公开(公告)号：US06734608B1

公开(公告)日：2004-05-11

申请号：US09771485

申请日：2001-01-25

申请人： Roger W. Barton ,  Michael J. Nystrom ,  Bob L. Mackey ,  Lawrence S. Pan ,  Shiyou Pei ,  Stephen Wallace ,  Douglas M. Smith

发明人： Roger W. Barton ,  Michael J. Nystrom ,  Bob L. Mackey ,  Lawrence S. Pan ,  Shiyou Pei ,  Stephen Wallace ,  Douglas M. Smith

IPC分类号： H01J1942

CPC分类号： H01J29/028 ,  H01J9/185 ,  H01J9/242 ,  H01J29/864 ,  H01J31/127 ,  H01J2329/8635 ,  H01J2329/864 ,  H01J2329/8645 ,  Y10T29/49128 ,  Y10T29/49155 ,  Y10T428/249956 ,  Y10T428/249957 ,  Y10T428/24997 ,  Y10T428/249974 ,  Y10T428/249978 ,  Y10T428/249979 ,  Y10T428/24999

摘要： A structure suitable for partial or full use in a spacer (24) of a flat-panel display has a porous face (54). The structure may be formed with multiple aggregates (100) of coated particles (102) bonded together in an open manner to form pores (58). A coating (88) consisting primarily of carbon and having a highly uniform thickness may extend into pores of a porous body (46). The coating can be created by removing non-carbon material from carbon-containing species provided along the pores. A solid porous film (82) whose thickness is normally no more than 20 &mgr;m has a resistivity of 108-1014 ohm-cm. A spacer for a flat-panel display contains a support body (80) and an overlying, normally porous, layer (82) whose resistivity is greater parallel to a face of the support body than perpendicular to the body's face.

摘要翻译： 适合于在平板显示器的间隔件（24）中部分或全部使用的结构具有多孔面（54）。 该结构可以形成为以敞开的方式结合在一起以形成孔（58）的多个聚集体（100）的涂覆颗粒（102）。 主要由碳组成并具有高度均匀厚度的涂层（88）可以延伸到多孔体（46）的孔中。 可以通过从沿着孔提供的含碳物质除去非碳材料来产生涂层。 厚度通常不超过20μm的固体多孔膜（82）的电阻率为10 -8 -10 14 ohm-cm。 用于平板显示器的间隔件包含支撑体（80）和上覆的通常多孔的层（82），其电阻率比垂直于身体的表面平行于支撑体的表面更大。

公开(公告)号：US06403209B1

公开(公告)日：2002-06-11

申请号：US09209863

申请日：1998-12-11

申请人： Roger W. Barton ,  Michael J. Nystrom ,  Bob L. Mackey ,  Lawrence S. Pan ,  Shiyou Pei ,  Stephen Wallace ,  Douglas M. Smith

发明人： Roger W. Barton ,  Michael J. Nystrom ,  Bob L. Mackey ,  Lawrence S. Pan ,  Shiyou Pei ,  Stephen Wallace ,  Douglas M. Smith

IPC分类号： B32B300

CPC分类号： H01J29/028 ,  H01J9/185 ,  H01J9/242 ,  H01J29/864 ,  H01J31/127 ,  H01J2329/8635 ,  H01J2329/864 ,  H01J2329/8645 ,  Y10T29/49128 ,  Y10T29/49155 ,  Y10T428/249956 ,  Y10T428/249957 ,  Y10T428/24997 ,  Y10T428/249974 ,  Y10T428/249978 ,  Y10T428/249979 ,  Y10T428/24999

摘要： A structure that is suitable for partial or full use in a spacer of a flat-panel display. The structure may be formed with a porous body having a face along which multiple primary pores extend into the porous body. A coating consisting primarily of carbon and having a highly uniform thickness overlies the porous body's face, extending along the primary pores to coat their surfaces and converting the primary pores into further pores. The coating can be created by removing non-carbon material from carbon-containing species provided along the pores. A solid porous film whose thickness is normally no more than 20 &mgr;m has a resistivity of 108-1014 ohm-cm. A spacer for a flat-panel display contains a support body and an overlying, normally porous, layer whose resistivity is greater parallel to a face of the support body than perpendicular to the body's face.

