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    Adjustable assembly
    1.
    发明授权
    Adjustable assembly 有权
    可调组件

    公开(公告)号：US06259571B1

    公开(公告)日：2001-07-10

    申请号：US09503023

    申请日：2000-02-14

    申请人： Hubert Holderer ,  Peter Ruemmer ,  Michael Trunz ,  Bernhard Geuppert ,  Thomas Polzer ,  Johan Dries ,  Hugo Timmers ,  Albert Post

    发明人： Hubert Holderer ,  Peter Ruemmer ,  Michael Trunz ,  Bernhard Geuppert ,  Thomas Polzer ,  Johan Dries ,  Hugo Timmers ,  Albert Post

    IPC分类号： G02B702

    CPC分类号： G12B5/00 ,  G02B7/023 ,  G02B7/026

    摘要： An adjustable assembly comprises a base (mount ring 1), an adjustable part (inner ring 3), a lever (tilting lever 5) and a drive (drive element 6). The lever (tilting lever 5) is connected to the base (mount ring 1) and to the adjustable part (inner ring 3) via two elastic solid pivoting joints (7, 8) oriented in parallel. One of the two solid pivoting joints (7) is divided into two pivoting joint parts (7a, 7b), which are arranged such that along their pivoting axis (9) they are offset sideways on either side of the second solid pivoting joint (8).

    摘要翻译： 可调组件包括基座（安装环1），可调部分（内环3），杠杆（倾斜杆5）和驱动（驱动元件6））。 杠杆（倾斜杆5）通过平行定向的两个弹性固体枢转接头（7,8）连接到基座（安装环1）和可调节部分（内环3）。 两个固定枢转接头（7）中的一个被分成两个枢转接头部分（7a，7b），它们被布置为使得沿着它们的枢转轴线（9），它们在第二固体枢转接头（8）的任一侧侧向偏移 ）。

    Optical projection system
    7.
    发明授权
    Optical projection system 有权
    光学投影系统

    公开(公告)号：US08300210B2

    公开(公告)日：2012-10-30

    申请号：US11664896

    申请日：2005-10-01

    申请人： Johannes Rau ,  Armin Schoeppach ,  Bernhard Gellrich ,  Jens Kugler ,  Martin Mahlmann ,  Bernhard Geuppert ,  Thomas Petasch ,  Gerhard Fuerter

    发明人： Johannes Rau ,  Armin Schoeppach ,  Bernhard Gellrich ,  Jens Kugler ,  Martin Mahlmann ,  Bernhard Geuppert ,  Thomas Petasch ,  Gerhard Fuerter

    IPC分类号： G03B27/54 ,  G03B27/42 ,  G02B7/02

    CPC分类号： G03F7/7015 ,  G02B7/00 ,  G02B7/008 ,  G02B7/021 ,  G02B7/028 ,  G02B7/22 ,  G02B17/08 ,  G02B17/0804 ,  G02B17/0812 ,  G02B17/0892 ,  G03F7/70808 ,  G03F7/70825 ,  G03F7/70833 ,  G03F7/70883

    摘要： An optical projection unit comprising a first optical element module and at least one second optical element module is provided. The first optical element module comprises a first housing unit and at least a first optical element, the first optical element being received within the first housing unit and having an optically used first region defining a first optical axis. The at least one second optical element module is located adjacent to the first optical element module and comprises at least one second optical element, the second optical element defining a second optical axis of the optical projection unit. The first housing unit has a central first housing axis and an outer wall extending in a circumferential direction about the first housing axis. The first optical axis is at least one of laterally offset and inclined with respect to the first housing axis. Furthermore, the first housing axis is substantially collinear with the second optical axis.

    摘要翻译： 提供了包括第一光学元件模块和至少一个第二光学元件模块的光学投影单元。 第一光学元件模块包括第一壳体单元和至少第一光学元件，第一光学元件被接收在第一壳体单元内并且具有限定第一光轴的光学使用的第一区域。 所述至少一个第二光学元件模块位于与所述第一光学元件模块相邻并且包括至少一个第二光学元件，所述第二光学元件限定所述光学投影单元的第二光轴。 第一壳体单元具有中心的第一壳体轴线和围绕第一壳体轴线在圆周方向上延伸的外壁。 第一光轴是相对于第一壳体轴线的横向偏移和倾斜中的至少一个。 此外，第一壳体轴线与第二光轴基本共线。

    PROJECTION EXPOSURE SYSTEM FOR MICROLITHOGRAPHY WITH A MEASUREMENT DEVICE
    9.
    发明申请
    PROJECTION EXPOSURE SYSTEM FOR MICROLITHOGRAPHY WITH A MEASUREMENT DEVICE 有权
    用于具有测量装置的微观计算的投影曝光系统

