公开(公告)号：US09122151B2

公开(公告)日：2015-09-01

申请号：US13406165

申请日：2012-02-27

申请人： Kana Fujii ,  Hidenori Takahashi ,  Fumiyuki Nishiyama

发明人： Kana Fujii ,  Hidenori Takahashi ,  Fumiyuki Nishiyama

IPC分类号： G03F7/004 ,  G03F7/20 ,  G03F7/039 ,  G03F7/32 ,  B23B3/10

CPC分类号： G03F7/004 ,  B23B3/10 ,  B32B3/10 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/0397 ,  G03F7/20 ,  G03F7/2041 ,  G03F7/325

摘要： A resist composition includes a resin (A) containing any of repeating units (a) of general formulae (I-a) and (I-b) below and any of repeating units (b) of general formula (II) below but containing substantially no repeating unit in which an alcoholic hydroxyl group is introduced, and any of compounds (B) of general formulae (III-a) and (III-b) below.

摘要翻译： 抗蚀剂组合物包含含有下述通式（Ia）和（Ib）的重复单元（a）和下述通式（II）的重复单元（b）中任何一种但基本上不含重复单元的树脂（A） 其中引入醇羟基，以及通式（III-a）和（III-b）的化合物（B）中的任何一种。

公开(公告)号：US08642245B2

公开(公告)日：2014-02-04

申请号：US13421684

申请日：2012-03-15

申请人： Kana Fujii ,  Tomotaka Tsuchimura ,  Toru Fujimori ,  Hidenori Takahashi ,  Takayuki Ito

发明人： Kana Fujii ,  Tomotaka Tsuchimura ,  Toru Fujimori ,  Hidenori Takahashi ,  Takayuki Ito

IPC分类号： G03F7/004 ,  G03F7/30 ,  G03F7/039

CPC分类号： G03F7/0392 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/0397 ,  G03F7/2041 ,  G03F7/30 ,  Y10S430/106 ,  Y10S430/111 ,  Y10S430/12

摘要： According to one embodiment, an actinic-ray- or radiation-sensitive resin composition includes a resin that is decomposed when acted on by an acid to thereby increase its solubility in an alkali developer, a compound that generates an acid when exposed to actinic rays or radiation, and any of basic compounds of general formula (1) below.

摘要翻译： 根据一个实施方案，光化射线或辐射敏感性树脂组合物包括当被酸作用时分解的树脂，从而增加其在碱性显影剂中的溶解度，当暴露于光化射线时产生酸的化合物或 辐射和下述通式（1）的任何碱性化合物。

公开(公告)号：US20120003586A1

公开(公告)日：2012-01-05

申请号：US13257069

申请日：2010-03-23

申请人： Kana Fujii ,  Shuji Hirano ,  Shinki Yamada ,  Toru Fujimori

发明人： Kana Fujii ,  Shuji Hirano ,  Shinki Yamada ,  Toru Fujimori

IPC分类号： G03F7/20 ,  G03F7/004

CPC分类号： C08F212/14 ,  C08F8/12 ,  C08F220/20 ,  C08F2220/1825 ,  C08K5/375 ,  C08K5/41 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/0392 ,  C08F2220/281 ,  C08F220/30

摘要： Provided are an actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition; a resist film using the composition; and a pattern forming method. The actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition includes (A) a resin capable of increasing the solubility in an alkali developer by the action of an acid, the resin containing a repeating unit represented by formula (I), a repeating unit represented by formula (II) and a repeating unit represented by formula (III), and (B) a compound capable of generating a fluorine atom-containing acid upon irradiation with an actinic ray or radiation: wherein each of R1 and R11 independently represents a hydrogen atom or an alkyl group which may have a substituent, and R12 represents a phenyl group which may have a substituent.

摘要翻译： 提供光化射线敏感或辐射敏感性树脂组合物; 使用该组合物的抗蚀剂膜; 和图案形成方法。 光化射线敏感性或辐射敏感性树脂组合物包含（A）能够通过酸的作用增加在碱性显影剂中的溶解性的树脂，含有式（I）表示的重复单元的树脂，表示的重复单元 通过式（II）表示的重复单元和式（III）表示的重复单元，和（B）能够在用光化学射线或辐射照射时能够产生含氟原子的酸的化合物：其中R 1和R 11各自独立地表示氢 原子或可以具有取代基的烷基，R12表示可以具有取代基的苯基。

公开(公告)号：US08871642B2

公开(公告)日：2014-10-28

申请号：US13808496

申请日：2011-08-26

申请人： Yuichiro Enomoto ,  Shinji Tarutani ,  Sou Kamimura ,  Keita Kato ,  Kana Fujii

发明人： Yuichiro Enomoto ,  Shinji Tarutani ,  Sou Kamimura ,  Keita Kato ,  Kana Fujii

IPC分类号： H01L21/312 ,  H01L21/3105 ,  G03F7/039 ,  G03F7/32 ,  G03F7/40 ,  G03F7/20 ,  H01L29/02 ,  G03F7/038

CPC分类号： G03F7/40 ,  G03F7/0382 ,  G03F7/0397 ,  G03F7/20 ,  G03F7/2041 ,  G03F7/325 ,  G03F7/405 ,  H01L29/02

摘要： Provided is a method of forming a pattern, including (a) forming a chemically amplified resist composition into a film, (b) exposing the film to light, (c) developing the exposed film with a developer containing an organic solvent, and (d) rinsing the developed film with a rinse liquid containing an organic solvent, which rinse liquid has a specific gravity larger than that of the developer.

