公开(公告)号：WO2014119405A1

公开(公告)日：2014-08-07

申请号：PCT/JP2014/050922

申请日：2014-01-20

Applicant: 一般社団法人日本歯科商工協会

Inventor： 村田　慎一 ,  根本　忠明 ,  小山　雄飛 ,  高橋　祐一朗

IPC: A61C19/00 ,  A61B19/02 ,  A61C19/02

CPC classification number: A61C19/02 ,  A61B50/13 ,  A61B50/20 ,  A61B50/30 ,  A61B50/31 ,  A61B50/312 ,  A61B2050/3007 ,  A61B2050/3011

Abstract: 　在宅訪問歯科診療装置（１００）は、在宅訪問先での歯科診療に用いる器材を収納するための複数のセル（１１１～１１３）と、複数のセル（１１１～１１３）の少なくとも一部を搬送するためのカート（１５０）と、セル（１１１～１１３）をカート（１５０）に着脱自在に接続する接続部（１７０）とを備えている。これにより、在宅訪問先での歯科診療に使用する器材の全部を一括して運搬できるとともに、該器材の一部を交換、修理、運搬することが可能な在宅訪問歯科診療装置を提供する。

Abstract translation: 家访牙科护理装置（100）包括：多个单元（111-113），用于在待访问的家庭中容纳用于牙科护理的设备; 用于承载多个单元（111-113）的至少一部分的推车（150）; 以及将电池（111-113）可拆卸地连接到推车（150）的连接部分（170）。 根据本发明，可以提供一种家访牙科护理装置，其能够携带用于家访牙科护理的所有设备，并且可以更换，修理和携带一部分设备。

公开(公告)号：WO2014106915A1

公开(公告)日：2014-07-10

申请号：PCT/JP2013/078095

申请日：2013-10-16

Applicant: 独立行政法人情報通信研究機構

Inventor： 妹尾　孝憲 ,  市橋　保之 ,  佐々木　久幸 ,  山本　健詞

IPC: H04N19/00 ,  H04N13/00

CPC classification number: H04N13/161 ,  H04N13/128 ,  H04N13/156 ,  H04N13/349 ,  H04N19/44 ,  H04N19/597 ,  H04N19/70

Abstract: 　立体映像符号化装置（１）は、基準視点映像（Ｃ）、左視点映像（Ｌ）及び右視点映像（Ｒ）からなる多視点映像と、多視点映像に付随する奥行値のマップである基準視点奥行マップ（Ｃｄ）、左視点奥行マップ（Ｌｄ）及び右視点奥行マップ（Ｒｄ）と、を入力する。立体映像符号化装置（１）は、奥行型（Ｈｄ）で指定された合成方法で、映像合成手段（１１）により複数の映像を、奥行マップ合成手段（１３）により複数の奥行マップをそれぞれ合成し、合成映像（Ｇ）、合成奥行マップ（Ｇｄ）及び奥行型（Ｈｄ）を含むパラメータを、それぞれ映像符号化手段（１２）、奥行マップ符号化手段（１４）及びパラメータ符号化手段（１５）により個別の単位で符号化し、多重化手段（１６）により符号化ビット列に多重化して伝送する。

Abstract translation: 该立体视频编码装置（1）输入：包括参考视点视频（C），左视点视频（L）和右视点视频（R）的多视点视频; 以及参考视点深度图（Cd），左视点深度图（Ld）和右视点深度图（Rd），它们是伴随多视点视频的深度值的映射。 立体视频编码装置（1）：通过视频合成装置（11）合成多个视频，并根据由深度类型（Hd）指定的合成方法由深度图合成装置（13）合成多个深度图 ）; 通过视频编码装置（12），深度图编码装置（14）和参数编码合成视频（G），合成深度图（Gd）和包括深度类型（Hd） 编码装置（15）; 并且通过多路复用装置（16）执行涉及编码比特串的复用和发送。

