公开(公告)号：US20100190288A1

公开(公告)日：2010-07-29

申请号：US12750972

申请日：2010-03-31

申请人： Henry Hieslmair ,  Ronald J. Mosso ,  Robert B. Lynch ,  Shivkumar Chiruvolu ,  William E. McGovern ,  Craig R. Horne ,  Narayan Solayappan ,  Ronald M. Cornell

发明人： Henry Hieslmair ,  Ronald J. Mosso ,  Robert B. Lynch ,  Shivkumar Chiruvolu ,  William E. McGovern ,  Craig R. Horne ,  Narayan Solayappan ,  Ronald M. Cornell

IPC分类号： H01L21/20 ,  B05D5/12

CPC分类号： C23C16/54 ,  C23C16/01 ,  C23C16/24 ,  C23C16/482 ,  C23C16/483 ,  H01L31/0236 ,  H01L31/035281 ,  H01L31/03682 ,  H01L31/0475 ,  H01L31/068 ,  H01L31/18 ,  H01L31/1804 ,  H01L31/1812 ,  H01L31/182 ,  Y02E10/546 ,  Y02E10/547 ,  Y02P70/521 ,  Y10T428/14 ,  Y10T428/24802

摘要： Thin semiconductor foils can be formed using light reactive deposition. These foils can have an average thickness of less than 100 microns. In some embodiments, the semiconductor foils can have a large surface area, such as greater than about 900 square centimeters. The foil can be free standing or releasably held on one surface. The semiconductor foil can comprise elemental silicon, elemental germanium, silicon carbide, doped forms thereof, alloys thereof or mixtures thereof. The foils can be formed using a release layer that can release the foil after its deposition. The foils can be patterned, cut and processed in other ways for the formation of devices. Suitable devices that can be formed form the foils include, for example, photovoltaic modules and display control circuits.

摘要翻译： 可以使用光反应性沉积形成薄的半导体箔。 这些箔片的平均厚度可以小于100微米。 在一些实施例中，半导体箔可以具有大的表面积，例如大于约900平方厘米。 箔可以自由站立或可释放地保持在一个表面上。 半导体箔可以包括元素硅，元素锗，碳化硅，其掺杂形式，其合金或其混合物。 箔可以使用可以在其沉积后释放箔的释放层来形成。 箔可以以其他方式图案化，切割和加工以形成装置。 可以由箔形成的合适的装置包括例如光伏模块和显示控制电路。

公开(公告)号：US20090095128A1

公开(公告)日：2009-04-16

申请号：US12233325

申请日：2008-09-18

申请人： Bernard M. Frey ,  Peter R. Buerki ,  Robert B. Lynch ,  Janet L. Wang ,  Gabriel Tran ,  Craig R. Horne ,  Dean M. Holunga ,  Igor Altman

发明人： Bernard M. Frey ,  Peter R. Buerki ,  Robert B. Lynch ,  Janet L. Wang ,  Gabriel Tran ,  Craig R. Horne ,  Dean M. Holunga ,  Igor Altman

IPC分类号： B22F9/02 ,  B01J19/08

CPC分类号： B82Y30/00 ,  B01J19/121 ,  B01J2219/0869 ,  B01J2219/0884 ,  B22F2999/00 ,  B82Y40/00 ,  C22B4/08 ,  B22F9/30 ,  B22F3/003

摘要： Light-driven flow reactors are configured with an aerosol delivery apparatus that is designed to improve the reactive process with respect to forming uniform product compositions at higher rates. In particular, the reactant delivery system can deliver an aerosol having an average droplet size of no more than about 50 microns, and in some embodiments 20 microns, and with less than 1 droplet in 10,000 having a diameter greater than 5 times the average droplet size. In some embodiments, the edge of the aerosol generator can be placed within about 6 centimeters of the edge of the light beam passing through the reaction chamber. The average aerosol velocity can be no more than about 5 meters per second. In some embodiments, the aerosol generator can comprise a non-circular opening and a gas permeable structure that is used to generate a mist that is delivered from the apparatus as an aerosol.

