公开(公告)号：US06172120B2

公开(公告)日：2001-01-09

申请号：US08826982

申请日：1997-04-09

申请人： Douglas M. Smith ,  William C. Ackerman ,  Stephen Wallace ,  Elsbeth R. Lokey

发明人： Douglas M. Smith ,  William C. Ackerman ,  Stephen Wallace ,  Elsbeth R. Lokey

IPC分类号： B01J1300

CPC分类号： B01J13/0052 ,  B01J13/0091

摘要： Processes for producing gel compositions comprising: esterifying a portion of the surface of a gel composition sufficient to produce a gel composition having a rod density of less than or equal to 0.15 g/cc, and/or a tap density of less than or equal to 0.2 g/cc through contact with at least one esterification agent and at least one catalyst. The processes may be utilized to produce low density gel compositions without the need for a supercritical drying step or thermal treatment.

摘要翻译： 用于生产凝胶组合物的方法，包括：将足以产生棒密度小于或等于0.15g / cc的凝胶组合物的一部分表面凝胶化，和/或振实密度小于或等于 通过与至少一种酯化剂和至少一种催化剂接触来制备0.2g / cc。 该方法可用于生产低密度凝胶组合物，而不需要超临界干燥步骤或热处理。

公开(公告)号：US06315971B1

公开(公告)日：2001-11-13

申请号：US08826979

申请日：1997-04-09

申请人： Stephen Wallace ,  Douglas M. Smith ,  William C. Ackerman

发明人： Stephen Wallace ,  Douglas M. Smith ,  William C. Ackerman

IPC分类号： C01B33158

CPC分类号： B01J13/0056 ,  B01J13/0091

摘要： Disclosed are processes for producing gel composition which may be utilized to produce low density gel compositions without the need for supercritical drying, thermal treatment or surface treatment. The processes comprise drying a wet gel comprising gel solids and a drying agent to remove the drying agent while minimizing shrinkage of the gel during drying.

摘要翻译： 公开了可用于生产低密度凝胶组合物而不需要超临界干燥，热处理或表面处理的凝胶组合物的方法。 该方法包括干燥包含凝胶固体和干燥剂的湿凝胶以除去干燥剂，同时使干燥期间凝胶的收缩最小化。

公开(公告)号：US5928723A

公开(公告)日：1999-07-27

申请号：US826978

申请日：1997-04-09

申请人： Kenneth C. Koehlert ,  Douglas M. Smith ,  William C. Ackerman ,  Stephen Wallace ,  David J. Kaul

发明人： Kenneth C. Koehlert ,  Douglas M. Smith ,  William C. Ackerman ,  Stephen Wallace ,  David J. Kaul

IPC分类号： C04B41/45 ,  C04B41/81 ,  C09C1/30 ,  C09C3/08 ,  B05D7/00

CPC分类号： C04B41/009 ,  C04B18/146 ,  C04B41/4584 ,  C04B41/81 ,  C09C1/3063 ,  C09C3/08 ,  C01P2004/80 ,  C01P2006/10 ,  C04B2111/27 ,  Y02W30/94

摘要： A process for producing surface modified metal oxide and/or organo-metal oxide compositions comprising esterifying at least a portion of the metal oxide and/or organo-metal oxide composition through contact with at least one esterification agent and at least one catalyst wherein the esterification agent and the catalyst are in the liquid phase. The process may be utilized to produce hydrophobic metal oxide and/or organo-metal oxide compositions at ambient temperature and/or ambient pressure conditions.

