降低应力的激光器芯片结构和热沉结构及其制备方法

    公开(公告)号:CN103427330B

    公开(公告)日:2016-06-08

    申请号:CN201310302731.7

    申请日:2013-07-17

    发明人: 李丰

    IPC分类号: H01S5/022 H01S5/024

    摘要: 本发明公开了一种降低应力的激光器芯片结构,包括激光器芯片主体,激光器芯片主体具有正极和与外部电极电性连接的负极,正极上设置有多个发光部,并且发光部之间设置有第一凹槽,还包括热沉结构,热沉结构包括热沉主体,热沉主体的正面通过焊料层焊接在激光器芯片主体的正极上,在热沉主体的位于激光器芯片主体的第一凹槽相对应的部位上开有第二凹槽,并且该第二凹槽与第一凹槽一一对应。本发明不仅具有低的应力状态,弯曲度低,能够实现低应力或“无应力”封装,而且不影响激光器的导热能力,可保证激光器长时间工作。

    一种适用于碟片激光器射流冲击冷却系统的热沉

    公开(公告)号:CN105305206A

    公开(公告)日:2016-02-03

    申请号:CN201510735986.1

    申请日:2015-11-03

    IPC分类号: H01S3/042

    CPC分类号: H01S5/02484

    摘要: 本发明公开了一种适用于碟片激光器射流冲击冷却系统的热沉,包括肋基和多个分布在肋基上的肋片;肋基作为碟片激光晶体的载体,其一个端面用于固定碟片激光晶体,另一个端面上分布有同轴排列的肋片;肋片用于增大散热面积,降低对流换热热阻;该热沉应用于碟片激光器射流冲击冷却系统时,其下表面通过射流冲击冷却进行换热,下表面的肋片增加了对流换热的表面积,加快了换热速率;另外,肋片还从结构上增加了整个热沉的强度,且起到分散射流压力的作用,可减小碟片的冲击变形。

    用于散热应用的厚聚晶合成金刚石晶片以及微波等离子体化学气相沉积合成技术

    公开(公告)号:CN104812946A

    公开(公告)日:2015-07-29

    申请号:CN201380042784.8

    申请日:2013-08-09

    摘要: 一种制造聚晶CVD合成金刚石材料的方法,该聚晶CVD合成金刚石材料具有至少2000Wm-1K-1的通过其厚度的室温平均热导率,该方法包括:将难熔金属基底装入CVD反应器中;在难熔金属基底的周边区域周围设置难熔金属护圈,所述难熔金属护圈限定出介于所述难熔金属基底边缘和难熔金属护圈之间的具有1.5mm到5.0mm宽度的间隙;将微波引入CVD反应器中,其功率使得按所述难熔金属基底单位面积的功率计的功率密度在2.5-4.5W mm-2的范围内;将工艺气体引入CVD反应器中,其中所述CVD反应器内的工艺气体包含:以分子氮N2计算的在600ppb到1500ppb范围内的氮浓度、1.5-3.0体积%的含碳气体浓度和92-98.5体积%的氢气浓度;将所述难熔金属基底的平均温度控制在750-950℃的范围内,并且维持所述难熔金属基底上的边缘和中心点之间的温度差不超过80℃;在所述难熔金属基底上生长聚晶CVD合成金刚石材料达到至少1.3mm的厚度;并且冷却所述聚晶CVD合成金刚石材料以产生具有至少1.3mm厚度的聚晶CVD合成金刚石材料,在所述聚晶CVD合成金刚石材料的至少中心区域上的至少2000Wm-1K-1的通过所述聚晶CVD合成金刚石材料厚度的室温平均热导率,其中所述中心区域是所述聚晶CVD合成金刚石材料的总面积的至少70%,在所述聚晶CVD合成金刚石材料的至少中心区域上的单取代氮浓度不超过0.80ppm,并且其中所述聚晶CVD合成金刚石材料在其至少中心区域上是基本没有裂纹的,以致于所述中心区域没有与所述聚晶CVD合成金刚石材料的两个外部主面相交且延伸长度大于2mm的裂纹。