公开(公告)号：US07233384B2

公开(公告)日：2007-06-19

申请号：US11150882

申请日：2005-06-13

申请人： Willem Jurrianus Venema ,  Anastasius Jacobus Anicetus Bruinsma ,  Joeri Lof ,  Eduardus Johannes Gerardus Boon

发明人： Willem Jurrianus Venema ,  Anastasius Jacobus Anicetus Bruinsma ,  Joeri Lof ,  Eduardus Johannes Gerardus Boon

IPC分类号： G03B27/42 ,  G03B27/74 ,  G03B27/32

CPC分类号： G03F7/7085 ,  G03F7/70291 ,  G03F7/70516

摘要： A lithographic apparatus comprises an illumination system, an array of individually controllable elements, a projection system, a substrate table, and a sensor system. The illumination system supplies a beam of radiation. The array of individually controllable elements patterns the beam. The projection system projects the patterned beam onto a target plane, the patterned beam comprising an array of radiation spots. The substrate table supports a substrate, such that a target surface of the substrate is substantially coincident with the target plane. The sensor system comprises an array of detector elements arranged to receive at least one of the spots. The sensor system measures an energy of the or each received spot and provides an output signal indicative of the energy of the or each received spot.

摘要翻译： 光刻设备包括照明系统，独立可控元件的阵列，投影系统，衬底台和传感器系统。 照明系统提供一束辐射。 独立可控元件的阵列使光束成像。 投影系统将图案化的光束投射到目标平面上，图案化的光束包括辐射点阵列。 衬底台支撑衬底，使得衬底的目标表面基本上与靶平面重合。 传感器系统包括被布置成接收至少一个斑点的检测器元件的阵列。 传感器系统测量该接收点或每个接收点的能量，并提供指示该或每个接收点的能量的输出信号。

公开(公告)号：US20060001855A1

公开(公告)日：2006-01-05

申请号：US10879522

申请日：2004-06-30

申请人： Joeri Lof ,  Joannes De Smit

发明人： Joeri Lof ,  Joannes De Smit

IPC分类号： G03B27/72

CPC分类号： G03F7/70291 ,  G03F7/70275

摘要： A system and method for use in a lithographic environment include an illumination system for supplying a projection beam of radiation, an array of individually controllable elements for patterning the beam, a projection system for projecting the patterned beam onto a target plane, and a substrate table for supporting a substrate such that a target surface of the substrate is coincident with the target plane. The projection system comprises at least one component, including at least an array of lenses arranged so that each lens receives and focuses a respective portion of the patterned beam. The array of lenses projects a radiation pattern onto the target plane. The apparatus also includes a sensor system arranged to detect an intensity distribution of the projected radiation pattern and to provide a corresponding intensity signal, and a positioning system controllable to adjust a position and/or an orientation of at least one of the following: the array of elements; a component of the projection system; and the illumination system. The apparatus also includes a control system which controls the array of elements to pattern the beam, and which also to receives the intensity signal and controls the positioning system according to the detected intensity distribution to adjust the projected radiation pattern, for example to align the patterned beam with the lens array.

摘要翻译： 在光刻环境中使用的系统和方法包括用于提供投射辐射束的照明系统，用于图案化束的独立可控元件的阵列，用于将图案化的光束投影到靶平面上的投影系统，以及衬底台 用于支撑基板，使得基板的目标表面与目标平面重合。 投影系统包括至少一个部件，包括至少一组透镜，其布置成使得每个透镜接收并聚焦图案化光束的相应部分。 透镜阵列将辐射图投影到目标平面上。 所述装置还包括传感器系统，其被布置成检测投影辐射图案的强度分布并提供对应的强度信号;以及定位系统，其可控制以调整以下至少一个的位置和/或取向：阵列 元素; 投影系统的一个组件; 和照明系统。 该装置还包括一个控制系统，该控制系统控制元件阵列以对该光束进行图案化，并且还控制该强度信号并根据检测到的强度分布来控制该定位系统，以调整该投射的辐射图案，以使该图案化 光束与透镜阵列。

公开(公告)号：US20090039554A1

公开(公告)日：2009-02-12

申请号：US12232710

申请日：2008-09-23

申请人： Joeri Lof

发明人： Joeri Lof

IPC分类号： B29C59/00 ,  B28B11/08

CPC分类号： G03F7/0002 ,  Y10S425/81

摘要： An imprint lithography apparatus is disclosed which has a needle, and a substrate table arranged to hold a substrate to be imprinted, wherein the needle is moveable between a first position and a second position, the first position being such that in use the needle penetrates a layer of imprintable material on the substrate, and the second position being such that in use the needle is disengaged from the imprintable material on the substrate, the substrate table and the needle arranged such that one may be scanned relative to the other.

