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    Method of manufacturing an optical element using a hologram
    1.
    发明授权
    Method of manufacturing an optical element using a hologram 失效
    使用全息图制造光学元件的方法

    公开(公告)号：US07061626B1

    公开(公告)日：2006-06-13

    申请号：US10845251

    申请日：2004-05-14

    申请人： Frank Schillke ,  Susanne Beder ,  Jochen Hetzler

    发明人： Frank Schillke ,  Susanne Beder ,  Jochen Hetzler

    IPC分类号： G01B9/02

    CPC分类号： G01B9/021 ,  G02B5/32 ,  G03H1/08 ,  G03H2001/0072

    摘要： A method of manufacturing an optical element having an optical surface of a target shape includes performing an interferometric test using an interferometer optics, wherein the interferometer optics includes a hologram that deflects a beam of measuring light by a substantial angle or that displaces an axis of symmetry of measuring light emerging from the hologram with respect to an axis of symmetry of measuring light incident on the hologram.

    摘要翻译： 制造具有目标形状的光学表面的光学元件的方法包括使用干涉仪光学器件执行干涉测试，其中所述干涉仪光学器件包括将测量光束偏转相当角度的全息图，或者使对称轴 测量相对于入射在全息图上的测量光的对称轴从全息图出射的光。

    Method of manufacturing an optical element
    2.
    发明授权
    Method of manufacturing an optical element 有权
    制造光学元件的方法

    公开(公告)号：US07728987B2

    公开(公告)日：2010-06-01

    申请号：US11596187

    申请日：2004-05-14

    申请人： Ralf Arnold ,  Bernd Dörband ,  Frank Schillke ,  Susanne Beder

    发明人： Ralf Arnold ,  Bernd Dörband ,  Frank Schillke ,  Susanne Beder

    IPC分类号： G01B11/02

    CPC分类号： G01B11/2441

    摘要： A method of manufacturing an optical element includes testing the optical element by using an interferometer optics generating a beam of measuring light illuminating only a sub-aperture of the tested optical element. The interferometer optics comprises a hologram. Results of the sub-aperture measurement are stitched together to obtain a measuring result with respect to the full surface of the optical element. Further, a method of calibrating the interferometer optics includes performing an interferometric measurement using a calibrating optics having a hologram covering only a sub-aperture of the full cross section of the beam of measuring light generated by the interferometer optics and stitching together the sub-aperture measurements to obtain a result indicative for the full cross section of the interferometer optics.

    摘要翻译： 制造光学元件的方法包括通过使用产生仅照射被测光学元件的子孔径的测量光束的干涉仪光学元件来测试光学元件。 干涉仪光学器件包括全息图。 子孔径测量的结果被缝合在一起以获得关于光学元件的整个表面的测量结果。 此外，校准干涉仪光学器件的方法包括使用校准光学器件执行干涉测量，所述校准光学器件具有仅覆盖由干涉仪光学器件产生的测量光束的全部横截面的子孔径并将子孔缝合在一起的全息图 测量以获得指示干涉仪光学器件的完整横截面的结果。

    Method for measuring and manufacturing an optical element and optical apparatus
    3.
    发明申请
    Method for measuring and manufacturing an optical element and optical apparatus 审中-公开
    光学元件和光学装置的测量和制造方法

    公开(公告)号：US20050225774A1

    公开(公告)日：2005-10-13

    申请号：US11098546

    申请日：2005-04-05

    申请人： Rolf Freimann ,  Susanne Beder ,  Guenther Seitz ,  Frank Schillke ,  Bernd Doerband ,  Heinz Martin ,  Franz Krug

    发明人： Rolf Freimann ,  Susanne Beder ,  Guenther Seitz ,  Frank Schillke ,  Bernd Doerband ,  Heinz Martin ,  Franz Krug