摘要翻译： 提供一种形成图案的方法，包括（a）将化学放大的抗蚀剂组合物形成为膜，（b）使膜暴露于光，（c）用含有机溶剂的显影剂显影曝光的膜，和（d ）用含有有机溶剂的漂洗液冲洗显影的膜，冲洗液的比重大于显影剂的比重。

公开(公告)号：US08795945B2

公开(公告)日：2014-08-05

申请号：US13521332

申请日：2011-03-04

申请人： Kana Fujii ,  Takamitsu Tomiga ,  Toru Fujimori

发明人： Kana Fujii ,  Takamitsu Tomiga ,  Toru Fujimori

IPC分类号： G03F7/039 ,  G03F7/20 ,  G03F7/30

CPC分类号： G03F7/0397 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/0392 ,  G03F7/16 ,  G03F7/2041

摘要： An actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition, and a resist film and a pattern forming method using the composition are provided, the composition including (A) a compound capable of decomposing by the action of an acid to increase the solubility of the resin (A) in an alkali developer; (B) a compound capable of generating an acid upon irradiation with an actinic ray or radiation; (C) a basic compound; and (D) a specific compound containing at least two specific alicyclic hydrocarbon groups each substituted with a hydroxyl group.

摘要翻译： 提供光化射线敏感性或辐射敏感性树脂组合物，以及使用该组合物的抗蚀剂膜和图案形成方法，该组合物包含（A）能够通过酸的作用分解以增加其溶解度的化合物 树脂（A）在碱性显影剂中; （B）能够在用光化射线或辐射照射时能产生酸的化合物; （C）碱性化合物; 和（D）含有至少两个各自被羟基取代的特定脂环族烃基的化合物。

公开(公告)号：US20130017377A1

公开(公告)日：2013-01-17

申请号：US13637269

申请日：2011-03-25

申请人： Shohei Kataoka ,  Kaoru Iwato ,  Sou Kamimura ,  Toru Tsuchihashi ,  Yuichiro Enomoto ,  Kana Fujii ,  Kazuyoshi Mizutani ,  Shinji Tarutani ,  Keita Kato

发明人： Shohei Kataoka ,  Kaoru Iwato ,  Sou Kamimura ,  Toru Tsuchihashi ,  Yuichiro Enomoto ,  Kana Fujii ,  Kazuyoshi Mizutani ,  Shinji Tarutani ,  Keita Kato

IPC分类号： G03F7/004 ,  B32B3/10 ,  G03F7/20

CPC分类号： G03F7/30 ,  C08F220/28 ,  C08F232/08 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/0382 ,  G03F7/039 ,  G03F7/0397 ,  G03F7/0758 ,  G03F7/2041 ,  G03F7/325 ,  Y10T428/24802

摘要： Provided is an actinic-ray- or radiation-sensitive resin composition and a method of forming a pattern using the same, ensuring excellent the etching resistivity and the stability during a post-exposure delay (PED) period. The composition contains a resin containing a repeating unit containing a group that is decomposed when acted on by an acid to thereby produce an alcoholic hydroxyl group, and a compound that generates an acid of pKa≧1.5 when exposed to actinic rays or radiation.

摘要翻译： 提供了一种光化射线或辐射敏感性树脂组合物和使用其形成图案的方法，确保了在曝光后延迟（PED）期间的蚀刻电阻率和稳定性优异。 该组合物含有含有重复单元的树脂，该重复单元含有当被酸作用时分解的基团，从而产生醇羟基，以及当暴露于光化射线或辐射时产生pKa≥1.5的酸的化合物。

公开(公告)号：US08877423B2

公开(公告)日：2014-11-04

申请号：US13378387

申请日：2010-06-30

申请人： Kana Fujii ,  Toru Fujimori

发明人： Kana Fujii ,  Toru Fujimori

IPC分类号： G03F7/004 ,  G03F7/028

CPC分类号： G03F7/0048 ,  C08F8/02 ,  C08F12/22 ,  C08F12/24 ,  C08F12/32 ,  C08F212/14 ,  C09D125/14 ,  C09D125/18 ,  G03F7/0397 ,  C08F220/10 ,  C08F2220/1841

摘要： An actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition including: (A) a resin that contains a repeating unit represented by formula (I) as defined in the specification, a repeating unit represented by formula (II) as defined in the specification and a repeating unit represented by formula (III-a) or (III-b) as defined in the specification; (B) a compound capable of generating an acid upon irradiation with an actinic ray or radiation; and (C) a solvent, wherein the solvent (C) contains ethyl lactate, and a film and a pattern forming method using the composition are provided.