摘要翻译： 一种用于生产表面改性的金属氧化物和/或有机金属氧化物组合物的方法，其包括通过与至少一种酯化剂和至少一种催化剂接触来酯化至少一部分金属氧化物和/或有机金属氧化物组合物，其中酯化 试剂和催化剂处于液相。 该方法可用于在环境温度和/或环境压力条件下制备疏水性金属氧化物和/或有机金属氧化物组合物。

公开(公告)号：US6071486A

公开(公告)日：2000-06-06

申请号：US831564

申请日：1997-04-09

申请人： Kenneth C. Koehlert ,  Douglas M. Smith ,  William C. Ackerman ,  Stephen Wallace ,  David J. Kaul

发明人： Kenneth C. Koehlert ,  Douglas M. Smith ,  William C. Ackerman ,  Stephen Wallace ,  David J. Kaul

IPC分类号： C01B13/14 ,  C01B13/32 ,  C01B33/16 ,  C01B33/18 ,  C07F7/08 ,  C01B15/14 ,  C01B33/12

CPC分类号： C01B13/32 ,  C01B33/163 ,  C01B33/18 ,  C01P2006/10 ,  C01P2006/11 ,  C01P2006/12 ,  C01P2006/20

摘要： A for producing metal oxide and/or organo-metal oxide compositions from metal oxide and organo-metal oxide precursors utilizing a rate modifying drying agent. The process allows metal oxide and/or organo-metal oxide compositions to be produced from a wide variety of metal oxide and organo-metal oxide precursors including metal halides and organometallic halides.

摘要翻译： A，用于使用速率改性干燥剂从金属氧化物和有机金属氧化物前体制备金属氧化物和/或有机金属氧化物组合物。 该方法允许金属氧化物和/或有机金属氧化物组合物由各种金属氧化物和有机金属氧化物前体制备，包括金属卤化物和有机金属卤化物。

公开(公告)号：US20130152612A1

公开(公告)日：2013-06-20

申请号：US13586342

申请日：2012-08-15

申请人： Douglas M. Smith ,  Stephen Wallace

发明人： Douglas M. Smith ,  Stephen Wallace

IPC分类号： F25B17/08

CPC分类号： F25B17/08 ,  F25B17/083 ,  F25B37/00 ,  Y02A30/276 ,  Y02A30/277 ,  Y02A30/278 ,  Y02B30/62 ,  Y02B30/64

摘要： Sorption cooling systems and methods for using sorption cooling systems, particularly to control the interior climate of vehicles, buildings, appliances and other enclosed spaces. The sorption cooling systems may incorporate sorbent beds having a low thermal mass that are capable of rapid cycle times to increase the efficiency of the sorption cooling systems.

摘要翻译： 吸附冷却系统和使用吸附冷却系统的方法，特别是控制车辆，建筑物，电器和其他封闭空间的内部气候。 吸附冷却系统可以包括具有低热质量的吸附剂床，其能够快速循环时间以提高吸附冷却系统的效率。

公开(公告)号：US06670022B1

公开(公告)日：2003-12-30

申请号：US09706028

申请日：2000-11-03

申请人： Stephen Wallace ,  Douglas M. Smith ,  Teresa Ramos ,  Kevin H. Rodrick ,  James S. Drage

发明人： Stephen Wallace ,  Douglas M. Smith ,  Teresa Ramos ,  Kevin H. Rodrick ,  James S. Drage

IPC分类号： B32B300

CPC分类号： H01L21/31695 ,  H01L21/02126 ,  H01L21/02203 ,  H01L21/02216 ,  H01L21/02282 ,  H01L21/02337 ,  H01L21/02343 ,  H01L21/7682 ,  H01L23/5222 ,  H01L23/5329 ,  H01L2221/1047 ,  H01L2924/0002 ,  Y10T428/24479 ,  Y10T428/24595 ,  Y10T428/249953 ,  Y10T428/249969 ,  H01L2924/00

摘要： The present invention relates to nanoporous dielectric films and to a process for their manufacture. A substrate having a plurality of raised lines on its surface is provided with a relatively high porosity, low dielectric constant, silicon containing polymer composition positioned between the raised lines and a relatively low porosity, high dielectric constant, silicon containing composition positioned on the lines.

