay Kumar ,  Naresh Dhamija ,  Atul Gupta ,  Ajay K. Gaite ,  Llamparidhi l

发明人： Rajeev Sharma ,  Ajay Kumar ,  Naresh Dhamija ,  Atul Gupta ,  Ajay K. Gaite ,  Llamparidhi l

IPC分类号： G06F1/04 ,  G06F13/00 ,  G06F13/42

CPC分类号： G06F13/1689 ,  G06F13/4243

摘要： A method for compensating for variations in timing of data sent to a processor on data bit lines relative to a strobe clock sent to the processor on a strobe clock line that can be used in a dual data rate (DDR) memory identifies discrete minimum and maximum time offset values for test data in selected data bit patterns for the data bit lines. The discrete minimum time offset value is the minimum timing adjustment required to allow the processor to receive the data in a steady-state condition during a data valid window of the strobe clock and the discrete maximum time offset value is a maximum timing adjustment required to allow the processor to receive the data in a steady-state condition during a data valid window of the strobe clock. The discrete minimum and maximum time offset values identify a valid range when the data bit lines supply data in a steady-state condition for latching into the processor by the strobe clock.

摘要翻译： 用于补偿在数据位线上相对于在双数据速率（DDR）存储器中使用的选通时钟线上发送到处理器的选通时钟的数据位线发送的数据的时序变化的方法，该方法能够识别离散的最小和最大值 用于数据位线的选定数据位模式中的测试数据的时间偏移值。 离散的最小时间偏移值是在选通时钟的数据有效窗口期间允许处理器在稳态条件下接收数据所需的最小定时调整，并且离散最大时间偏移值是允许允许的最大定时调整 所述处理器在所述选通时钟的数据有效窗口期间以稳态条件接收所述数据。 当数据位线在稳态条件下提供数据以通过选通时钟锁存到处理器中时，离散的最小和最大时间偏移值标识有效范围。