直立式电镀设备及其电镀方法

    公开(公告)号:CN102268719B

    公开(公告)日:2013-10-30

    申请号:CN201010196199.1

    申请日:2010-06-03

    IPC分类号: C25D17/02 C25D7/12

    摘要: 本发明提供一种直立式电镀设备及其电镀方法,该设备包括用以对一晶片进行电镀,包括一电镀槽、一晶座以及一磁致动单元。电镀槽呈放一电镀液。晶座夹持该晶片,并将该晶片浸入该电镀液之中。磁致动单元旋转该晶座,借此以在该电镀液中旋转该晶片,以均匀化该晶片的电镀效果。本发明实施例的直立式电镀设备,可使晶片在电镀时于一铅直平面上进行旋转,借此以避免电镀液浓度分布不均对电镀效果所造成的影响。进而提升产品的可靠度,解决不规则凸点、凸点破裂以及低介电分层等问题。

    直立式电镀设备及其电镀方法

    公开(公告)号:CN102268719A

    公开(公告)日:2011-12-07

    申请号:CN201010196199.1

    申请日:2010-06-03

    IPC分类号: C25D17/02 C25D7/12

    摘要: 本发明提供一种直立式电镀设备及其电镀方法,该设备包括用以对一晶片进行电镀,包括一电镀槽、一晶座以及一磁致动单元。电镀槽呈放一电镀液。晶座夹持该晶片,并将该晶片浸入该电镀液之中。磁致动单元旋转该晶座,借此以在该电镀液中旋转该晶片,以均匀化该晶片的电镀效果。本发明实施例的直立式电镀设备,可使晶片在电镀时于一铅直平面上进行旋转,借此以避免电镀液浓度分布不均对电镀效果所造成的影响。进而提升产品的可靠度,解决不规则凸点、凸点破裂以及低介电分层等问题。