摘要翻译： 光驱流反应器配置有气溶胶输送装置，其被设计成改进相对于以较高速率形成均匀产品组合物的反应过程。 特别地，反应物输送系统可以输送平均液滴尺寸不超过约50微米，并且在一些实施例中为20微米，并且在10,000中具有小于1个液滴的直径大于平均液滴尺寸的5倍的气溶胶 。 在一些实施例中，气溶胶发生器的边缘可以放置在通过反应室的光束的边缘的约6厘米内。 平均气溶胶速度可以不超过约5米/秒。 在一些实施例中，气溶胶发生器可以包括非圆形开口和气体可透过结构，其用于产生作为气溶胶从装置输送的雾。

公开(公告)号：US20120012032A1

公开(公告)日：2012-01-19

申请号：US13240785

申请日：2011-09-22

申请人： Xiangxin Bi ,  Nobuyuki Kambe ,  Craig R. Horne ,  James T. Gardner ,  Ronald J. Mosso ,  Shivkumar Chiruvolu ,  Sujeet Kumar ,  William E. McGovern ,  Pierre J. DeMascarel ,  Robert B. Lynch

发明人： Xiangxin Bi ,  Nobuyuki Kambe ,  Craig R. Horne ,  James T. Gardner ,  Ronald J. Mosso ,  Shivkumar Chiruvolu ,  Sujeet Kumar ,  William E. McGovern ,  Pierre J. DeMascarel ,  Robert B. Lynch

IPC分类号： C09D1/00 ,  B82Y30/00

CPC分类号： B22F1/0018 ,  B22F9/24 ,  B82Y30/00 ,  C01B21/068 ,  C01B25/45 ,  C01B32/956 ,  C01B33/182 ,  C01F7/302 ,  C01F7/308 ,  C01F7/44 ,  C01F17/0043 ,  C01G9/02 ,  C01G19/02 ,  C01G23/005 ,  C01G31/00 ,  C01G31/02 ,  C01G45/02 ,  C01G45/1242 ,  C01G51/42 ,  C01G53/42 ,  C01P2002/02 ,  C01P2002/32 ,  C01P2002/54 ,  C01P2002/72 ,  C01P2004/04 ,  C01P2004/51 ,  C01P2004/64 ,  C01P2004/80 ,  C01P2006/12 ,  C04B35/44 ,  C04B2235/3215 ,  C04B2235/3224 ,  C04B2235/3262 ,  C04B2235/5454 ,  Y10T428/2982

摘要： Methods are described that have the capability of producing submicron/nanoscale particles, in some embodiments dispersible, at high production rates. In some embodiments, the methods result in the production of particles with an average diameter less than about 75 nanometers that are produced at a rate of at least about 35 grams per hour. In other embodiments, the particles are highly uniform. These methods can be used to form particle collections and/or powder coatings. Powder coatings and corresponding methods are described based on the deposition of highly uniform submicron/nanoscale particles.

摘要翻译： 描述了在高生产率下具有产生亚微米/纳米级颗粒的能力的方法，在一些实施方案中可分散。 在一些实施方案中，该方法导致以至少约35克/小时的速率生产平均直径小于约75纳米的颗粒。 在其它实施方案中，颗粒是高度均匀的。 这些方法可用于形成颗粒收集和/或粉末涂料。 基于高度均匀的亚微米/纳米级颗粒的沉积来描述粉末涂料和相应的方法。

公开(公告)号：US20110318905A1

公开(公告)日：2011-12-29

申请号：US13070286

申请日：2011-03-23

申请人： Shivkumar Chiruvolu ,  Igor Altman ,  Bernard M. Frey ,  Weidong Li ,  Guojun Liu ,  Robert B. Lynch ,  Gina Elizabeth Pengra-Leung ,  Uma Srinivasan

发明人： Shivkumar Chiruvolu ,  Igor Altman ,  Bernard M. Frey ,  Weidong Li ,  Guojun Liu ,  Robert B. Lynch ,  Gina Elizabeth Pengra-Leung ,  Uma Srinivasan

IPC分类号： H01L21/20 ,  C09D11/00 ,  B01J19/08 ,  H01B1/22 ,  B82Y30/00

CPC分类号： C09D11/38 ,  B01D21/262 ,  B01J19/121 ,  B01J2219/0869 ,  B01J2219/0871 ,  B01J2219/0875 ,  B82Y30/00 ,  C01B33/02 ,  C08K3/08 ,  C08K3/36 ,  C08K9/02 ,  C09D5/24 ,  C09D7/67 ,  C09D7/68 ,  C09D7/80 ,  C09D11/037 ,  C09D11/101 ,  C09D11/322 ,  C09D11/36 ,  C09D11/52 ,  H01L21/02532 ,  H01L21/02573 ,  H01L21/02579 ,  H01L21/02581 ,  H01L21/02601 ,  H01L21/02628 ,  H01L23/4828 ,  H01L23/53276 ,  H01L31/00 ,  H01L31/02363 ,  H01L31/03682 ,  H01L31/03762 ,  H01L31/0747 ,  H01L31/182 ,  H01L31/1864 ,  H01L2924/0002 ,  Y02E10/52 ,  Y02E10/546 ,  Y02E10/548 ,  Y02P70/521 ,  H01L2924/00