公开(公告)号：US6090448A

公开(公告)日：2000-07-18

申请号：US111082

申请日：1998-07-07

申请人： Stephen Wallace ,  James Drage ,  Teresa Ramos ,  Douglas M. Smith

发明人： Stephen Wallace ,  James Drage ,  Teresa Ramos ,  Douglas M. Smith

IPC分类号： C01B33/12 ,  C01B37/02 ,  C07F7/04 ,  C09D4/00 ,  H01L21/208 ,  H01L21/312 ,  H01L21/316 ,  B05D3/04

CPC分类号： H01L21/31695 ,  C01B37/02 ,  C07F7/045 ,  C09D4/00 ,  H01L21/02126 ,  H01L21/02203 ,  H01L21/02216 ,  H01L21/02282 ,  H01L21/02337 ,  H01L21/02343

摘要： The invention relates to nanoporous dielectric films and to a process for their manufacture. Such films are useful in the production of integrated circuits. Such films are produced from a precursor of an alkoxysilane; a relatively low volatility solvent composition comprising an ether of a C.sub.1 to C.sub.4 alkylene glycol which is miscible in water and alkoxysilanes, having a hydroxyl concentration of 0.021 mole/cm.sup.3 or less, a boiling point of about 175 .degree. C. or more at atmospheric pressure and a weight average molecular weight of about 100 or more; a relatively high volatility solvent composition having a boiling point below that of the relatively low volatility solvent composition; optional water and an optional catalytic amount of an acid.

摘要翻译： 本发明涉及纳米多孔介电膜及其制造方法。 这种膜可用于集成电路的生产。 这种膜由烷氧基硅烷的前体制成; 一种相对低挥发性的溶剂组合物，其包含羟基浓度为0.021摩尔/厘米3或更低，在大气压下约175℃或更高的沸点的可与水混合的C1至C4亚烷基二醇醚和烷氧基硅烷 并且重均分子量为约100或更大; 挥发性相对较低的溶剂组合物，其沸点低于相对低挥发性溶剂组合物的沸点; 任选的水和任选的催化量的酸。

公开(公告)号：US06734608B1

公开(公告)日：2004-05-11

申请号：US09771485

申请日：2001-01-25

申请人： Roger W. Barton ,  Michael J. Nystrom ,  Bob L. Mackey ,  Lawrence S. Pan ,  Shiyou Pei ,  Stephen Wallace ,  Douglas M. Smith

发明人： Roger W. Barton ,  Michael J. Nystrom ,  Bob L. Mackey ,  Lawrence S. Pan ,  Shiyou Pei ,  Stephen Wallace ,  Douglas M. Smith

IPC分类号： H01J1942

CPC分类号： H01J29/028 ,  H01J9/185 ,  H01J9/242 ,  H01J29/864 ,  H01J31/127 ,  H01J2329/8635 ,  H01J2329/864 ,  H01J2329/8645 ,  Y10T29/49128 ,  Y10T29/49155 ,  Y10T428/249956 ,  Y10T428/249957 ,  Y10T428/24997 ,  Y10T428/249974 ,  Y10T428/249978 ,  Y10T428/249979 ,  Y10T428/24999

摘要： A structure suitable for partial or full use in a spacer (24) of a flat-panel display has a porous face (54). The structure may be formed with multiple aggregates (100) of coated particles (102) bonded together in an open manner to form pores (58). A coating (88) consisting primarily of carbon and having a highly uniform thickness may extend into pores of a porous body (46). The coating can be created by removing non-carbon material from carbon-containing species provided along the pores. A solid porous film (82) whose thickness is normally no more than 20 &mgr;m has a resistivity of 108-1014 ohm-cm. A spacer for a flat-panel display contains a support body (80) and an overlying, normally porous, layer (82) whose resistivity is greater parallel to a face of the support body than perpendicular to the body's face.