    IPC分类号： G01B9/02 ,  G01M11/02 ,  G02B13/18 ,  G02B27/62

    CPC分类号： G01M11/0214 ,  G01M11/025 ,  G01M11/0271 ,  G02B13/18 ,  G02B27/62

    摘要： A method of processing an optical element comprises testing the optical surface of the optical element using an interferometer optics for generating a beam of measuring light; wherein the interferometer optics has a plurality of optical elements which are configured and arranged such that the measuring light is substantially orthogonally incident on a reflecting surface, at each location thereof; and wherein the method further comprises: measuring at least one property of the interferometer optics, disposing the optical surface of the optical element at a measuring position relative to the interferometer optics within the beam of measuring light, and performing at least one interferometric measurement; determining deviations of the optical surface of the first optical element from a target shape thereof, based on the interferometric measurement and the at least one measured property of the interferometer optics.

    摘要翻译： 一种处理光学元件的方法包括使用用于产生测量光束的干涉仪光学器件来测试光学元件的光学表面; 其中所述干涉仪光学元件具有多个光学元件，所述多个光学元件被配置和布置成使得所述测量光在其每个位置处基本正交入射在反射表面上; 并且其中所述方法还包括：测量所述干涉仪光学器件的至少一个属性，将所述光学元件的光学表面相对于所述测量光束内的所述干涉仪光学器件设置在测量位置处，并且执行至少一个干涉测量; 基于干涉测量和干涉仪光学器件的至少一个测量特性，确定第一光学元件的光学表面与其目标形状的偏差。

    Method of Manufacturing an Optical Element
    4.
    发明申请
    Method of Manufacturing an Optical Element 有权
    制造光学元件的方法

    公开(公告)号：US20080043247A1

    公开(公告)日：2008-02-21

    申请号：US11596187

    申请日：2004-05-14

    申请人： Ralf Arnold ,  Bernd Dorband ,  Frank Schillke ,  Susanne Beder

    发明人： Ralf Arnold ,  Bernd Dorband ,  Frank Schillke ,  Susanne Beder

    IPC分类号： G01B11/25

    CPC分类号： G01B11/2441

    摘要： A method of manufacturing an optical element includes testing the optical element by using an interferometer optics generating a beam of measuring light illuminating only a sub-aperture of the tested optical element. The interferometer optics comprises a hologram. Results of the sub-aperture measurement are stitched together to obtain a measuring result with respect to the full surface of the optical element. Further, a method of calibrating the interferometer optics includes performing an interferometric measurement using a calibrating optics having a hologram covering only a sub-aperture of the full cross section of the beam of measuring light generated by the interferometer optics and stitching together the sub-aperture measurements to obtain a result indicative for the full cross section of the interferometer optics.

    摘要翻译： 制造光学元件的方法包括通过使用产生仅照射被测光学元件的子孔径的测量光束的干涉仪光学元件来测试光学元件。 干涉仪光学器件包括全息图。 子孔径测量的结果被缝合在一起以获得关于光学元件的整个表面的测量结果。 此外，校准干涉仪光学器件的方法包括使用校准光学器件执行干涉测量，所述校准光学器件具有仅覆盖由干涉仪光学器件产生的测量光束的全部横截面的子孔径并将子孔缝合在一起的全息图 测量以获得指示干涉仪光学器件的完整横截面的结果。

    Optical system, method of manufacturing an optical system and method of manufacturing an optical element
    8.
    发明授权
    Optical system, method of manufacturing an optical system and method of manufacturing an optical element 有权
    光学系统，制造光学系统的方法和制造光学元件的方法

    公开(公告)号：US07605926B1

    公开(公告)日：2009-10-20

    申请号：US12197035

    申请日：2008-08-22

    申请人： Jochen Hetzler ,  Ralf Arnold ,  Frank Schillke ,  Bernd Doerband

    发明人： Jochen Hetzler ,  Ralf Arnold ,  Frank Schillke ,  Bernd Doerband

    IPC分类号： G01B9/02 ,  G01B11/02

    CPC分类号： G01B9/02039 ,  G01B9/02057 ,  G01M11/0221 ,  G01M11/025 ,  G01M11/0271

    摘要： A method of positioning optical elements relative to each other uses an interferometer apparatus comprising a plurality of holograms generating beams of adjustment measuring light which are incident on optical surfaces of the optical elements. Interference patterns generated by superimposing adjustment measuring light of the beams reflected from the surfaces are indicative of positioning errors of the optical elements. The beams of adjustment measuring light may comprise focused beams forming a point focus on the optical surface and beams of light which is orthogonally incident on extended portions on the optical surface.