摘要翻译： 适用于平板显示器的间隔件中部分或全部使用的结构。 该结构可以形成有多孔体，多孔体具有多个主孔延伸到多孔体中的面。 主要由碳组成并且具有高度均匀厚度的涂层覆盖在多孔体的表面上，沿着主孔延伸以涂覆其表面并将初级孔转化成另外的孔。 可以通过从沿着孔提供的含碳物质除去非碳材料来产生涂层。 其厚度通常不超过20μm的固体多孔膜具有108-1014欧姆 - 厘米的电阻率。 用于平板显示器的间隔件包含支撑体和覆盖，通常为多孔的层，其电阻率比垂直于身体的表面平行于支撑体的面更大。

公开(公告)号：US06691404B2

公开(公告)日：2004-02-17

申请号：US09771295

申请日：2001-01-25

申请人： Roger W. Barton ,  Michael J. Nystrom ,  Bob L. Mackey ,  Lawrence S. Pan ,  Shiyou Pei ,  Stephen Wallace ,  Douglas M. Smith

发明人： Roger W. Barton ,  Michael J. Nystrom ,  Bob L. Mackey ,  Lawrence S. Pan ,  Shiyou Pei ,  Stephen Wallace ,  Douglas M. Smith

IPC分类号： H05K336

CPC分类号： H01J29/028 ,  H01J9/185 ,  H01J9/242 ,  H01J29/864 ,  H01J31/127 ,  H01J2329/8635 ,  H01J2329/864 ,  H01J2329/8645 ,  Y10T29/49128 ,  Y10T29/49155 ,  Y10T428/249956 ,  Y10T428/249957 ,  Y10T428/24997 ,  Y10T428/249974 ,  Y10T428/249978 ,  Y10T428/249979 ,  Y10T428/24999

摘要： A flat-panel display is fabricated according to a process in which a liquid-containing film (92, 116, 124, 132, 144, or 166) is formed over a substrate (80). In addition to suitable liquid, the liquid-containing film contains oxide or/and hydroxide. Liquid is removed from the liquid-containing film to convert it into a solid porous film (82 or 150) having (a) a porosity of at least 10% along an exposed face of the film, (b) an average resistivity of 108-1014 ohm-cm at 25° C., and (c) an average thickness of no more than 20 &mgr;m. A spacer (24) formed with at least a segment of the substrate and overlying solid porous film is positioned between opposing first and second plate structures (20 and 22) of the display. The second plate structure (22) emits light upon receiving electrons emitted by the first plate structure (20).

摘要翻译： 根据其中在衬底（80）上形成含液膜（92,116,124,132,144或166）的工艺制造平板显示器。 除了合适的液体之外，含液体膜含有氧化物或/和氢氧化物。 将液体从含液膜中除去，以将其转化为固体多孔膜（82或150），其具有（a）膜的暴露面至少10％的孔隙率，（b）平均电阻率为10 < 8> -10 14欧姆 - 厘米，（c）平均厚度不超过20毫米。 形成有衬底的至少一个部分并覆盖固体多孔膜的间隔物（24）位于显示器的相对的第一和第二板结构（20和22）之间。 第二板结构（22）在接收由第一板结构（20）发射的电子时发光。

公开(公告)号：US20090179541A1

公开(公告)日：2009-07-16

申请号：US12332596

申请日：2008-12-11

申请人： Douglas M. Smith ,  Stephen Wallace

发明人： Douglas M. Smith ,  Stephen Wallace

IPC分类号： F25D23/06 ,  B32B1/06 ,  B32B37/00

CPC分类号： F25D23/06 ,  B29C63/02 ,  B29C2791/006 ,  B29L2007/002 ,  B32B3/06 ,  B32B7/02 ,  B32B15/08 ,  F25D2201/14 ,  Y02B40/34 ,  Y10T428/231

摘要： Vacuum insulation panels and methods for making vacuum insulation panels. The panels include first and second spaced-apart sidewalls, where at least one of the sidewalls has a very smooth surface. The panels are particularly useful as insulation in applications where a smooth and aesthetically acceptable surface is required, such as in a refrigeration appliance. A method for making a vacuum insulation panel can include placing an insulative core material and a liner within a barrier envelope defining an enclosure, evacuating the enclosure, and sealing the envelope to form the vacuum insulation panel.

摘要翻译： 真空隔热板及制作真空隔热板的方法。 这些面板包括第一和第二间隔开的侧壁，其中至少一个侧壁具有非常光滑的表面。 这些面板在需要光滑和美观可接受的表面的应用中特别有用，例如在制冷设备中。 用于制造真空绝热面板的方法可以包括将绝缘芯材和衬垫放置在限定外壳的隔离罩中，排空外壳，并密封外壳以形成真空绝热面板。

公开(公告)号：US06518205B1

公开(公告)日：2003-02-11

申请号：US09714010

申请日：2000-11-16

申请人： Hui-Jung Wu ,  James S. Drage ,  Douglas M. Smith ,  Teresa Ramos ,  Stephen Wallace ,  Neil Viernes

发明人： Hui-Jung Wu ,  James S. Drage ,  Douglas M. Smith ,  Teresa Ramos ,  Stephen Wallace ,  Neil Viernes