摘要： Laser pyrolysis reactor designs and corresponding reactant inlet nozzles are described to provide desirable particle quenching that is particularly suitable for the synthesis of elemental silicon particles. In particular, the nozzles can have a design to encourage nucleation and quenching with inert gas based on a significant flow of inert gas surrounding the reactant precursor flow and with a large inert entrainment flow effectively surrounding the reactant precursor and quench gas flows. Improved silicon nanoparticle inks are described that has silicon nanoparticles without any surface modification with organic compounds. The silicon ink properties can be engineered for particular printing applications, such as inkjet printing, gravure printing or screen printing. Appropriate processing methods are described to provide flexibility for ink designs without surface modifying the silicon nanoparticles.

摘要翻译： 描述了激光热解反应器设计和相应的反应物入口喷嘴，以提供特别适合于合成元素硅颗粒的理想的颗粒淬火。 特别地，喷嘴可以具有鼓励成形和淬火的设计，其基于围绕反应物前体流的大量惰性气体，并且具有有效围绕反应物前体和骤冷气体流的大的惰性夹带流动的惰性气体。 描述了改进的硅纳米颗粒油墨，其具有不含有机化合物的任何表面改性的硅纳米颗粒。 硅油墨性能可以针对特定的印刷应用进行设计，例如喷墨印刷，凹版印刷或丝网印刷。 描述适当的处理方法以提供油墨设计的灵活性，而无需对硅纳米颗粒进行表面改性。

公开(公告)号：US08895962B2

公开(公告)日：2014-11-25

申请号：US13070286

申请日：2011-03-23

申请人： Shivkumar Chiruvolu ,  Igor Altman ,  Bernard M. Frey ,  Weidong Li ,  Guojun Liu ,  Robert B. Lynch ,  Gina Elizabeth Pengra-Leung ,  Uma Srinivasan

发明人： Shivkumar Chiruvolu ,  Igor Altman ,  Bernard M. Frey ,  Weidong Li ,  Guojun Liu ,  Robert B. Lynch ,  Gina Elizabeth Pengra-Leung ,  Uma Srinivasan

IPC分类号： H01L51/40 ,  C09D7/12 ,  C09D5/24 ,  H01L21/02 ,  C09D7/14 ,  B82Y30/00 ,  C09D11/52 ,  C09D11/101 ,  B01J19/12 ,  H01L31/00 ,  C08K3/08 ,  C08K3/36 ,  C08K9/02

CPC分类号： C09D11/38 ,  B01D21/262 ,  B01J19/121 ,  B01J2219/0869 ,  B01J2219/0871 ,  B01J2219/0875 ,  B82Y30/00 ,  C01B33/02 ,  C08K3/08 ,  C08K3/36 ,  C08K9/02 ,  C09D5/24 ,  C09D7/67 ,  C09D7/68 ,  C09D7/80 ,  C09D11/037 ,  C09D11/101 ,  C09D11/322 ,  C09D11/36 ,  C09D11/52 ,  H01L21/02532 ,  H01L21/02573 ,  H01L21/02579 ,  H01L21/02581 ,  H01L21/02601 ,  H01L21/02628 ,  H01L23/4828 ,  H01L23/53276 ,  H01L31/00 ,  H01L31/02363 ,  H01L31/03682 ,  H01L31/03762 ,  H01L31/0747 ,  H01L31/182 ,  H01L31/1864 ,  H01L2924/0002 ,  Y02E10/52 ,  Y02E10/546 ,  Y02E10/548 ,  Y02P70/521 ,  H01L2924/00

摘要： Laser pyrolysis reactor designs and corresponding reactant inlet nozzles are described to provide desirable particle quenching that is particularly suitable for the synthesis of elemental silicon particles. In particular, the nozzles can have a design to encourage nucleation and quenching with inert gas based on a significant flow of inert gas surrounding the reactant precursor flow and with a large inert entrainment flow effectively surrounding the reactant precursor and quench gas flows. Improved silicon nanoparticle inks are described that has silicon nanoparticles without any surface modification with organic compounds. The silicon ink properties can be engineered for particular printing applications, such as inkjet printing, gravure printing or screen printing. Appropriate processing methods are described to provide flexibility for ink designs without surface modifying the silicon nanoparticles.