摘要翻译： 适合于在平板显示器的间隔件（24）中部分或全部使用的结构具有多孔面（54）。 该结构可以形成为以敞开的方式结合在一起以形成孔（58）的多个聚集体（100）的涂覆颗粒（102）。 主要由碳组成并具有高度均匀厚度的涂层（88）可以延伸到多孔体（46）的孔中。 可以通过从沿着孔提供的含碳物质除去非碳材料来产生涂层。 厚度通常不超过20μm的固体多孔膜（82）的电阻率为10 -8 -10 14 ohm-cm。 用于平板显示器的间隔件包含支撑体（80）和上覆的通常多孔的层（82），其电阻率比垂直于身体的表面平行于支撑体的表面更大。

公开(公告)号：US06410149B1

公开(公告)日：2002-06-25

申请号：US09378705

申请日：1999-08-23

申请人： Neil Hendricks ,  Douglas M. Smith ,  Teresa Ramos ,  Stephen Wallace ,  James Drage

发明人： Neil Hendricks ,  Douglas M. Smith ,  Teresa Ramos ,  Stephen Wallace ,  James Drage

IPC分类号： B23B904

CPC分类号： B82Y10/00 ,  B82Y30/00 ,  H01L21/02126 ,  H01L21/02203 ,  H01L21/02216 ,  H01L21/02282 ,  H01L21/02337 ,  H01L21/02343 ,  H01L21/02359 ,  H01L21/02362 ,  H01L21/31695 ,  Y10T428/31663

摘要： Improved processes for forming hydrophobic nanoporous dielectric coatings on substrates are provided. The improved processes involve forming a reaction mixture that combines at least one mono-, di- or trifunctional precursor with at least one tetrafunctional precursor, recovering the reaction product, and then depositing the reaction product onto a suitable substrate, followed by gelling of the deposited film. Precursors include alkoxy, acetoxy and halogen leaving groups. Optional processes to enhance the hydrophobicity of a nanoporous silica film are also provided, as well as improved nanoporous silica films, coated substrates and integrated circuits prepared by the new processes

摘要翻译： 提供了在衬底上形成疏水纳米多孔介电涂层的改进方法。 改进的方法包括形成将至少一种单官能，二官能或三官能前体与至少一种四官能前体结合的反应混合物，回收反应产物，然后将反应产物沉积到合适的底物上，然后凝胶化沉积的 电影。 前体包括烷氧基，乙酰氧基和卤素离去基团。 还提供了增强纳米多孔二氧化硅膜的疏水性的可选工艺，以及改进的纳米多孔二氧化硅膜，涂覆的基底和通过新工艺制备的集成电路

公开(公告)号：US06208014B1

公开(公告)日：2001-03-27

申请号：US09235186

申请日：1999-01-22

申请人： Hui-Jung Wu ,  James S. Drage ,  Douglas M. Smith ,  Teresa Ramos ,  Stephen Wallace ,  Neil Viernes

发明人： Hui-Jung Wu ,  James S. Drage ,  Douglas M. Smith ,  Teresa Ramos ,  Stephen Wallace ,  Neil Viernes

IPC分类号： H01L2358

CPC分类号： H01L21/02126 ,  H01L21/02203 ,  H01L21/02216 ,  H01L21/02282 ,  H01L21/02337 ,  H01L21/02343 ,  H01L21/02359 ,  H01L21/3105 ,  H01L21/3125 ,  H01L21/31695 ,  Y10T428/31663

摘要： A process for treating silica dielectric film on a substrate, which includes reacting a suitable hydrophilic silica film with an effective amount of a multifunctional surface modification agent. The film is present on a substrate and optionally has a pore structure with hydrophilic pore surfaces, and the reaction is conducted for a period of time sufficient for said surface modification agent to penetrate said pore structure and produce a treated silica film having a dielectric constant of about 3 or less, wherein the surface modification agent is hydrophobic and suitable for silylating or capping silanol moieties on such hydrophilic surfaces. Dielectric films and integrated circuits including such films are also disclosed.

摘要翻译： 一种处理基板上的二氧化硅电介质膜的方法，其包括使合适的亲水二氧化硅膜与有效量的多官能表面改性剂反应。 薄膜存在于基材上，任选具有亲水孔表面的孔结构，反应进行足以使所述表面改性剂渗透所述孔结构的时间，并产生介电常数为 约3或更少，其中表面改性剂是疏水性的并且适合于在这些亲水性表面上甲硅烷基化或封端硅烷醇部分。 还公开了包括这种膜的介电膜和集成电路。