表面处理铜箔以及使用该表面处理铜箔制造的覆铜层压板或印刷布线板

    公开(公告)号:CN107709629A

    公开(公告)日:2018-02-16

    申请号:CN201680034809.3

    申请日:2016-08-10

    Abstract: 本发明提供表面处理铜箔等,其适用于能够对应于高频化对应信息通信设备的高性能化/高功能化的覆铜层压板或印刷布线板。本发明的表面处理铜箔M用于通过与介电常数为2.6~4.0的第一树脂基材B1的层压粘附而形成覆铜层压板,在与第一树脂基材B1的贴合面具有满足如下所示的条件1的表面处理层。条件1:在通过蚀刻从所述覆铜层压板使铜箔部分全部溶解而得到的第一树脂基材B1的表面层压粘附第二树脂基材B2时,第一树脂基材B1与第二树脂基材B2的粘附界面S的界面高度H为0.15~0.85μm,存在于粘附界面S的凹凸数在每2.54μm宽度中为11~30个。

    层合电路基板
    4.
    发明公开

    公开(公告)号:CN1909765A

    公开(公告)日:2007-02-07

    申请号:CN200610110912.X

    申请日:2006-07-31

    Abstract: 本发明提供使用含低熔点金属的导电性糊料的层合电路基板,该层合电路基板中在铜箔与含低熔点金属的导电性糊料的交界面不发生空隙、裂缝,连接可靠性高。本发明的层合电路基板中,在铜箔或铜合金箔的至少一面的表面粗糙度为0.1μm~5μm的原料箔上形成由平均附着量在150mg/dm2以下、表面粗糙度为0.3~10μm的突起物构成的粗化处理层,在所述粗化处理铜箔的该粗化处理层上设有含低熔点金属的导电性糊料,所述表面处理铜箔与树脂基板层合。

    表面处理铜箔以及使用该表面处理铜箔制造的覆铜层压板或印刷布线板

    公开(公告)号:CN107709629B

    公开(公告)日:2019-12-10

    申请号:CN201680034809.3

    申请日:2016-08-10

    Abstract: 本发明提供表面处理铜箔等,其适用于能够对应于高频化对应信息通信设备的高性能化/高功能化的覆铜层压板或印刷布线板。本发明的表面处理铜箔M用于通过与介电常数为2.6~4.0的第一树脂基材B1的层压粘附而形成覆铜层压板,在与第一树脂基材B1的贴合面具有满足如下所示的条件1的表面处理层。条件1:在通过蚀刻从所述覆铜层压板使铜箔部分全部溶解而得到的第一树脂基材B1的表面层压粘附第二树脂基材B2时,第一树脂基材B1与第二树脂基材B2的粘附界面S的界面高度H为0.15~0.85μm,存在于粘附界面S的凹凸数在每2.54μm宽度中为11~30个。

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