摘要翻译： 公开了一种压印光刻设备，其具有针和布置成保持待印刷的基板的基板台，其中所述针可在第一位置和第二位置之间移动，所述第一位置使得在使用中所述针穿透 并且第二位置使得在使用中针与衬底上的可压印材料分离，衬底台和针布置成使得可以相对于另一个扫描。

公开(公告)号：US07193231B2

公开(公告)日：2007-03-20

申请号：US10648785

申请日：2003-08-27

申请人： Joeri Lof ,  Fransiscus Godefridus Casper Bijnen ,  Henricus Wilhelmus Maria Van Buel ,  Cheng-Qun Gui

发明人： Joeri Lof ,  Fransiscus Godefridus Casper Bijnen ,  Henricus Wilhelmus Maria Van Buel ,  Cheng-Qun Gui

IPC分类号： G01B11/00

CPC分类号： G03F9/7084 ,  G03F9/7076

摘要： An optical element is placed in the alignment beam during alignment. The optical element serves to focus the alignment beam onto the substrate alignment mark when it is at a different focal length from the front surface of the substrate.

摘要翻译： 在对准期间将光学元件放置在对准光束中。 当光学元件处于与衬底的前表面不同的焦距时，该光学元件用于将对准光束聚焦到衬底对准标记上。

公开(公告)号：US07113258B2

公开(公告)日：2006-09-26

申请号：US10939999

申请日：2004-09-14

申请人： Henricus Wilhelmus Maria Van Buel ,  Keith Frank Best ,  Joseph J. Consolini ,  Joeri Lof ,  Edwin Ross Shafer

发明人： Henricus Wilhelmus Maria Van Buel ,  Keith Frank Best ,  Joseph J. Consolini ,  Joeri Lof ,  Edwin Ross Shafer

IPC分类号： G03B27/42 ,  G03B27/58 ,  G01B11/00 ,  G03B27/52

CPC分类号： G03F7/70691 ,  G03F7/70341 ,  G03F9/7084

摘要： A lithographic projection apparatus is provided with an optical system built into the wafer table for producing an image of a wafer mark that is provided on the back side of the wafer. The image is located at the plane of the front side of the wafer and can be viewed by an alignment system from the front side of the wafer. Simultaneous alignment between marks on the back and front of the wafer and a mask can be performed using a pre-existing alignment system. The lithographic projection apparatus is further provided with immersion system for providing a fluid between the lens and the substrate.

摘要翻译： 光刻投影装置设置有内置在晶片台中的光学系统，用于产生设置在晶片背面的晶片标记的图像。 图像位于晶片正面的平面上，并且可以通过对准系统从晶片的正面观察。 可以使用预先存在的对准系统来执行晶片背面和前面的标记与掩模之间的同时对准。 光刻投影装置还设置有用于在透镜和基板之间提供流体的浸没系统。

公开(公告)号：US20060007441A1

公开(公告)日：2006-01-12

申请号：US10887311

申请日：2004-07-09

申请人： Joeri Lof

发明人： Joeri Lof

IPC分类号： G01B11/00

CPC分类号： G03F9/7084 ,  G03F9/7003 ,  G03F9/7015

摘要： In one embodiment, front to back side alignment optics are used to project a mark on the back side of a substrate. The front to back side alignment optics are arranged such that the image projected into the image window of the front to back side alignment optics is a translational replica of the mark on the back side of the substrate. One potential advantage of such an arrangement is that any slight inaccuracies in the location of the optical axis do not result in inaccuracies in the image of the substrate mark. The translational replica image can be used for alignment of the substrate.

摘要翻译： 在一个实施例中，前后对准光学器件用于在衬底的背面上投影标记。 前后对准光学元件被布置为使得投射到前后对准光学器件的图像窗口中的图像是基板背面上的标记的平移复本。 这种布置的一个潜在优点是光轴位置上的任何轻微的不准确性不会导致基板标记图像的不准确。 平移复制图像可用于基板的对准。

公开(公告)号：US06936385B2

公开(公告)日：2005-08-30

申请号：US10374510

申请日：2003-02-27

申请人： Joeri Lof ,  Henricus Wilhelmus Maria Van Buel ,  Cheng-Qun Gui ,  Fransiscus Godefridus Casper Bijnen

发明人： Joeri Lof ,  Henricus Wilhelmus Maria Van Buel ,  Cheng-Qun Gui ,  Fransiscus Godefridus Casper Bijnen

IPC分类号： G03F9/02 ,  G03F9/00 ,  H01L21/027 ,  G01B11/00 ,  G03B27/42 ,  G03C5/00

CPC分类号： G03F9/7019 ,  G03F9/7011 ,  G03F9/7084

摘要： To calibrate a front-to-backside alignment system a transparent calibration substrate with reference markers on opposite sides is used. A plane plate is inserted to displace the focal position of the alignment system from the top to bottom surface of the calibration substrate.