摘要翻译： 描述了激光热解反应器设计和相应的反应物入口喷嘴，以提供特别适合于合成元素硅颗粒的理想的颗粒淬火。 特别地，喷嘴可以具有鼓励成形和淬火的设计，其基于围绕反应物前体流的大量惰性气体，并且具有有效围绕反应物前体和骤冷气体流的大的惰性夹带流动的惰性气体。 描述了改进的硅纳米颗粒油墨，其具有不含有机化合物的任何表面改性的硅纳米颗粒。 硅油墨性能可以针对特定的印刷应用进行设计，例如喷墨印刷，凹版印刷或丝网印刷。 描述适当的处理方法以提供油墨设计的灵活性，而无需对硅纳米颗粒进行表面改性。

公开(公告)号：US20120244060A9

公开(公告)日：2012-09-27

申请号：US12686803

申请日：2010-01-13

申请人： Xiangxin Bi ,  Nobuyuki Kambe ,  Craig R. Horne ,  James T. Gardner ,  Ronald J. Mosso ,  Shivkumar Chiruvolu ,  Sujeet Kumar ,  William E. McGovern ,  Pierre J. DeMascarel ,  Robert B. Lynch

发明人： Xiangxin Bi ,  Nobuyuki Kambe ,  Craig R. Horne ,  James T. Gardner ,  Ronald J. Mosso ,  Shivkumar Chiruvolu ,  Sujeet Kumar ,  William E. McGovern ,  Pierre J. DeMascarel ,  Robert B. Lynch

IPC分类号： C01B33/06 ,  B01J19/12

CPC分类号： C09D5/031 ,  B22F1/0018 ,  B22F9/24 ,  B82Y30/00 ,  C01B21/068 ,  C01B25/45 ,  C01B32/956 ,  C01B33/182 ,  C01F7/302 ,  C01F7/308 ,  C01F7/44 ,  C01F17/0043 ,  C01G9/02 ,  C01G19/02 ,  C01G23/005 ,  C01G31/00 ,  C01G31/02 ,  C01G45/02 ,  C01G45/1242 ,  C01G51/42 ,  C01G53/42 ,  C01P2002/02 ,  C01P2002/32 ,  C01P2002/54 ,  C01P2002/72 ,  C01P2004/04 ,  C01P2004/51 ,  C01P2004/64 ,  C01P2004/80 ,  C01P2006/12 ,  C04B35/44 ,  C04B2235/3215 ,  C04B2235/3224 ,  C04B2235/3262 ,  C04B2235/5454 ,  Y10T428/2982

摘要： Methods are described that have the capability of producing submicron/nanoscale particles, in some embodiments dispersible, at high production rates. In some embodiments, the methods result in the production of particles with an average diameter less than about 75 nanometers that are produced at a rate of at least about 35 grams per hour. In other embodiments, the particles are highly uniform. These methods can be used to form particle collections and/or powder coatings. Powder coatings and corresponding methods are described based on the deposition of highly uniform submicron/nanoscale particles.

摘要翻译： 描述了在高生产率下具有产生亚微米/纳米级颗粒的能力的方法，在一些实施方案中可分散。 在一些实施方案中，该方法导致以至少约35克/小时的速率生产平均直径小于约75纳米的颗粒。 在其它实施方案中，颗粒是高度均匀的。 这些方法可用于形成颗粒收集和/或粉末涂料。 基于高度均匀的亚微米/纳米级颗粒的沉积来描述粉末涂料和相应的方法。

公开(公告)号：US07384680B2

公开(公告)日：2008-06-10

申请号：US10195851

申请日：2002-07-15

申请人： Xiangxin Bi ,  Nobuyuki Kambe ,  Craig R. Horne ,  James T. Gardner ,  Ronald J. Mosso ,  Shivkumar Chiruvolu ,  Sujeet Kumar ,  William E. McGovern ,  Pierre J. DeMascarel ,  Robert B. Lynch

