公开(公告)号：US20050282093A1

公开(公告)日：2005-12-22

申请号：US10869417

申请日：2004-06-16

申请人： Ralph Dammel ,  Stephen Meyer ,  Mark Spak

发明人： Ralph Dammel ,  Stephen Meyer ,  Mark Spak

IPC分类号： G03C5/00 ,  G03F7/16 ,  G03F7/20

CPC分类号： G03F7/2028 ,  G03F7/168

摘要： The present invention relates to an aqueous based edge bead remover.

摘要翻译： 本发明涉及一种水性边缘珠粒去除剂。

公开(公告)号：US5614351A

公开(公告)日：1997-03-25

申请号：US491813

申请日：1990-03-12

申请人： Ralph Dammel ,  Juergen Lingnau ,  Georg Pawlowski ,  Juergen Theis

发明人： Ralph Dammel ,  Juergen Lingnau ,  Georg Pawlowski ,  Juergen Theis

IPC分类号： G03F7/039 ,  C07C271/28 ,  C07C275/50 ,  C08K5/00 ,  C08L61/00 ,  C08L61/04 ,  G03F7/004 ,  H01L21/027 ,  G03C1/492 ,  C08F2/46 ,  G03C1/494 ,  G03C1/76

CPC分类号： G03F7/0045 ,  Y10S430/12 ,  Y10S430/121 ,  Y10S430/122 ,  Y10S430/126

摘要： A radiation-curable mixture is disclosed which contains a compound which forms an acid under the action of high-energy radiation, and contains an acid-curable compound, wherein the compound which forms an acid contains aliphatically bound halogen (chlorine or bromine) and has a pK.sub.a value of less than about 12. A radiation-curable recording material and a process for recording high-energy radiation using the material are also disclosed. The mixture, and in particular the recording material produced therefrom, has relatively high sensitivity and improved resolution and, in addition, does not exhibit image fogging after development.

摘要翻译： 公开了一种可辐射固化的混合物，其包含在高能量辐射的作用下形成酸的化合物，并含有酸可固化的化合物，其中形成酸的化合物含有脂族结合的卤素（氯或溴）并具有 pKa值小于约12.可辐射固化的记录材料和使用该材料记录高能辐射的方法也被公开。 混合物，特别是由其制备的记录材料具有相对高的灵敏度和改进的分辨率，此外，显影后不会发生图像起雾。

公开(公告)号：US5525453A

公开(公告)日：1996-06-11

申请号：US196810

申请日：1994-02-15

申请人： Klaus J. Przybilla ,  Takanori Kudo ,  Seiya Masuda ,  Yoshiaki Kinoshita ,  Natumi Suehiro ,  Munirathna Padmanaban ,  Hiroshi Okazaki ,  Hajime Endo ,  Ralph Dammel ,  Georg Pawlowski

发明人： Klaus J. Przybilla ,  Takanori Kudo ,  Seiya Masuda ,  Yoshiaki Kinoshita ,  Natumi Suehiro ,  Munirathna Padmanaban ,  Hiroshi Okazaki ,  Hajime Endo ,  Ralph Dammel ,  Georg Pawlowski

IPC分类号： G03F7/004 ,  G03F7/039 ,  G03F7/021

CPC分类号： G03F7/0045 ,  G03F7/039

摘要： A novel positive-working radiation-sensitive mixture having a high sensitivity to radiation in a short-wavelength UV region is provided which can be developed in an aqueous alkaline solution, has a stable acid latent image and is used for the production of a semiconductor. The mixture comprises, as indispensable components, a) a binder insoluble in water but soluble in an aqueous alkaline solution, b) a compound having at least one bond cleavable with an acid, c) a compound capable of producing an acid upon radiation, and d.sub.1) a basic ammonium compound or d.sub.2) a basic sulfonium compound.