公开(公告)号：WO2014103802A1

公开(公告)日：2014-07-03

申请号：PCT/JP2013/083768

申请日：2013-12-17

Applicant: コニカミノルタ株式会社

Inventor： 大谷　浩 ,  村山　真昭 ,  石毛　秀和

IPC: H05B33/10 ,  B65H18/28 ,  H01L51/50 ,  H05B33/02 ,  H05B33/04

CPC classification number: H01L51/0003 ,  H01L51/525

Abstract: フレキシブル基板（１６）上に形成した有機ＥＬ素子（３）の各々に封止部材（１５）を貼合した後に巻取りを行う際に、有機ＥＬパネルの性能低下を抑制できる有機ＥＬパネルの製造方法を提供する。ロールツーロール方式により、長尺のフレキシブル基板（１６）上に少なくとも第１電極（１１）、発光層を含む有機機能層（１２）、及び、第２電極（１３）を有する有機エレクトロルミネッセンス素子（３）を複数形成した有機エレクトロルミネッセンス素子基板における複数の前記有機エレクトロルミネッセンス素子（３）の各々に封止部材（１５）を貼合した後、前記有機エレクトロルミネッセンス素子基板を巻き取る有機エレクトロルミネッセンスパネルの製造方法であって、フレキシブル基板（１６）上に、有機ＥＬ素子（３）が形成される空間以外の空間の少なくとも一部を占める空間占有部材（１）を配置した後、有機ＥＬ素子基板を巻き取ることを特徴とする。

Abstract translation: 提供一种用于制造有机电致发光（EL）面板的方法，所述方法能够在其上缠绕有有机EL元件（3）的柔性基板（16）被卷起的情况下使有机EL面板的性能劣化最小化 在将密封构件（15）施加到每个有机EL元件（3）之后。 这种制造有机EL面板的方法包括：通过在长柔性基板（16）上形成多个有机EL元件（3）而获得的有机EL元件基板中的多个有机EL元件（3）分别施加密封构件（15） 每个有机EL元件（3）至少包括第一电极（11），含有发光层的有机功能层（12）和第二电极（13）; 然后卷绕所得到的有机EL元件基板。 该方法的特征在于，在卷绕之前，空间占据部件（1）设置在柔性基板（16）上，以便占据未被有机EL元件占据的空间的至少一部分（ 3）。

公开(公告)号：WO2014097864A1

公开(公告)日：2014-06-26

申请号：PCT/JP2013/082263

申请日：2013-11-29

Applicant: 八千代工業株式会社

Inventor： 瀬古　充宏 ,  谷口　禎哉

IPC: B60K15/063 ,  F16B17/00 ,  F16F15/08

CPC classification number: F16F15/08 ,  B60K15/063 ,  B60K15/067 ,  B60K2015/0634 ,  B60Y2306/09 ,  B60Y2400/48 ,  F16B21/086 ,  F16F1/377

Abstract: 組み付けが容易であるとともに燃料タンクから外れにくい燃料タンク用緩衝部材を提供すること。燃料タンク（Ｍ）の凹部（Ｎ）に取り付けられる燃料タンク用緩衝部材（１）であって、本体部（１０）と、本体部（１０）から垂下する軸部（２０）と、軸部（２０）の先端に軸部（２０）よりも拡径して形成され凹部（Ｎ）と係合する係合部（３０）と、を有し、係合部（３０）の外周面（３２）には、放射状に延設された複数のリブ（３４）が形成されていることを特徴とする。

Abstract translation: 提供一种容易组装并且不容易与燃料箱分离的燃料箱缓冲构件。 一种安装在燃料箱（M）的凹部（N）上的燃料箱缓冲构件（1）的特征在于，包括主体部（10），从主体部垂下的轴部（20） （10），以及形成为在所述轴部（20）的前端具有比所述轴部（20）大的直径并与所述凹部（N）配合的卡合部（30）。 在径向结构中延伸的多个肋（34）形成在接合部分（30）的外周表面（32）中。

公开(公告)号：WO2014092089A1

公开(公告)日：2014-06-19

申请号：PCT/JP2013/083109

申请日：2013-12-10

Applicant: 株式会社 日立パワーデバイス

Inventor： 恩田　智弘 ,  石川　耕一 ,  武田　翼

IPC: H01L29/861 ,  H01L21/312 ,  H01L23/29 ,  H01L23/31 ,  H01L25/11 ,  H01L29/868 ,  H02M7/06

CPC classification number: H01L24/33 ,  H01L23/051 ,  H01L23/3121 ,  H01L23/3135 ,  H01L23/3185 ,  H01L24/01 ,  H01L24/29 ,  H01L24/32 ,  H01L24/83 ,  H01L29/861 ,  H01L29/868 ,  H01L2224/06181 ,  H01L2224/26145 ,  H01L2224/291 ,  H01L2224/32245 ,  H01L2224/33181 ,  H01L2224/83385 ,  H01L2924/12032 ,  H01L2924/12036 ,  H01L2924/181 ,  H01L2924/351 ,  H02M7/06 ,  H01L2924/014 ,  H01L2924/00 ,  H01L2924/00012

