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    Method for measuring and manufacturing an optical element and optical apparatus
    2.
    发明申请
    Method for measuring and manufacturing an optical element and optical apparatus 审中-公开
    光学元件和光学装置的测量和制造方法

    公开(公告)号：US20050225774A1

    公开(公告)日：2005-10-13

    申请号：US11098546

    申请日：2005-04-05

    申请人： Rolf Freimann ,  Susanne Beder ,  Guenther Seitz ,  Frank Schillke ,  Bernd Doerband ,  Heinz Martin ,  Franz Krug

    发明人： Rolf Freimann ,  Susanne Beder ,  Guenther Seitz ,  Frank Schillke ,  Bernd Doerband ,  Heinz Martin ,  Franz Krug

    IPC分类号： G01B9/02 ,  G01M11/02 ,  G02B13/18 ,  G02B27/62

    CPC分类号： G01M11/0214 ,  G01M11/025 ,  G01M11/0271 ,  G02B13/18 ,  G02B27/62

    摘要： A method of processing an optical element comprises testing the optical surface of the optical element using an interferometer optics for generating a beam of measuring light; wherein the interferometer optics has a plurality of optical elements which are configured and arranged such that the measuring light is substantially orthogonally incident on a reflecting surface, at each location thereof; and wherein the method further comprises: measuring at least one property of the interferometer optics, disposing the optical surface of the optical element at a measuring position relative to the interferometer optics within the beam of measuring light, and performing at least one interferometric measurement; determining deviations of the optical surface of the first optical element from a target shape thereof, based on the interferometric measurement and the at least one measured property of the interferometer optics.

    摘要翻译： 一种处理光学元件的方法包括使用用于产生测量光束的干涉仪光学器件来测试光学元件的光学表面; 其中所述干涉仪光学元件具有多个光学元件，所述多个光学元件被配置和布置成使得所述测量光在其每个位置处基本正交入射在反射表面上; 并且其中所述方法还包括：测量所述干涉仪光学器件的至少一个属性，将所述光学元件的光学表面相对于所述测量光束内的所述干涉仪光学器件设置在测量位置处，并且执行至少一个干涉测量; 基于干涉测量和干涉仪光学器件的至少一个测量特性，确定第一光学元件的光学表面与其目标形状的偏差。

    Method of manufacturing an optical system
    5.
    发明授权
    Method of manufacturing an optical system 有权
    制造光学系统的方法

    公开(公告)号：US07133225B1

    公开(公告)日：2006-11-07

    申请号：US10965909

    申请日：2004-10-18

    申请人： Rolf Freimann ,  Bernhard Fellner ,  Hans-Guenther Sachs ,  Hartmut Brandenburg ,  Bernd Doerband ,  Frank Schillke

    发明人： Rolf Freimann ,  Bernhard Fellner ,  Hans-Guenther Sachs ,  Hartmut Brandenburg ,  Bernd Doerband ,  Frank Schillke

    IPC分类号： G02B7/02 ,  G01B11/00 ,  G01N23/207

    CPC分类号： G02B7/023 ,  G02B7/1821 ,  G03F7/70258 ,  G03F7/70825

    摘要： A method of manufacturing an optical system comprises assembling an optical element on a mounting frame thereof. The mounting frame is disposed on a rotary table having an axis of rotation, and the mounting frame is adjusted such that a predefined axis of symmetry thereof is parallel to the axis of rotation. The optical element is placed on the mounting frame, and an interferometric measurement of a surface of the optical element is performed. The interferometric measurement is analyzed to arrange the optical element relative to the mounting frame such that a predefined axis of the optical element is parallel to the axis of rotation.

    摘要翻译： 制造光学系统的方法包括在其安装框架上组装光学元件。 安装框架设置在具有旋转轴线的旋转工作台上，并且调整安装框架使其预定的对称轴线平行于旋转轴线。 将光学元件放置在安装框架上，并执行光学元件的表面的干涉测量。 分析干涉测量以使光学元件相对于安装框架布置，使得光学元件的预定轴线平行于旋转轴线。

    Method of manufacturing an optical element
    6.
    发明授权
    Method of manufacturing an optical element 有权
    制造光学元件的方法

    公开(公告)号：US07728987B2

    公开(公告)日：2010-06-01

    申请号：US11596187

    申请日：2004-05-14

    申请人： Ralf Arnold ,  Bernd Dörband ,  Frank Schillke ,  Susanne Beder

    发明人： Ralf Arnold ,  Bernd Dörband ,  Frank Schillke ,  Susanne Beder

    IPC分类号： G01B11/02

    CPC分类号： G01B11/2441

    摘要： A method of manufacturing an optical element includes testing the optical element by using an interferometer optics generating a beam of measuring light illuminating only a sub-aperture of the tested optical element. The interferometer optics comprises a hologram. Results of the sub-aperture measurement are stitched together to obtain a measuring result with respect to the full surface of the optical element. Further, a method of calibrating the interferometer optics includes performing an interferometric measurement using a calibrating optics having a hologram covering only a sub-aperture of the full cross section of the beam of measuring light generated by the interferometer optics and stitching together the sub-aperture measurements to obtain a result indicative for the full cross section of the interferometer optics.