摘要翻译： 提供了一种在短波长UV区域对辐射具有高灵敏度的新型正性辐射敏感性混合物，其可以在碱性水溶液中显影，具有稳定的酸性潜像并用于制备半导体。 该混合物作为不可缺少的组分包含a）不溶于水但可溶于碱性水溶液的粘合剂，b）具有至少一个可与酸分离的键的化合物，c）能够在辐射时产生酸的化合物，和 d1）碱性铵化合物或d2）碱性锍化合物。

公开(公告)号：US5401608A

公开(公告)日：1995-03-28

申请号：US917364

申请日：1992-07-23

申请人： Georg Pawlowski ,  Ralph Dammel ,  Horst Roeschert ,  Winfried Meier ,  Walter Spiess ,  Klaus-Juergen Przybilla

发明人： Georg Pawlowski ,  Ralph Dammel ,  Horst Roeschert ,  Winfried Meier ,  Walter Spiess ,  Klaus-Juergen Przybilla

IPC分类号： G03F7/00 ,  C04B41/50 ,  G03F7/029 ,  G03F7/038 ,  H01L21/027 ,  G03C1/492

CPC分类号： C04B41/5035 ,  G03F7/0295 ,  Y10S430/124

摘要： A negative-working radiation-sensitive mixture containinga) a compound which contains at least one --CBr.sub.3 group bound to an atom not linked in turn to a hydrogen atom,b) an alkoxymethylated melamine andc) a water-insoluble polymeric binder which is soluble, or at least swellable, in aqueous alkaline solutions and contains phenolic OH groups,wherein(1) the mixture has an absorption of

摘要翻译： 一种负性辐射敏感性混合物，其包含a）包含至少一个结合于未连接到氢原子上的原子的-CBr 3基团的化合物，b）烷氧基甲基化三聚氰胺和c）水不溶性聚合物粘合剂，其是 可溶或至少可溶胀的碱性溶液，并且含有酚OH基团，其中（1）该混合物在248nm具有<0.4μm-1的吸收，（2）化合物a）的CBr 3基团被结合 相对于组分b）和c）的总量，化合物a）以0.2至10重量％的量混合在混合物中，（3）质量比 的组分b）和c）在50:50和5:95之间，和（4）组分c）是羟基苯乙烯或其衍生物的均聚物或共聚物，所述均聚物或共聚物的去除速率为200-3000nm 在含有2.38重量％四甲基氢氧化铵的含水碱性显影剂中，在21℃下进行 优异的性能，包括对等离子体蚀刻的高抗性，以及出色的光刻性能，并且在记录材料中是有用的。

公开(公告)号：US5346806A

公开(公告)日：1994-09-13

申请号：US871011

申请日：1992-04-20

申请人： Georg Pawlowski ,  Ralph Dammel ,  Horst Roeschert ,  Walter Spiess ,  Charlotte Eckes

发明人： Georg Pawlowski ,  Ralph Dammel ,  Horst Roeschert ,  Walter Spiess ,  Charlotte Eckes

IPC分类号： C09K9/02 ,  C07C309/65 ,  C07C309/66 ,  C07C309/73 ,  C07C309/74 ,  C07C309/75 ,  C07C309/77 ,  G03F7/004 ,  G03F7/039 ,  H01L21/027 ,  G03C1/73 ,  G03C1/725 ,  G03F7/025 ,  G03F7/027

CPC分类号： C07C309/65 ,  C07C309/66 ,  C07C309/73 ,  C07C309/74 ,  C07C309/75 ,  C07C309/77 ,  G03F7/039 ,  C07C2101/14 ,  C07C2102/28 ,  C07C2102/44 ,  C07C2103/68 ,  Y10S430/115 ,  Y10S430/12 ,  Y10S430/126

摘要： Ligomeric sulfonic acid derivatives having repeating units of the formula I ##STR1## in which R.sup.1 is an alkyl, haloalkyl or aryl radical,R.sup.2 is a hydrogen atom, an alkyl, alkenyl or aryl radical or the group (R.sup.1 --SO.sub.2 --O--).sub.n X--,R.sup.3 is a cycloalkylenedialkyl, cycloalkenylenedialkyl, arylenedialkyl, heteroarylenedialkyl group, alkylene, alkenylene, alkynylene, cycloalkylene or arylene group,X is an alkylene, cycloalkylene or arylene group Y is O, S, CO, CO--O, SO.sub.2, SO.sub.2 --O, NR.sup.4, CO--NH, O--CO--NR.sup.5, NH--CO--NR.sup.5 or NR.sup.5 --CO--O,Z is O, CO--NR.sup.6, O--CO--NR.sup.6 or NH--CO--NR.sup.6,R.sup.4 is an acyl radical,R.sup.5 is a hydrogen atom or an alkyl-, cycloalkyl, alkenyl, alkynyl or aryl radical,R.sup.6 is an alkyl, cycloalkyl, alkenyl, alkynyl or aryl radical,k is 0, 1, 2, 3 or 4,m is an integer greater than 1 andn is 1, 2 or 3,generate sulfonic acids under irradiation and are cleavable by the latter. In combination with alkali-soluble binders, they give positive-working mixtures which are used especially in recording materials for UV radiation and high-energy radiation. The recording materials are distinguished by a high resolution in conjunction with high image contrast and excellent storage stability.