摘要翻译： 为了校准前后对齐系统，使用带有相对侧的参考标记的透明校准基板。 插入平板以从校准基板的顶面到底面移动对准系统的焦点位置。

公开(公告)号：US20120032078A1

公开(公告)日：2012-02-09

申请号：US13197632

申请日：2011-08-03

申请人： Michael Alwin William Stekelenburg ,  Gerrit Cornelis Van Hoften ,  Richard Henderson ,  Renato Andrea Danilo Turchetta ,  Nicola Carlo Guerrini ,  Joeri Lof ,  Frank Jeroen Pieter Schuurmans ,  Abdul Raffey Faruqi ,  Gregory James McMullan

发明人： Michael Alwin William Stekelenburg ,  Gerrit Cornelis Van Hoften ,  Richard Henderson ,  Renato Andrea Danilo Turchetta ,  Nicola Carlo Guerrini ,  Joeri Lof ,  Frank Jeroen Pieter Schuurmans ,  Abdul Raffey Faruqi ,  Gregory James McMullan

IPC分类号： G01N23/04

CPC分类号： H01J37/244 ,  H01J37/22 ,  H01J37/26 ,  H01J37/263 ,  H01J2237/2441 ,  H01J2237/24455 ,  H01J2237/2446 ,  H01J2237/2447 ,  H01J2237/24578 ,  H01J2237/26 ,  H01J2237/2802

摘要： In a direct electron detector, backscattering of electrons into the detector volume from below the sensor is prevented. In some embodiments, an empty space is maintained below the sensor. In other embodiments, a structure below the sensor includes geometry, such as multiple high aspects ratio channels, either extending to or from the sensor to trap electrons, or a structure of angled surfaces to deflect the electrons that pass through the sensor.

摘要翻译： 在直接电子检测器中，防止电子从传感器下方向检测器体积的后向散射。 在一些实施例中，在传感器下面保持空的空间。 在其他实施例中，传感器下面的结构包括几何，例如多个高方面比例的通道，延伸到传感器或从传感器捕获电子，或倾斜表面的结构以偏转通过传感器的电子。

公开(公告)号：US07931844B2

公开(公告)日：2011-04-26

申请号：US12232710

申请日：2008-09-23

申请人： Joeri Lof

发明人： Joeri Lof

IPC分类号： B29C59/00 ,  B28B11/00

CPC分类号： G03F7/0002 ,  Y10S425/81

摘要： An imprint lithography apparatus is disclosed which has a needle, and a substrate table arranged to hold a substrate to be imprinted, wherein the needle is moveable between a first position and a second position, the first position being such that in use the needle penetrates a layer of imprintable material on the substrate, and the second position being such that in use the needle is disengaged from the imprintable material on the substrate, the substrate table and the needle arranged such that one may be scanned relative to the other.

摘要翻译： 公开了一种压印光刻设备，其具有针和布置成保持待印刷的基板的基板台，其中所述针可在第一位置和第二位置之间移动，所述第一位置使得在使用中所述针穿透 并且第二位置使得在使用中针与衬底上的可压印材料分离，衬底台和针布置成使得可以相对于另一个扫描。

公开(公告)号：US07808613B2

公开(公告)日：2010-10-05

申请号：US11498268

申请日：2006-08-03

申请人： Joeri Lof

发明人： Joeri Lof

IPC分类号： G03B27/42

CPC分类号： G03F7/70425 ,  G03F7/70525 ,  G03F7/70541 ,  G03F7/706 ,  G03F7/70633 ,  G03F9/7046

摘要： The invention relates to a device manufacturing method comprising identifying a substrate to be processed, performing a manufacturing step of a patterned layer on the substrate, and storing a substrate process history for the substrate. The history may comprise a correction map comprising position errors caused by the manufacturing step. Identifying the substrate may be done by reading an identification sign present on the substrate or by reading an identification code of a lot comprising the substrate and determining a sequence number of the substrate in the lot. Alignment of the substrate with respect to a patterning device of a lithographic apparatus may be corrected using information of the substrate process history. Alternatively or additionally, measured overlay errors may be corrected per substrate using information of the substrate process history.

摘要翻译： 本发明涉及一种器件制造方法，包括识别待处理的衬底，在衬底上执行图案化层的制造步骤，以及存储用于衬底的衬底工艺历史。 历史可以包括校正图，其包括由制造步骤引起的位置误差。 可以通过读取衬底上存在的识别符号或通过读取包括衬底的批次的识别码并确定批次中的衬底的序列号来进行衬底的识别。 可以使用衬底处理历史的信息来校正衬底相对于光刻设备的图案形成装置的对准。 或者或另外，可以使用衬底工艺历史的信息来校正每个衬底的测量重叠误差。