摘要翻译： 一种光化射线敏感性或辐射敏感性树脂组合物，其包含：（A）含有本说明书中定义的式（I）表示的重复单元的树脂，由说明书中定义的式（II）表示的重复单元和 由本说明书中定义的式（III-a）或（III-b）表示的重复单元; （B）能够在用光化射线或辐射照射时能产生酸的化合物; 和（C）溶剂，其中溶剂（C）含有乳酸乙酯，并且提供使用该组合物的膜和图案形成方法。

公开(公告)号：US08741542B2

公开(公告)日：2014-06-03

申请号：US13512633

申请日：2010-11-30

申请人： Tomotaka Tsuchimura ,  Takayuki Ito ,  Toru Fujimori ,  Kana Fujii

发明人： Tomotaka Tsuchimura ,  Takayuki Ito ,  Toru Fujimori ,  Kana Fujii

IPC分类号： G03F7/027 ,  G03F7/039 ,  G03F7/30

CPC分类号： G03F7/0045 ,  C09B69/101 ,  G03F7/0392 ,  G03F7/0395 ,  G03F7/0397 ,  G03F7/091

摘要： Provided is an actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition comprising (A) a specific compound represented by a general formula, (B) a resin which is alkali-insoluble or sparingly alkali-soluble and becomes easily alkali-soluble in the presence of an acid, and (C) a compound capable of generating an acid upon irradiation with an actinic ray or radiation; a film formed using the composition; and a pattern forming method using the same.

摘要翻译： 本发明提供一种光化射线敏感性或辐射敏感性树脂组合物，其包含（A）由通式表示的特定化合物，（B）在碱存在下碱不溶性或微溶碱性并易于碱溶解的树脂 的酸，和（C）能够在用光化射线或辐射照射时能够产生酸的化合物; 使用该组合物形成的膜; 以及使用该图案形成方法的图案形成方法。

公开(公告)号：US08647812B2

公开(公告)日：2014-02-11

申请号：US13636834

申请日：2011-03-18

申请人： Kana Fujii ,  Shinji Tarutani

发明人： Kana Fujii ,  Shinji Tarutani

IPC分类号： G03F7/00 ,  G03F7/004 ,  G03F7/028 ,  G03F7/40

CPC分类号： G03F7/325 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/0397 ,  G03F7/2041 ,  Y10T428/24479

摘要： A pattern forming method comprising (i) a step of forming a film from a chemical amplification resist composition, (ii) a step of exposing the film, and (iii) a step of developing the exposed film by using an organic solvent-containing developer, wherein the resist composition contains (A) a resin capable of increasing the polarity to decrease the solubility for an organic solvent-containing developer by the action of an acid, (B) at least one kind of a compound capable of generating a sulfonic acid represented by the specific formula upon irradiation with an actinic ray or radiation, and (C) a solvent.

摘要翻译： 一种图案形成方法，包括（i）从化学放大抗蚀剂组合物形成膜的步骤，（ii）曝光所述膜的步骤，以及（iii）通过使用含有机溶剂的显影剂使曝光的膜显影的步骤 ，其中抗蚀剂组合物含有（A）能够通过酸作用增加极性以降低对含有机溶剂的显影剂的溶解度的树脂，（B）至少一种能够产生磺酸的化合物 由光化射线或辐射照射时的具体式表示，和（C）溶剂。

公开(公告)号：US20130011619A1

公开(公告)日：2013-01-10

申请号：US13636834

申请日：2011-03-18

申请人： Kana Fujii ,  Shinji Tarutani

发明人： Kana Fujii ,  Shinji Tarutani

IPC分类号： G03F7/20 ,  B32B3/30

CPC分类号： G03F7/325 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/0397 ,  G03F7/2041 ,  Y10T428/24479

摘要： A pattern forming method comprising (i) a step of forming a film from a chemical amplification resist composition, (ii) a step of exposing the film, and (iii) a step of developing the exposed film by using an organic solvent-containing developer, wherein the resist composition contains (A) a resin capable of increasing the polarity to decrease the solubility for an organic solvent-containing developer by the action of an acid, (B) at least one kind of a compound capable of generating a sulfonic acid represented by the specific formula upon irradiation with an actinic ray or radiation, and (C) a solvent.

摘要翻译： 一种图案形成方法，包括（i）从化学放大抗蚀剂组合物形成膜的步骤，（ii）曝光所述膜的步骤，以及（iii）通过使用含有机溶剂的显影剂使曝光的膜显影的步骤 ，其中抗蚀剂组合物含有（A）能够通过酸作用增加极性以降低对含有机溶剂的显影剂的溶解度的树脂，（B）至少一种能够产生磺酸的化合物 由光化射线或辐射照射时的具体式表示，和（C）溶剂。