摘要翻译： 具有式I（I）的重复单元的二元磺酸衍生物，其中R 1是烷基，卤代烷基或芳基，R 2是氢原子，烷基，烯基或芳基或基团（R 1 -SO 2 - 环烷基亚烷基，亚芳基亚烷基，亚炔基，亚环烷基或亚芳基，X是亚烷基，亚环烷基或亚芳基，Y是O，S，CO，CO-O， SO2，SO2-O，NR4，CO-NH，O-CO-NR5，NH-CO-NR5或NR5-CO-O，Z是O，CO-NR6，O-CO-NR6或NH-CO-NR6， R4是酰基，R5是氢原子或烷基 - ，环烷基，烯基，炔基或芳基，R6是烷基，环烷基，烯基，炔基或芳基，k是0,1,2,3或4 ，m是大于1且n为1,2或3的整数，在照射下产生磺酸并可被后者切割。 与碱溶性粘合剂组合使用时，它们可以提供特别用于UV辐射和高能辐射记录材料的正性混合物。 记录材料通过高分辨率和高图像对比度以及优异的存储稳定性来区分。

公开(公告)号：US5346804A

公开(公告)日：1994-09-13

申请号：US871008

申请日：1992-04-20

申请人： Geog Pawlowski ,  Ralph Dammel ,  Horst Roeschert ,  Walter Spiess ,  Charlotte Eckes

发明人： Geog Pawlowski ,  Ralph Dammel ,  Horst Roeschert ,  Walter Spiess ,  Charlotte Eckes

IPC分类号： C07D207/408 ,  C07C309/65 ,  C07C309/66 ,  C07C309/73 ,  C07C309/74 ,  C07C309/75 ,  C07C309/77 ,  C07D207/40 ,  C07D207/404 ,  C07D207/44 ,  C07D207/452 ,  C07D317/24 ,  C09K9/02 ,  G03F7/004 ,  G03C1/73 ,  G03C1/725 ,  G03F7/025 ,  G03F7/027

CPC分类号： C07D207/404 ,  C07C309/65 ,  C07C309/66 ,  C07C309/73 ,  C07C309/74 ,  C07C309/75 ,  C07C309/77 ,  C07D207/452 ,  C07D317/24 ,  G03F7/0045 ,  C07C2101/14 ,  C07C2102/28 ,  Y10S430/115 ,  Y10S430/12 ,  Y10S430/126

摘要： A radiation-sensitive mixture which contains compounds of the formula I which generate under irradiation sulfonic acids and are cleavable by the latter ##STR1## in which R.sup.1 is an unsubstituted or substituted alkyl, fluorinated alkyl, perfluoroalkyl or aryl radical,R.sup.2 is a hydrogen atom, an unsubstituted or substituted alkyl radical, or an unsubstituted or substituted aryl radical, (R.sup.1 --SO.sub.2 --O--).sub.n X--, or R.sub.3 O--,R.sup.3 and R.sup.4 are identical or different and are unsubstituted or substituted alkyl, cycloalkylalkyl, cycloalkenylalkyl or aralkyl radicals, in which 1 to 3 aliphatic CH.sub.2 or CH groups are optionally replaced by one or more of NR.sup.5, O, S, CO, CO--O, CO--NH, O--CO--NH, CO--NH--CO, NH--CO--NH, SO.sub.2, SO.sub.2 --O or SO.sub.2 --NH, or unsubstituted or substituted alkenyl, alkynyl, cycloalkyl or cycloalkenyl radicals, or R.sup.3 and R.sup.4 are mutually linked to form an unsubstituted or substituted heterocyclic ring,R.sup.5 is an acyl radical,n is an integer from 1 to 3, andX is an alkylene, cyloalkylene, or arylene group.and which, in combination with alkali-soluble binders, give positive-working mixtures which are used especially in recording materials for UV radiation and high-energy radiation. The materials are distinguished by a high resolution in conjunction with high image contrast and excellent storage stability.