Abstract: 　本発明に係るパワー半導体装置は、ｐ基板型正極素子またはｎ基板型負極素子の半導体チップ（１０）を用いて構成されるが、ｐ基板型正極素子の半導体チップ（１０）の場合、半導体チップ（１０）は、接合材（４１）を介してベース電極体（３０）の上面に、ｐｎ接合部（１３）が近い側の主面が接合され、また、半導体チップ（１０）の他方の主面の上部には、接合材（４０）を介してリード電極体（２０）が接合される。そして、半導体チップ（１０）の端部側面には、絶縁保護膜（５０）が形成され、さらにその外部には、封止樹脂体（６０）が形成されている。

Abstract translation: 该功率半导体装置使用p基板正极元件或n基板负极元件的半导体芯片（10）构成，但是在p基板正极元件的半导体芯片（10）的情况下， 在靠近pn结（13）的一侧的半导体芯片（10）的主表面通过其间的接合材料（41）接合到基底电极体（30）的顶表面，并且引线电极体 （20）之间的接合材料（40）连接到半导体芯片（10）的另一个主表面的顶部。 此外，在半导体芯片（10）的端侧表面形成有绝缘保护膜（50），此外，在其外部形成有密封树脂体（60）。

公开(公告)号：WO2014087539A1

公开(公告)日：2014-06-12

申请号：PCT/JP2012/081797

申请日：2012-12-07

Applicant: 株式会社日立製作所

Inventor： 山根　憲一郎 ,  ▲逢▼見　翔太 ,  熊谷　正俊

IPC: H02J3/00

CPC classification number: G06Q50/06 ,  H02J3/18 ,  Y02E40/30

Abstract: 　信頼性の高い電力制御を行うことを課題とする。　所定の上限値と下限値との間の高信頼区間（１８０１）と、高信頼区間（１８０１）以外の低信頼区間（１８０２）とが信頼性区間データとして予め設定されており、通信状態が悪化し、演算モデルによる制御量を算出する分散制御モードによる制御を行われているとき、低信頼の計測データが存在するか否かを判定し、低信頼の計測データが存在する場合、高信頼区間における制御量に基づく仮制御量を算出し、この仮制御量による制御を行うことを特徴とする。

Abstract translation: 本发明解决的问题是执行高度可靠的功率控制。 预先设定规定上下限之间的高可靠性区域（1801）和除了高可靠性区域（1801）之外的低可靠性区域（1802），作为可靠性区域数据。 在由于通信状态恶化而使用计算模型计算出控制量的分布控制模式下进行功率控制的情况下，电网控制系统判定是否存在低可靠性区域的测量数据， 当存在低可靠性的测量数据时，基于高可靠性区域中的控制量的控制量，并且使用临时控制量进行控制。

公开(公告)号：WO2014084270A1

公开(公告)日：2014-06-05

申请号：PCT/JP2013/081942

申请日：2013-11-27

Applicant: コニカミノルタ株式会社

Inventor： 福田　和浩 ,  高橋　伸明

IPC: C23C14/04 ,  C23C14/24 ,  H01L51/50 ,  H05B33/10

CPC classification number: C23C14/34 ,  C23C14/042 ,  C23C14/12 ,  C23C14/24 ,  H01L51/0011