发明人： Xiangxin Bi ,  Nobuyuki Kambe ,  Craig R. Horne ,  James T. Gardner ,  Ronald J. Mosso ,  Shivkumar Chiruvolu ,  Sujeet Kumar ,  William E. McGovern ,  Pierre J. DeMascarel ,  Robert B. Lynch

IPC分类号： B32B5/16

CPC分类号： B22F9/30 ,  B01J2/006 ,  B22F1/0014 ,  B22F1/0018 ,  B22F1/0022 ,  B22F9/16 ,  B22F2998/00 ,  B22F2999/00 ,  B82Y30/00 ,  C23C4/123 ,  C23C24/04 ,  C23C24/10 ,  Y10T428/24372 ,  Y10T428/24413 ,  Y10T428/24421 ,  Y10T428/24479 ,  Y10T428/25 ,  Y10T428/256 ,  Y10T428/259 ,  Y10T428/2982 ,  B22F2202/11

摘要： Methods are described that have the capability of producing submicron/nanoscale particles, in some embodiments dispersible, at high production rates. In some embodiments, the methods result in the production of particles with an average diameter less than about 75 nanometers that are produced at a rate of at least about 35 grams per hour. In other embodiments, the particles are highly uniform. These methods can be used to form particle collections and/or powder coatings. Powder coatings and corresponding methods are described based on the deposition of highly uniform submicron/nanoscale particles.

摘要翻译： 描述了在高生产率下具有产生亚微米/纳米级颗粒的能力的方法，在一些实施方案中可分散。 在一些实施方案中，该方法导致以至少约35克/小时的速率生产平均直径小于约75纳米的颗粒。 在其它实施方案中，颗粒是高度均匀的。 这些方法可用于形成颗粒收集和/或粉末涂料。 基于高度均匀的亚微米/纳米级颗粒的沉积来描述粉末涂料和相应的方法。

公开(公告)号：US20100209328A1

公开(公告)日：2010-08-19

申请号：US12686803

申请日：2010-01-13

申请人： Xiangxin Bi ,  Nobuyuki Kambe ,  Craig R. Horne ,  James T. Gardner ,  Ronald J. Mosso ,  Shivkumar Chiruvolu ,  Sujeet Kumar ,  William E. McGovern ,  Pierre J. DeMascarel ,  Robert B. Lynch

发明人： Xiangxin Bi ,  Nobuyuki Kambe ,  Craig R. Horne ,  James T. Gardner ,  Ronald J. Mosso ,  Shivkumar Chiruvolu ,  Sujeet Kumar ,  William E. McGovern ,  Pierre J. DeMascarel ,  Robert B. Lynch

IPC分类号： C01B33/06 ,  B01J19/12

CPC分类号： C09D5/031 ,  B22F1/0018 ,  B22F9/24 ,  B82Y30/00 ,  C01B21/068 ,  C01B25/45 ,  C01B32/956 ,  C01B33/182 ,  C01F7/302 ,  C01F7/308 ,  C01F7/44 ,  C01F17/0043 ,  C01G9/02 ,  C01G19/02 ,  C01G23/005 ,  C01G31/00 ,  C01G31/02 ,  C01G45/02 ,  C01G45/1242 ,  C01G51/42 ,  C01G53/42 ,  C01P2002/02 ,  C01P2002/32 ,  C01P2002/54 ,  C01P2002/72 ,  C01P2004/04 ,  C01P2004/51 ,  C01P2004/64 ,  C01P2004/80 ,  C01P2006/12 ,  C04B35/44 ,  C04B2235/3215 ,  C04B2235/3224 ,  C04B2235/3262 ,  C04B2235/5454 ,  Y10T428/2982

摘要： Methods are described that have the capability of producing submicron/nanoscale particles, in some embodiments dispersible, at high production rates. In some embodiments, the methods result in the production of particles with an average diameter less than about 75 nanometers that are produced at a rate of at least about 35 grams per hour. In other embodiments, the particles are highly uniform. These methods can be used to form particle collections and/or powder coatings. Powder coatings and corresponding methods are described based on the deposition of highly uniform submicron/nanoscale particles.