    摘要翻译： 制造光学元件的方法包括通过使用产生仅照射被测光学元件的子孔径的测量光束的干涉仪光学元件来测试光学元件。 干涉仪光学器件包括全息图。 子孔径测量的结果被缝合在一起以获得关于光学元件的整个表面的测量结果。 此外，校准干涉仪光学器件的方法包括使用校准光学器件执行干涉测量，所述校准光学器件具有仅覆盖由干涉仪光学器件产生的测量光束的全部横截面的子孔径并将子孔缝合在一起的全息图 测量以获得指示干涉仪光学器件的完整横截面的结果。

    Method of manufacturing an optical element using a hologram
    7.
    发明授权
    Method of manufacturing an optical element using a hologram 失效
    使用全息图制造光学元件的方法

    公开(公告)号：US07061626B1

    公开(公告)日：2006-06-13

    申请号：US10845251

    申请日：2004-05-14

    申请人： Frank Schillke ,  Susanne Beder ,  Jochen Hetzler

    发明人： Frank Schillke ,  Susanne Beder ,  Jochen Hetzler

    IPC分类号： G01B9/02

    CPC分类号： G01B9/021 ,  G02B5/32 ,  G03H1/08 ,  G03H2001/0072

    摘要： A method of manufacturing an optical element having an optical surface of a target shape includes performing an interferometric test using an interferometer optics, wherein the interferometer optics includes a hologram that deflects a beam of measuring light by a substantial angle or that displaces an axis of symmetry of measuring light emerging from the hologram with respect to an axis of symmetry of measuring light incident on the hologram.

    摘要翻译： 制造具有目标形状的光学表面的光学元件的方法包括使用干涉仪光学器件执行干涉测试，其中所述干涉仪光学器件包括将测量光束偏转相当角度的全息图，或者使对称轴 测量相对于入射在全息图上的测量光的对称轴从全息图出射的光。

    Method of Manufacturing an Optical Element
    8.
    发明申请
    Method of Manufacturing an Optical Element 有权
    制造光学元件的方法

    公开(公告)号：US20080043247A1

    公开(公告)日：2008-02-21

    申请号：US11596187

    申请日：2004-05-14

    申请人： Ralf Arnold ,  Bernd Dorband ,  Frank Schillke ,  Susanne Beder

    发明人： Ralf Arnold ,  Bernd Dorband ,  Frank Schillke ,  Susanne Beder

    IPC分类号： G01B11/25

    CPC分类号： G01B11/2441

    摘要： A method of manufacturing an optical element includes testing the optical element by using an interferometer optics generating a beam of measuring light illuminating only a sub-aperture of the tested optical element. The interferometer optics comprises a hologram. Results of the sub-aperture measurement are stitched together to obtain a measuring result with respect to the full surface of the optical element. Further, a method of calibrating the interferometer optics includes performing an interferometric measurement using a calibrating optics having a hologram covering only a sub-aperture of the full cross section of the beam of measuring light generated by the interferometer optics and stitching together the sub-aperture measurements to obtain a result indicative for the full cross section of the interferometer optics.

    摘要翻译： 制造光学元件的方法包括通过使用产生仅照射被测光学元件的子孔径的测量光束的干涉仪光学元件来测试光学元件。 干涉仪光学器件包括全息图。 子孔径测量的结果被缝合在一起以获得关于光学元件的整个表面的测量结果。 此外，校准干涉仪光学器件的方法包括使用校准光学器件执行干涉测量，所述校准光学器件具有仅覆盖由干涉仪光学器件产生的测量光束的全部横截面的子孔径并将子孔缝合在一起的全息图 测量以获得指示干涉仪光学器件的完整横截面的结果。

    Method and apparatus for determining a deviation of an actual shape from a desired shape of an optical surface
    9.
    发明授权
    Method and apparatus for determining a deviation of an actual shape from a desired shape of an optical surface 有权
    用于确定实际形状与光学表面的期望形状的偏差的方法和装置

    公开(公告)号：US08345262B2

    公开(公告)日：2013-01-01

    申请号：US13361442

    申请日：2012-01-30

    申请人： Frank Schillke ,  Rolf Freimann ,  Matthias Dreher

    发明人： Frank Schillke ,  Rolf Freimann ,  Matthias Dreher

    IPC分类号： G01B11/02

    CPC分类号： G01B11/2441 ,  G01B9/02039

    摘要： An optical element having an optical surface (12; 103), which optical surface has an actual shape, the actual shape deviating from a desired shape by maximum 0.2 nm, wherein the desired shape is either: a free-form surface having a deviation from its best-fitting sphere of at least 5 μm or a substantially rotationally symmetrical surface having a deviation from its best-fitting sphere of at least 0.5 mm.

    摘要翻译： 一种具有光学表面（12; 103）的光学元件，该光学表面具有实际形状，实际形状偏离所需形状最大为0.2nm，其中所需形状为：自由曲面与 其最适合的球体至少为5μm，或者具有与其最佳拟合球体至少为0.5mm的偏差的基本上旋转对称的表面。