IPC分类号： H01L2131

CPC分类号： H01L21/02126 ,  H01L21/02203 ,  H01L21/02216 ,  H01L21/02282 ,  H01L21/02337 ,  H01L21/02343 ,  H01L21/02359 ,  H01L21/3105 ,  H01L21/3125 ,  H01L21/31695 ,  Y10T428/31663

摘要： A process for treating silica dielectric film on a substrate, which includes reacting a suitable hydrophilic silica film with an effective amount of a multifunctional surface modification agent. The film is present on a substrate and optionally has a pore structure with hydrophilic pore surfaces, and the reaction is conducted for a period of time sufficient for said surface modification agent to penetrate said pore structure and produce a treated silica film having a dielectric constant of about 3 or less, wherein the surface modification agent is hydrophobic and suitable for silylating or capping silanol moieties on such hydrophilic surfaces. Dielectric films and integrated circuits including such films are also disclosed.

摘要翻译： 一种处理基板上的二氧化硅电介质膜的方法，其包括使合适的亲水二氧化硅膜与有效量的多官能表面改性剂反应。 薄膜存在于基材上，任选具有亲水孔表面的孔结构，反应进行足以使所述表面改性剂渗透所述孔结构的时间，并产生介电常数为 约3或更少，其中表面改性剂是疏水性的并且适合于在这些亲水性表面上甲硅烷基化或封端硅烷醇部分。 还公开了包括这种膜的介电膜和集成电路。

公开(公告)号：US06495906B2

公开(公告)日：2002-12-17

申请号：US10078046

申请日：2002-02-07

申请人： Douglas M. Smith ,  Teresa Ramos ,  Kevin H. Roderick ,  Stephen Wallace ,  James Drage ,  Hui-Jung Wu ,  Neil Viernes ,  Lisa B. Brungardt

发明人： Douglas M. Smith ,  Teresa Ramos ,  Kevin H. Roderick ,  Stephen Wallace ,  James Drage ,  Hui-Jung Wu ,  Neil Viernes ,  Lisa B. Brungardt

IPC分类号： H01L2358

CPC分类号： H01L21/02126 ,  H01L21/02203 ,  H01L21/02216 ,  H01L21/02282 ,  H01L21/02337 ,  H01L21/02343 ,  H01L21/02359 ,  H01L21/3105 ,  H01L21/3125 ,  H01L21/31695 ,  Y10T428/31663

摘要： The present invention relates to low dielectric constant nanoporous silica films and to processes for their manufacture. A substrate, e.g., a wafer suitable for the production of an integrated circuit, having a plurality of raised lines and/or electronic elements present on its surface, is provided with a relatively high porosity, low dielectric constant, silicon-containing polymer film composition.

摘要翻译： 本发明涉及低介电常数纳米多孔二氧化硅薄膜及其制造方法。 具有适合于生产集成电路的晶片，其表面上存在多个凸起线和/或电子元件的衬底具有相对较高的孔隙率低介电常数的含硅聚合物膜组合物 。

公开(公告)号：US06455130B1

公开(公告)日：2002-09-24

申请号：US09706027

申请日：2000-11-03

申请人： Stephen Wallace ,  Douglas M. Smith ,  Teresa Ramos ,  Kevin H. Roderick ,  James S. Drage

发明人： Stephen Wallace ,  Douglas M. Smith ,  Teresa Ramos ,  Kevin H. Roderick ,  James S. Drage

IPC分类号： B32B328

CPC分类号： H01L21/31695 ,  H01L21/02126 ,  H01L21/02203 ,  H01L21/02216 ,  H01L21/02282 ,  H01L21/02337 ,  H01L21/02343 ,  H01L21/7682 ,  H01L23/5222 ,  H01L23/5329 ,  H01L2221/1047 ,  H01L2924/0002 ,  Y10T428/24537 ,  Y10T428/24595 ,  Y10T428/249978 ,  Y10T428/249979 ,  H01L2924/00

摘要： The present invention relates to nanoporous dielectric films and to a process for their manufacture. A substrate having a plurality of raised lines on its surface is provided with a relatively high porosity, low dielectric constant, silicon containing polymer composition positioned between the raised lines and a relatively low porosity, high dielectric constant, silicon containing composition positioned on the lines.

