公开(公告)号：US20110250537A1

公开(公告)日：2011-10-13

申请号：US12965339

申请日：2010-12-10

申请人： Emad AQAD ,  Mingqi Li ,  Joseph Mattia ,  Cheng-Bai Xu

发明人： Emad AQAD ,  Mingqi Li ,  Joseph Mattia ,  Cheng-Bai Xu

IPC分类号： G03F7/004 ,  G03F7/20 ,  C07J9/00

CPC分类号： G03F7/0045 ,  C07C381/12 ,  C07J31/006 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/0382

摘要： New photoacid generator compounds (“PAGs”) are provided that comprise a cholate moiety and photoresist compositions that comprise such PAG compounds.

摘要翻译： 提供新的光酸产生剂化合物（“PAG”），其包含胆酸盐部分和包含这种PAG化合物的光致抗蚀剂组合物。

公开(公告)号：US09255079B2

公开(公告)日：2016-02-09

申请号：US12965368

申请日：2010-12-10

申请人： Mingqi Li ,  Emad Aqad ,  Cong Liu ,  Joseph Mattia ,  Cheng-Bai Xu ,  George G. Barclay

发明人： Mingqi Li ,  Emad Aqad ,  Cong Liu ,  Joseph Mattia ,  Cheng-Bai Xu ,  George G. Barclay

IPC分类号： C07D333/46 ,  C07D335/02 ,  C07D337/04 ,  C07C303/32 ,  C07C309/06 ,  C07C309/12 ,  G03F7/004 ,  C07C381/12 ,  C07D493/20 ,  C07J31/00 ,  G03F7/039 ,  G03F7/038

CPC分类号： G03F7/0045 ,  C07C303/32 ,  C07C309/06 ,  C07C309/12 ,  C07C321/30 ,  C07C381/12 ,  C07C2603/74 ,  C07D333/46 ,  C07D335/02 ,  C07D337/04 ,  C07D493/20 ,  C07J31/006 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/0382 ,  G03F7/0392 ,  G03F7/0397

摘要： New methods are provided for synthesis of photoacid generator compounds (“PAGs”), new photoacid generator compounds and photoresist compositions that comprise such PAG compounds. In a particular aspect, sulfonium-containing (S+) photoacid generators and methods of synthesis of sulfonium photoacid generators are provided.

摘要翻译： 提供了新的方法用于合成光酸产生剂化合物（“PAG”），新的光酸产生剂化合物和包含这种PAG化合物的光致抗蚀剂组合物。 在特定方面，提供含锍（S +）光酸产生剂和合成锍光酸发生剂的方法。

公开(公告)号：US09671689B2

公开(公告)日：2017-06-06

申请号：US12965339

申请日：2010-12-10

申请人： Emad Aqad ,  Mingqi Li ,  Joseph Mattia ,  Cheng-Bai Xu

发明人： Emad Aqad ,  Mingqi Li ,  Joseph Mattia ,  Cheng-Bai Xu

IPC分类号： C07J31/00 ,  G03F7/004 ,  C07C381/12 ,  G03F7/038

CPC分类号： G03F7/0045 ,  C07C381/12 ,  C07J31/006 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/0382

摘要： New photoacid generator compounds (“PAGs”) are provided that comprise a cholate moiety and photoresist compositions that comprise such PAG compounds.

公开(公告)号：US10670965B2

公开(公告)日：2020-06-02

申请号：US13077947

申请日：2011-03-31

申请人： Emad Aqad ,  Cong Liu ,  Cheng-Bai Xu ,  Mingqi Li

发明人： Emad Aqad ,  Cong Liu ,  Cheng-Bai Xu ,  Mingqi Li

IPC分类号： G03F7/039 ,  G03F7/20 ,  G03F7/004

摘要： New polymers are provided comprising (i) one or more covalently linked photoacid generator moieties and (ii) one or more photoacid-labile groups, wherein the one or more photoacid generator moieties are a component of one or more of the photoacid-labile groups. Preferred polymers of the invention are suitable for use in photoresists imaged at short wavelengths such as sub-200 nm, particularly 193 nm.

公开(公告)号：US08338077B2

公开(公告)日：2012-12-25

申请号：US12820331

申请日：2010-06-22

申请人： Mingqi Li ,  Cheng-Bai Xu ,  Emad Aqad ,  Cong Liu

发明人： Mingqi Li ,  Cheng-Bai Xu ,  Emad Aqad ,  Cong Liu

IPC分类号： G03F7/028 ,  G03F7/029 ,  G03F7/039 ,  G03F7/26

CPC分类号： G03F7/0045 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/0382 ,  G03F7/0392 ,  G03F7/0397

摘要： This invention relates to new photoacid generator compounds and photoresist compositions that comprise such compounds. In particular, the invention relates to photoacid generator compounds that comprise a multi cyclic lactone moiety.

摘要翻译： 本发明涉及包含这些化合物的新的光酸产生剂化合物和光致抗蚀剂组合物。 特别地，本发明涉及包含多环内酯部分的光酸产生剂化合物。

公开(公告)号：US09348220B2

公开(公告)日：2016-05-24

申请号：US13077943

申请日：2011-03-31

申请人： Emad Aqad ,  Mingqi Li ,  Cheng-Bai Xu ,  Cong Liu

发明人： Emad Aqad ,  Mingqi Li ,  Cheng-Bai Xu ,  Cong Liu

IPC分类号： G03F7/004 ,  G03F7/26 ,  C07C303/32 ,  C07C309/06 ,  C07C309/07 ,  C07C309/12 ,  C07C309/19 ,  C07D313/00 ,  C07D315/00 ,  C07D327/00 ,  G03F7/038 ,  G03F7/039

CPC分类号： G03F7/0045 ,  C07C303/32 ,  C07C309/06 ,  C07C309/07 ,  C07C309/12 ,  C07C309/19 ,  C07D313/00 ,  C07D315/00 ,  C07D327/00 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/0382 ,  G03F7/0392 ,  G03F7/0395 ,  G03F7/0397

摘要： New methods are provided for synthesis of photoacid generator compounds (“PAGs”), new photoacid generator compounds and photoresist compositions that comprise such PAG compounds. In a particular aspect, photoacid generators that comprise 1) a SO3− moiety; 2) one or more fluorinated carbons; and 3) one or more of the fluorinated carbons either directly or indirectly substituted by an ester keto group.