    公开(公告)号：US20110013171A1

    公开(公告)日：2011-01-20

    申请号：US12838393

    申请日：2010-07-16

    申请人： Ulrich Mueller ,  Joachim Stuehler ,  Oswald Gromer ,  Rolf Freimann ,  Paul Kaufmann ,  Bernhard Geuppert

    发明人： Ulrich Mueller ,  Joachim Stuehler ,  Oswald Gromer ,  Rolf Freimann ,  Paul Kaufmann ,  Bernhard Geuppert

    IPC分类号： G03B27/58

    CPC分类号： G03F7/70775 ,  G03F7/70258 ,  G03F7/706 ,  G03F7/70633 ,  G03F7/70725 ,  G03F7/7085 ,  G03F7/70891

    摘要： A projection exposure system (10) for microlithography which includes: a mask holding device (14) holding a mask (18) with mask structures (20) disposed on the mask, a substrate holding device (36) holding a substrate (30), projection optics (26) imaging the mask structures (20) onto the substrate (30) during an exposure process, and a measurement structure (48) disposed in a defined position with respect to a reference element (16) of the projection exposure system (10), which defined position is mechanically uncoupled from the position of the mask holding device (14). The projection exposure system (10) also includes a detector (52) arranged to record an image of the measurement structure (48) imaged by the projection optics (26). The projection exposure system (10) is configured such that during operation of the projection exposure system (10) the imaging of the mask structures (20) and the imaging of the measurement structure (48) take place at the same time by the projection optics (26. An evaluation device (54) is configured to establish a lateral position of the image of the measurement structure (48) in the area of the detector (52) during the exposure process.

    摘要翻译： 一种用于微光刻的投影曝光系统（10），包括：保持掩模（18）的掩模保持装置（14），掩模结构（20）设置在掩模上;保持基板（30）的基板保持装置（36） 投影光学器件（26）在曝光过程期间将掩模结构（20）成像到衬底（30）上;以及测量结构（48），其相对于投影曝光系统的参考元件（16）设置在限定位置 10），所述限定位置与所述掩模保持装置（14）的位置机械地脱离。 投影曝光系统（10）还包括检测器（52），其被布置成记录由投影光学器件（26）成像的测量结构（48）的图像。 投影曝光系统（10）被配置为使得在投影曝光系统（10）的操作期间，掩模结构（20）的成像和测量结构（48）的成像同时由投影光学器件 （26）评估装置（54）被配置为在曝光处理期间在检测器（52）的区域中建立测量结构（48）的图像的横向位置。

    METHOD AND DEVICE FOR REPLACING OBJECTIVE PARTS
    10.
    发明申请
    METHOD AND DEVICE FOR REPLACING OBJECTIVE PARTS 审中-公开
    用于替换目标部件的方法和装置

    公开(公告)号：US20090260654A1

    公开(公告)日：2009-10-22

    申请号：US12430633

    申请日：2009-04-27

    申请人： Bernhard Geuppert ,  Guido Limbach ,  Harald Woelfle ,  Peter Deufel

    发明人： Bernhard Geuppert ,  Guido Limbach ,  Harald Woelfle ,  Peter Deufel

    IPC分类号： G02B7/14 ,  B08B3/12 ,  B08B7/00 ,  B08B1/00

    CPC分类号： G03F7/70925 ,  B08B3/12 ,  B08B7/0035 ,  B23P6/00 ,  G03F7/70808 ,  G03F7/70825 ,  G03F7/70833 ,  G03F7/70916 ,  G03F7/70975 ,  Y10T29/49723

    摘要： A method and a device for replacing objective parts, especially of a projection or illumination objective for microlithography in which an objective having an objective interior and objective parts provided therein is provided. At least one objective part is replaceably accommodated in the objective. Immediately prior to installation in the objective, the replaceable objective part is cleaned outside the objective interior in at least one cleaning room sealed off from the ambient atmosphere. Immediately after cleaning, the replaceable objective is installed in the objective without contact with the normal ambient atmosphere.

    摘要翻译： 一种用于替换目标部件的方法和装置，特别是用于微光刻的投影或照明物镜，其中设置有设置在其中的物镜内部和物镜部分的物镜。 目标中至少有一个客观部分是可替换的。 在安装目标之前，在与环境大气密封的至少一个清洁室内，可更换的物镜部分被清洁在目标内部的外部。 清洁后立即将可更换的物镜安装在物镜中，而不会与正常的环境气氛接触。