摘要翻译： 一种辐射敏感性混合物，其包含式Ⅰ化合物，其在照射磺酸时产生并且可被后者可裂解（Ⅰ），其中R1是未取代或取代的烷基，氟化烷基，全氟烷基或芳基，R2是 氢原子，未取代或取代的烷基或未取代或取代的芳基，（R1-SO2-O-）nX-或R3O-，R3和R4相同或不同，为未取代或取代的烷基，环烷基烷基， 其中1至3个脂族CH 2或CH基团任选被NR 5，O，S，CO，CO-O，CO-NH，O-CO-NH，CO-NH-CO中的一种或多种替代的环烯基烷基或芳烷基 ，NH-CO-NH，SO2，SO2-O或SO2-NH，或未取代或取代的烯基，炔基，环烷基或环烯基，或R3和R4相互连接形成未取代或取代的杂环，R5是酰基 自由基，n为1〜3的整数，X为亚烷基，亚环烷基或亚芳基。 并且与碱溶性粘合剂组合，得到特别用于记录UV辐射和高能辐射材料的正性混合物。 该材料的高分辨率与高图像对比度以及优异的储存稳定性相结合。

公开(公告)号：US5342727A

公开(公告)日：1994-08-30

申请号：US812878

申请日：1991-12-20

申请人： Richard Vicari ,  Douglas J. Gordon ,  William D. Hinsberg ,  Dennis R. McKean ,  Carlton G. Willson ,  Ralph Dammel

发明人： Richard Vicari ,  Douglas J. Gordon ,  William D. Hinsberg ,  Dennis R. McKean ,  Carlton G. Willson ,  Ralph Dammel

IPC分类号： C08F8/10 ,  C08F212/14 ,  G03F7/004 ,  G03F7/023 ,  G03F7/021 ,  G03F7/09

CPC分类号： G03F7/0233 ,  C08F212/14 ,  C08F8/12 ,  G03F7/0045

摘要： A copolymer of (a) an unsubstituted 4-hydroxystyrene monomer and (b) a substituted 4-hydroxystyrene monomer of the formula ##STR1## wherein A, B, C, and D are independently H or C.sub.1 to C.sub.4 alkyl and wherein at least one of B and D is C.sub.1 to C.sub.4 alkyl; and wherein said copolymer has a molecular weight of from about 800 to about 100,000; and wherein the mol ratio of monomer (a) to monomer (b) ranges from about 3:1 to about 1:3.

摘要翻译： （a）未取代的4-羟基苯乙烯单体和（b）式（IMAGE）的取代的4-羟基苯乙烯单体的共聚物，其中A，B，C和D独立地为H或C 1至C 4烷基，并且其中至少一个 的B和D是C 1〜C 4烷基; 并且其中所述共聚物的分子量为约800至约100,000; 并且其中单体（a）与单体（b）的摩尔比为约3:1至约1:3。

公开(公告)号：US5302488A

公开(公告)日：1994-04-12

申请号：US841545

申请日：1992-02-26

申请人： Horst Roeschert ,  Hans-Joachim Merrem ,  Georg Pawlowski ,  Juergen Fuchs ,  Ralph Dammel

发明人： Horst Roeschert ,  Hans-Joachim Merrem ,  Georg Pawlowski ,  Juergen Fuchs ,  Ralph Dammel

IPC分类号： B41M5/26 ,  C08F12/00 ,  C08F212/14 ,  G03F7/023 ,  H01L21/027

CPC分类号： G03F7/023

摘要： A radiation-sensitive polymer and a mixture containing this radiation-sensitive polymer as a binder are disclosed. A process for the preparation of the radiation-sensitive polymer binder and a positive-working radiation-sensitive recording material which is prepared using the radiation-sensitive mixture are also disclosed.