摘要翻译： 提供了新的方法用于合成光酸产生剂化合物（“PAG”），新的光酸产生剂化合物和包含这种PAG化合物的光致抗蚀剂组合物。 在特定方面，光酸产生剂包含1）SO 3部分; 2）一个或多个氟化碳; 和3）直接或间接被酯酮基取代的一个或多个氟化碳。

公开(公告)号：US09156785B2

公开(公告)日：2015-10-13

申请号：US13296949

申请日：2011-11-15

申请人： Emad Aqad ,  Mingqi Li ,  Cheng-Bai Xu ,  Deyan Wang ,  Cong Liu ,  Joon Seok Oh ,  Shintaro Yamada

发明人： Emad Aqad ,  Mingqi Li ,  Cheng-Bai Xu ,  Deyan Wang ,  Cong Liu ,  Joon Seok Oh ,  Shintaro Yamada

IPC分类号： G03F7/004 ,  G03F7/30 ,  C07C303/32 ,  C07C309/19 ,  C07C309/24 ,  C08F220/22 ,  C08F228/02 ,  C07C309/04 ,  C07C309/08 ,  C07C309/06 ,  C07C309/12 ,  C07C309/20 ,  C07C309/23 ,  C07C381/12 ,  G03F7/38 ,  C07C63/72 ,  C07C309/17 ,  G03F7/038 ,  G03F7/039 ,  G03F7/20

CPC分类号： C07C381/12 ,  C07C63/72 ,  C07C303/32 ,  C07C309/04 ,  C07C309/06 ,  C07C309/08 ,  C07C309/12 ,  C07C309/17 ,  C07C309/19 ,  C07C309/20 ,  C07C309/23 ,  C07C309/24 ,  C07C2602/42 ,  C08F220/22 ,  C08F228/02 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/0382 ,  G03F7/0397 ,  G03F7/2041 ,  G03F7/38

摘要： This invention relates to new photoacid generator compounds and photoresist compositions that comprise such compounds. In particular, the invention relates to photoacid generator compounds that comprise base-cleavable groups.

摘要翻译： 本发明涉及包含这些化合物的新的光酸产生剂化合物和光致抗蚀剂组合物。 特别地，本发明涉及包含可碱基裂解基团的光酸产生剂化合物。

公开(公告)号：US20120129104A1

公开(公告)日：2012-05-24

申请号：US13297031

申请日：2011-11-15

申请人： Emad AQAD ,  Mingqi Li ,  Cheng-Bai Xu ,  Cong Liu

发明人： Emad AQAD ,  Mingqi Li ,  Cheng-Bai Xu ,  Cong Liu

IPC分类号： G03F7/20 ,  G03F7/027 ,  C07D493/08

CPC分类号： G03F7/0045 ,  C07D493/08 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/0397

摘要： New lactone-containing photoacid generator compounds (“PAGs”) and photoresist compositions that comprise such PAG compounds are provided. These photoresist compositions are useful in the manufacture of electronic devices

摘要翻译： 提供了含有这种PAG化合物的新的含内酯的光酸产生剂化合物（“PAG”）和光致抗蚀剂组合物。 这些光致抗蚀剂组合物可用于制造电子器件

公开(公告)号：US09720321B2

公开(公告)日：2017-08-01

申请号：US13297031

申请日：2011-11-15

申请人： Emad Aqad ,  Mingqi Li ,  Cheng-Bai Xu ,  Cong Liu

发明人： Emad Aqad ,  Mingqi Li ,  Cheng-Bai Xu ,  Cong Liu

IPC分类号： G03F7/004 ,  C07D493/08 ,  G03F7/039

CPC分类号： G03F7/0045 ,  C07D493/08 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/0397

摘要： New lactone-containing photoacid generator compounds (“PAGs”) and photoresist compositions that comprise each PAG compounds are provided. These photoresist compositions are useful in the manufacture of electronic device.

公开(公告)号：US20110269074A1

公开(公告)日：2011-11-03

申请号：US13077947

申请日：2011-03-31

申请人： Emad Aqad ,  Cong Liu ,  Cheng-Bai Xu ,  Mingqi Li

发明人： Emad Aqad ,  Cong Liu ,  Cheng-Bai Xu ,  Mingqi Li

IPC分类号： G03F7/20 ,  C08F12/30

摘要： New polymers are provided comprising (i) one or more covalently linked photoacid generator moieties and (ii) one or more photoacid-labile groups, wherein the one or more photoacid generator moieties are a component of one or more of the photoacid-labile groups. Preferred polymers of the invention are suitable for use in photoresists imaged at short wavelengths such as sub-200 nm, particularly 193 nm.

摘要翻译： 提供新的聚合物，其包含（i）一种或多种共价连接的光酸产生剂部分和（ii）一种或多种光致酸不稳定基团，其中所述一种或多种光酸产生剂部分是一种或多种光酸不稳定基团的组分。 本发明优选的聚合物适用于在短波长例如亚200nm，特别是193nm下成像的光致抗蚀剂。