    摘要翻译： 相对于彼此定位光学元件的方法使用包括多个全息图的干涉仪装置，其产生入射在光学元件的光学表面上的测量光的光束。 通过叠加来自表面反射的光束的调整测量光产生的干涉图案表示光学元件的定位误差。 调节光束测量光可以包括在光学表面上形成点聚焦的聚焦光束和正交入射在光学表面上的延伸部分上的光束。

    Objective with at least one aspheric lens
    9.
    发明授权
    Objective with at least one aspheric lens 失效
    目标至少有一个非球面透镜

    公开(公告)号：US06831794B2

    公开(公告)日：2004-12-14

    申请号：US10600288

    申请日：2003-06-21

    申请人： Karl-Heinz Schuster ,  Frank Schillke ,  Franz-Josef Stickel ,  Alexander Epple

    发明人： Karl-Heinz Schuster ,  Frank Schillke ,  Franz-Josef Stickel ,  Alexander Epple

    IPC分类号： G02B302

    CPC分类号： G03F7/70241 ,  G02B13/143 ,  G02B13/22

    摘要： A lens has at least one aspheric lens surface, an objective with at least one aspheric lens surface, and a projection exposure device for microlithography and a method for the production of microstructured components with an objective having at least one aspheric lens surface. The object of the invention is to provide a method by which new designs with aspheric lens surfaces can be generated without consultation with manufacturing, with this object attained by the measure of describing the aspheric lens surfaces by Zernike polynomials, which makes it is possible to undertake a classification of aspheric lens surfaces such that the respective aspheric lens surface can be polished and tested at a justifiable cost when at least two of three, or all three, of certain conditions are present.

    摘要翻译： 透镜具有至少一个非球面透镜表面，具有至少一个非球面透镜表面的物镜和用于微光刻的投影曝光装置以及用于产生具有至少一个非球面透镜表面的物镜的微结构元件的方法。 本发明的目的是提供一种可以在不咨询制造的情况下产生具有非球面透镜表面的新设计的方法，该目的通过采用Zernike多项式描述非球面透镜表面的措施获得，这使得可以进行 非球面透镜表面的分类，使得当存在三种或全部三种某些条件中的至少两种时，可以以合理的成本对相应的非球面透镜表面进行抛光和测试。

    Method and apparatus for determining a deviation of an actual shape from a desired shape of an optical surface
    10.
    发明授权
    Method and apparatus for determining a deviation of an actual shape from a desired shape of an optical surface 有权
    用于确定实际形状与光学表面的期望形状的偏差的方法和装置

    公开(公告)号：US08345262B2

    公开(公告)日：2013-01-01

    申请号：US13361442

    申请日：2012-01-30

    申请人： Frank Schillke ,  Rolf Freimann ,  Matthias Dreher

    发明人： Frank Schillke ,  Rolf Freimann ,  Matthias Dreher

    IPC分类号： G01B11/02

    CPC分类号： G01B11/2441 ,  G01B9/02039

    摘要： An optical element having an optical surface (12; 103), which optical surface has an actual shape, the actual shape deviating from a desired shape by maximum 0.2 nm, wherein the desired shape is either: a free-form surface having a deviation from its best-fitting sphere of at least 5 μm or a substantially rotationally symmetrical surface having a deviation from its best-fitting sphere of at least 0.5 mm.

    摘要翻译： 一种具有光学表面（12; 103）的光学元件，该光学表面具有实际形状，实际形状偏离所需形状最大为0.2nm，其中所需形状为：自由曲面与 其最适合的球体至少为5μm，或者具有与其最佳拟合球体至少为0.5mm的偏差的基本上旋转对称的表面。