Abstract: 薄膜形成装置の熱源によって加熱されることによって、マスクが変形することを抑制し、成膜パターンの形状精度を保持し、薄膜を継続して安定的に製造することが可能な有機ＥＬ素子用の薄膜形成装置と薄膜形成方法を提供する。形状パターンを有したマスク（１２０）を用いて、気相薄膜形成法によって、真空雰囲気下で素子基板（１０２）上に薄膜を形成する装置（１００）であって、内部に薄膜形成部（１０１Ａ）とマスク冷却部（１０１Ｂ）とを有する真空チャンバ（１０１）と、マスク冷却部（１０１Ｂ）内のマスクの冷却装置（１５０）と、素子基板（１０２）上に薄膜の形状パターン形成させるためのマスク（１２０）と、マスク（１２０）を薄膜形成部（１０１Ａ）とマスク冷却部（１０１Ｂ）との間を相互に移動させる移動装置とを備えることを特徴とする有機エレクトロルミネッセンス素子用の薄膜形成装置（１００）とこの装置を用いた薄膜形成方法である。

Abstract translation: 提供了一种用于有机电致发光（EL）元件和薄膜形成方法的薄膜形成装置，其中通过使用薄膜形成装置的热源进行加热的结果，可以抑制掩模变形， 保持成膜图形的形状精度，可以连续稳定地制造薄膜。 用于有机EL元件的薄膜形成装置（100）使用具有形状图案的掩模（120），通过气相薄膜形成方法在元件基板（102）上形成薄膜， 在真空气氛下，其特征在于具有：设置有薄膜形成部（101A）和掩模冷却部（101B）的真空室（101）。 设置在所述面罩冷却部（101B）的内部的面罩冷却装置（150） 用于使所述薄膜的形状图案形成在所述元件基板（102）上的所述掩模（120）; 以及将薄膜形成部（101A）与掩模冷却部（101B）之间的掩模（120）往复移动的移动装置。 还提供了使用该装置的薄膜形成方法。

公开(公告)号：WO2014080482A1

公开(公告)日：2014-05-30

申请号：PCT/JP2012/080212

申请日：2012-11-21

Applicant: 株式会社日立製作所

Inventor： 石橋　良 ,  内藤　孝 ,  児玉　一宗 ,  青柳　拓也 ,  日野　哲士 ,  青山　肇男 ,  橋本　素行 ,  高橋　克仁 ,  坂野　順一 ,  中野　広

IPC: B32B17/00 ,  C03C8/02 ,  C03C8/04 ,  C03C8/08 ,  C03C8/10 ,  C03C8/18 ,  F28D1/02 ,  G21C3/20 ,  H01L23/15

CPC classification number: G21C3/34 ,  C03C8/14 ,  C03C8/18 ,  C03C8/24 ,  C04B37/025 ,  C04B2237/10 ,  C04B2237/365 ,  C04B2237/38 ,  C04B2237/403 ,  C04B2237/405 ,  C04B2237/407 ,  C04B2237/765 ,  C04B2237/84 ,  F28D7/16 ,  F28F19/02 ,  F28F21/006 ,  F28F21/04 ,  F28F2255/06 ,  G21C3/07 ,  G21C3/20 ,  H01L23/15 ,  H01L23/3735 ,  H01L23/473 ,  H01L2224/32225 ,  H01L2224/48091 ,  H01L2224/48227 ,  H01L2224/48472 ,  H01L2224/49109 ,  H01L2224/73265 ,  H01L2924/1305 ,  H01L2924/13055 ,  H01L2924/181 ,  H05K1/0306 ,  H05K1/18 ,  H05K7/20509 ,  Y02E30/40 ,  H01L2924/00014 ,  H01L2924/00 ,  H01L2924/00012

Abstract: 　第１部材（２）と、第１部材（２）に対向する第２部材（３）と、第１部材（２）と第２部材（３）の間に設けられ、第１部材（２）と第２部材（３）とを接着するガラス層（４）とを有し、ガラス層（４）のガラス転移点は、構造体（１）の使用時のガラス層（４）の温度より低くなっている。ガラス層（４）には、セラミックス粒子４ｂと金属粒子４ｃの少なくとも一方が分散している。ガラス層（４）のガラス転移点より低い温度帯において、ガラス層（４）の熱膨張係数は、第１部材（２）と第２部材（３）の熱膨張係数の間の値になっている。これらにより、構造体（１）は、常温より高い温度での使用により内部に生じる熱ひずみを緩和できる。第１部材（２）は、ガラス層（４）の上に成膜された膜であり、スパッタリング法と、蒸着法と、めっき法と、塗布法との内の少なくとも１つを用いて成膜されている。