摘要翻译： 描述了在高生产率下具有产生亚微米/纳米级颗粒的能力的方法，在一些实施方案中可分散。 在一些实施方案中，该方法导致以至少约35克/小时的速率生产平均直径小于约75纳米的颗粒。 在其它实施方案中，颗粒是高度均匀的。 这些方法可用于形成颗粒收集和/或粉末涂料。 基于高度均匀的亚微米/纳米级颗粒的沉积来描述粉末涂料和相应的方法。

公开(公告)号：US20090020411A1

公开(公告)日：2009-01-22

申请号：US12077076

申请日：2008-03-14

申请人： Dean M. Holunga ,  William E. McGovern ,  Robert B. Lynch

发明人： Dean M. Holunga ,  William E. McGovern ,  Robert B. Lynch

IPC分类号： B01J19/12

CPC分类号： B01J19/121 ,  B01J2219/0869 ,  B01J2219/0871 ,  B82Y30/00 ,  B82Y40/00 ,  C01G1/02 ,  C01G23/07 ,  C01P2002/72 ,  C01P2004/51 ,  C01P2004/64 ,  C01P2006/12

摘要： Laser pyrolysis apparatuses can provide for the engineering of product inorganic particles in-flight through the use of jet inlets that introduce a composition, such as an inert gas or a surface modifying composition, at high velocity. Under strong mixing conditions, the inorganic particle flow can be manipulated while also reducing particle agglomeration. These strong mixing apparatuses have been found to be effective at forming high quality crystals with structures that inherently grow relatively slowly through the slowing of the quenching process to maintain the crystal development until a desired high degree of crystallinity is achieved. Also, the surface chemistry of the particles can be manipulated in the flow to engineer desired inorganic particle surface chemistry.

摘要翻译： 激光热解装置可以通过使用以高速引入诸如惰性气体或表面改性组合物的组合物的喷射入口来提供飞行中的产品无机颗粒的工程。 在强混合条件下，可以操作无机颗粒流，同时还可以减少颗粒聚集。 已经发现，这些强混合装置在形成高质量晶体时是有效的，其结构通过淬火过程的减慢固有地相对缓慢地生长，以保持晶体发育，直到达到期望的高结晶度。 此外，可以在流程中操纵颗粒的表面化学以设计所需的无机颗粒表面化学。

公开(公告)号：US20070212510A1

公开(公告)日：2007-09-13

申请号：US11717605

申请日：2007-03-13

申请人： Henry Hieslmair ,  Ronald J. Mosso ,  Robert B. Lynch ,  Shivkumar Chiruvolu ,  William E. McGovern ,  Craig R. Horne ,  Narayan Solayappan ,  Ronald M. Cornell

发明人： Henry Hieslmair ,  Ronald J. Mosso ,  Robert B. Lynch ,  Shivkumar Chiruvolu ,  William E. McGovern ,  Craig R. Horne ,  Narayan Solayappan ,  Ronald M. Cornell

IPC分类号： B32B33/00

CPC分类号： C23C16/54 ,  C23C16/01 ,  C23C16/24 ,  C23C16/482 ,  C23C16/483 ,  H01L31/0236 ,  H01L31/035281 ,  H01L31/03682 ,  H01L31/0475 ,  H01L31/068 ,  H01L31/18 ,  H01L31/1804 ,  H01L31/1812 ,  H01L31/182 ,  Y02E10/546 ,  Y02E10/547 ,  Y02P70/521 ,  Y10T428/14 ,  Y10T428/24802

摘要： Thin semiconductor foils can be formed using light reactive deposition. These foils can have an average thickness of less than 100 microns. In some embodiments, the semiconductor foils can have a large surface area, such as greater than about 900 square centimeters. The foil can be free standing or releasably held on one surface. The semiconductor foil can comprise elemental silicon, elemental germanium, silicon carbide, doped forms thereof, alloys thereof or mixtures thereof. The foils can be formed using a release layer that can release the foil after its deposition. The foils can be patterned, cut and processed in other ways for the formation of devices. Suitable devices that can be formed form the foils include, for example, photovoltaic modules and display control circuits.

摘要翻译： 可以使用光反应性沉积形成薄的半导体箔。 这些箔片的平均厚度可以小于100微米。 在一些实施例中，半导体箔可以具有大的表面积，例如大于约900平方厘米。 箔可以自由站立或可释放地保持在一个表面上。 半导体箔可以包括元素硅，元素锗，碳化硅，其掺杂形式，其合金或其混合物。 箔可以使用可以在其沉积后释放箔的释放层来形成。 箔可以以其他方式图案化，切割和加工以形成装置。 可以由箔形成的合适的装置包括例如光伏模块和显示控制电路。