摘要翻译： 公开了一种辐射敏感性聚合物和含有该辐射敏感性聚合物作为粘合剂的混合物。 还公开了制备辐射敏感性聚合物粘合剂的方法和使用该辐射敏感性混合物制备的正性辐射敏感记录材料。

公开(公告)号：US4965400A

公开(公告)日：1990-10-23

申请号：US226260

申请日：1988-08-02

申请人： Richard Vicari ,  Mohammad Aslam ,  Wilson B. Ray ,  Kenneth G. Davenport ,  Ralph Dammel ,  Juergen Lingnau ,  Karl-Friedrich Doessel

发明人： Richard Vicari ,  Mohammad Aslam ,  Wilson B. Ray ,  Kenneth G. Davenport ,  Ralph Dammel ,  Juergen Lingnau ,  Karl-Friedrich Doessel

IPC分类号： C07C43/23 ,  B01J23/44 ,  B01J27/12 ,  B01J27/125 ,  C07B61/00 ,  C07C27/00 ,  C07C39/373 ,  C07C41/00 ,  C07C45/54 ,  C07C45/63 ,  C07C49/825 ,  C07C67/00 ,  C07C67/08 ,  C07C67/297 ,  C07C67/34 ,  C07C67/347 ,  C07C67/62 ,  C07C69/157 ,  C07C209/00 ,  C07C213/00 ,  C07C219/34 ,  C08F12/00 ,  C08F12/14 ,  G03F7/038

CPC分类号： G03F7/038 ,  C07C39/373 ,  C07C45/54 ,  C07C45/63 ,  C07C49/825

摘要： 3-substituted-4-hydroxy- and 4-acetoxystyrene compounds, especially 3,5-di(methyl, bromo or chloro)-4-acetoxystyrene as well as a process for its preparation. 2,6-dimethylphenol is acylated with acetic anhydride and HF catalyzed to produce 3,5-dimethyl-4-hydroxy-acetophenone. After subsequent esterification with acetic anhydride and catalyzed hydrogenation to form 1-(3',5'-dimethyl-4'-acetoxyphenyl)ethanol, this intermediate is then dehydrated with an acid and a polymerization inhibitor to produce 3,5-dimethyl-4-acetoxystyrene.

摘要翻译： 3-取代-4-羟基 - 和4-乙酰氧基苯乙烯化合物，特别是3,5-二（甲基，溴或氯）-4-乙酰氧基苯乙烯以及其制备方法。 2,6-二甲基苯酚用乙酸酐进行酰化，HF催化反应生成3,5-二甲基-4-羟基苯乙酮。 在用乙酸酐进行酯化和催化氢化后，形成1-（3'，5'-二甲基-4'-乙酰氧基苯基）乙醇，然后将该中间体用酸和阻聚剂脱水，生成3,5-二甲基-4 乙酰氧基苯乙烯

公开(公告)号：US08329387B2

公开(公告)日：2012-12-11

申请号：US12133567

申请日：2008-07-08

申请人： Huirong Yao ,  Guanyang Lin ,  Jian Yin ,  Hengpeng Wu ,  Mark Neisser ,  Ralph Dammel

发明人： Huirong Yao ,  Guanyang Lin ,  Jian Yin ,  Hengpeng Wu ,  Mark Neisser ,  Ralph Dammel

IPC分类号： G03F7/11 ,  G03F7/38 ,  G03F7/40 ,  C08G73/06 ,  C08G73/10 ,  C08G18/71

CPC分类号： G03F7/091 ,  C08G63/6854 ,  C08G73/0273 ,  C08G73/06 ,  C08G73/0638 ,  C08G73/0644 ,  C08G73/0677 ,  C08L79/04 ,  C09D167/00 ,  C09D179/04

摘要： The present invention relates to an antireflective coating composition comprising a novel polymer without an aromatic chromophore, where the polymer comprises a structural unit derived from an aminoplast and a structural unit derived from a diol, triol, dithiol, trithiol, other polyols, diacid, triacid, other polyacids, diimide or mixture thereof, where the diol, dithiol, triol, trithiol, diacid, triacid, diimide, diamide or imide-amide optionally contain one or more nitrogen and/or sulfur atoms or contain one or more alkene groups. The invention also relates to the novel polymer and a process for using the novel antireflective coating composition in a lithographic process.

摘要翻译： 本发明涉及一种抗反射涂料组合物，其包含没有芳族发色团的新型聚合物，其中聚合物包含衍生自氨基塑料的结构单元和衍生自二醇，三醇，二硫醇，三硫醇，其它多元醇，二酸，三酸的结构单元 ，其它多元酸，二酰亚胺或其混合物，其中二醇，二硫醇，三醇，三硫醇，二酸，三酸，二酰亚胺，二酰胺或酰亚胺 - 酰胺任选地含有一个或多个氮和/或硫原子或含有一个或多个烯烃基团。 本发明还涉及新型聚合物和在光刻工艺中使用新型抗反射涂料组合物的方法。