Abstract translation: 本发明具有第一构件（2），与第一构件（2）相对的第二构件（3）和设置在第一构件（2）和第二构件（3）之间的玻璃层（4） 键合第一构件（2）和第二构件（3）; 当使用结构（1）时，玻璃层（4）的玻璃化转变点低于玻璃层（4）的温度。 陶瓷颗粒（4b）和/或金属颗粒（4c）分散在玻璃层（4）中。 在比玻璃层（4）的玻璃化转变点低的玻璃层（4）的温度区域中，玻璃层（4）的热膨胀系数是热膨胀系数 第一构件（2）和第二构件（3）。 因此，可以减轻在高于室温的温度下使用结构时引起的结构内部热应变。 第一构件（2）是在玻璃层（4）的顶部形成的膜，并且使用溅射，气相沉积，电镀和涂布中的至少一种方法形成。

公开(公告)号：WO2014077162A1

公开(公告)日：2014-05-22

申请号：PCT/JP2013/080013

申请日：2013-11-06

Applicant: 株式会社日立製作所

Inventor： 上川　将行 ,  松尾　俊明 ,  近藤　健之 ,  佐世　康成 ,  丹藤　順志

IPC: C07C29/141 ,  C07C31/20 ,  B01J23/42 ,  C07B61/00 ,  C07C45/52 ,  C07C45/64 ,  C07C47/19 ,  C07C47/22

CPC classification number: C07C29/141 ,  B01J21/063 ,  B01J23/42 ,  C07C31/20

Abstract: ３－ヒドロキシプロピオンアルデヒド（３－ＨＰＡ）に水素添加反応を行うことにより１，３－プロパンジオール（１，３－ＰＤＯ）を連続的に製造する方法および装置を提供する。水素添加反応を行う固定床触媒反応器の管長と口径の比（Ｌ／Ｄ比）を５～１００とし、前記反応器において空間速度を１～６ｈ －１ 、温度を５０～１００℃および圧力を１０～１７ＭＰａとすることで、水素添加反応の反応プロセスにおける副生成物の生成を抑制する。これにより、設備コストおよび運転コストを低減できる。

Abstract translation: 提供了通过使3-羟基丙醛（3-HPA）进行氢化反应来连续制造1,3-丙二醇（1,3-PDO）的方法和装置。 进行氢化反应的固定床催化剂反应器的管长和开口直径的比（L / D比）为5〜100，空速为1〜6h -1，温度为50〜100℃ 对反应器设定10〜17MPa的压力，由此抑制在水解反应的反应过程中产生副产物。 因此可以减少设备成本和运营成本。

公开(公告)号：WO2014069526A1

公开(公告)日：2014-05-08

申请号：PCT/JP2013/079417

申请日：2013-10-30

Applicant: 三井造船株式会社

Inventor： 内田　直喜

IPC: H05B6/06 ,  H05B6/44

CPC classification number: H05B6/06 ,  H02M5/4585 ,  H05B6/04 ,  H05B6/104 ,  H05B6/44

Abstract: 相互誘導環境の共振型インバータの出力位相角が所定範囲に入るように制御する。 相互誘導環境の複数の誘導加熱コイル（Ｌａ，Ｌｂ）の各々に給電する共振型インバータ（３０ａ，３０ｂ）を複数備える誘導加熱装置（１００）において、前記共振型インバータの駆動周波数を共通にして、複数の前記共振型インバータの出力位相角が所定範囲に入るように、前記駆動周波数を共通に制御する制御回路（４０）を備える。また、前記位相角が所定範囲に入るよう誘導加熱コイルに流れるコイル電流を個別に制御する。

Abstract translation: 在相互感应环境中控制谐振逆变器的输出相位角，以将输出相位角保持在预定范围内。 一种感应加热装置（100），其具有多个用于在互感环境中向多个感应加热线圈（La，Lb）中的每一个供电的谐振逆变器（30a，30b），其中所述感应加热装置（100） 设置有用于共享谐振逆变器的驱动频率的控制电路（40），并且共享控制驱动频率，使得多个谐振逆变器的输出相位角在预定范围内。 此外，流过感应加热线圈的线圈电流被单独控制，使得相位角在预定范围内。