摘要翻译： 本发明涉及纳米多孔介电膜及其制造方法。 在其表面上具有多个凸起线的基底设置有相对较高的孔隙率，低介电常数，位于凸起线之间的含硅聚合物组合物和位于该线上的较低孔隙率，高介电常数的含硅组合物。

公开(公告)号：US06172120B2

公开(公告)日：2001-01-09

申请号：US08826982

申请日：1997-04-09

申请人： Douglas M. Smith ,  William C. Ackerman ,  Stephen Wallace ,  Elsbeth R. Lokey

发明人： Douglas M. Smith ,  William C. Ackerman ,  Stephen Wallace ,  Elsbeth R. Lokey

IPC分类号： B01J1300

CPC分类号： B01J13/0052 ,  B01J13/0091

摘要： Processes for producing gel compositions comprising: esterifying a portion of the surface of a gel composition sufficient to produce a gel composition having a rod density of less than or equal to 0.15 g/cc, and/or a tap density of less than or equal to 0.2 g/cc through contact with at least one esterification agent and at least one catalyst. The processes may be utilized to produce low density gel compositions without the need for a supercritical drying step or thermal treatment.

摘要翻译： 用于生产凝胶组合物的方法，包括：将足以产生棒密度小于或等于0.15g / cc的凝胶组合物的一部分表面凝胶化，和/或振实密度小于或等于 通过与至少一种酯化剂和至少一种催化剂接触来制备0.2g / cc。 该方法可用于生产低密度凝胶组合物，而不需要超临界干燥步骤或热处理。

公开(公告)号：US5928723A

公开(公告)日：1999-07-27

申请号：US826978

申请日：1997-04-09

申请人： Kenneth C. Koehlert ,  Douglas M. Smith ,  William C. Ackerman ,  Stephen Wallace ,  David J. Kaul

发明人： Kenneth C. Koehlert ,  Douglas M. Smith ,  William C. Ackerman ,  Stephen Wallace ,  David J. Kaul

IPC分类号： C04B41/45 ,  C04B41/81 ,  C09C1/30 ,  C09C3/08 ,  B05D7/00

CPC分类号： C04B41/009 ,  C04B18/146 ,  C04B41/4584 ,  C04B41/81 ,  C09C1/3063 ,  C09C3/08 ,  C01P2004/80 ,  C01P2006/10 ,  C04B2111/27 ,  Y02W30/94

摘要： A process for producing surface modified metal oxide and/or organo-metal oxide compositions comprising esterifying at least a portion of the metal oxide and/or organo-metal oxide composition through contact with at least one esterification agent and at least one catalyst wherein the esterification agent and the catalyst are in the liquid phase. The process may be utilized to produce hydrophobic metal oxide and/or organo-metal oxide compositions at ambient temperature and/or ambient pressure conditions.

摘要翻译： 一种用于生产表面改性的金属氧化物和/或有机金属氧化物组合物的方法，其包括通过与至少一种酯化剂和至少一种催化剂接触来酯化至少一部分金属氧化物和/或有机金属氧化物组合物，其中酯化 试剂和催化剂处于液相。 该方法可用于在环境温度和/或环境压力条件下制备疏水性金属氧化物和/或有机金属氧化物组合物。

公开(公告)号：US06410149B1

公开(公告)日：2002-06-25

申请号：US09378705

申请日：1999-08-23

申请人： Neil Hendricks ,  Douglas M. Smith ,  Teresa Ramos ,  Stephen Wallace ,  James Drage

发明人： Neil Hendricks ,  Douglas M. Smith ,  Teresa Ramos ,  Stephen Wallace ,  James Drage

IPC分类号： B23B904

CPC分类号： B82Y10/00 ,  B82Y30/00 ,  H01L21/02126 ,  H01L21/02203 ,  H01L21/02216 ,  H01L21/02282 ,  H01L21/02337 ,  H01L21/02343 ,  H01L21/02359 ,  H01L21/02362 ,  H01L21/31695 ,  Y10T428/31663

摘要： Improved processes for forming hydrophobic nanoporous dielectric coatings on substrates are provided. The improved processes involve forming a reaction mixture that combines at least one mono-, di- or trifunctional precursor with at least one tetrafunctional precursor, recovering the reaction product, and then depositing the reaction product onto a suitable substrate, followed by gelling of the deposited film. Precursors include alkoxy, acetoxy and halogen leaving groups. Optional processes to enhance the hydrophobicity of a nanoporous silica film are also provided, as well as improved nanoporous silica films, coated substrates and integrated circuits prepared by the new processes

摘要翻译： 提供了在衬底上形成疏水纳米多孔介电涂层的改进方法。 改进的方法包括形成将至少一种单官能，二官能或三官能前体与至少一种四官能前体结合的反应混合物，回收反应产物，然后将反应产物沉积到合适的底物上，然后凝胶化沉积的 电影。 前体包括烷氧基，乙酰氧基和卤素离去基团。 还提供了增强纳米多孔二氧化硅膜的疏水性的可选工艺，以及改进的纳米多孔二氧化硅膜，涂覆的基底和通过新工艺制备的集成电路