Circuit board connection structure and method, and liquid crystal device including the connection structure
    71.
    发明公开
    Circuit board connection structure and method, and liquid crystal device including the connection structure 失效
    的印刷电路板,方法和实施例,以及液晶装置中使用的实施例的

    公开(公告)号:EP0730186A1

    公开(公告)日:1996-09-04

    申请号:EP96301386.7

    申请日:1996-02-29

    Abstract: A circuit board connection structure is formed by a first substrate having a first electrode pattern, a second substrate having a second electrode pattern, and a film circuit member electrically connecting the first and second electrode patterns. The film circuit member includes lead electrodes having an exposed portion partly connected to the first electrode pattern at a part of the exposed portion closer to an edge of the film circuit member. The film circuit member may further includes lead electrodes having an exposed portion partly connected to the second electrode pattern at a part of the exposed portion closer to an edge of the film circuit member. The circuit board connection structure may be incorporated in various electronic devices, including a liquid crystal display device.

    Abstract translation: 一种电路板连接结构是通过具有第一电极图案,具有第二电极图案的第二基板,以及连接第一和第二电极图案的薄膜电路构件电的第一基板形成的。 薄膜电路部件包括具有以在靠近薄膜电路构件的边缘的暴露部分的一部分部分地连接到所述第一电极图案暴露的部分的引线电极。 薄膜电路构件可以Furtherwirt包括具有至在靠近薄膜电路构件的边缘的暴露部分的一部分部分地连接到所述第二电极图案暴露的部分的引线电极。 该电路板连接结构可以在各种电子设备,包括液晶显示装置被合并。

    Verfahren zum Herstellen eines Metall-Keramik-Substrates
    76.
    发明公开
    Verfahren zum Herstellen eines Metall-Keramik-Substrates 失效
    Verfahren zum Herstellen eines Metall-Keramik-Substrates。

    公开(公告)号:EP0632684A2

    公开(公告)日:1995-01-04

    申请号:EP94107879.2

    申请日:1994-05-21

    Abstract: Die Erfindung bezieht sich auf ein neuartiges Verfahren zum Herstellen eines Kermaik-Metall-Substrates, vorzugsweise eines Keramik-Kupfer-Substrates, mit wenigstens einer Keramikschicht (2), die auf beiden Oberflächenseiten mit jeweils wenigstens einer Metallschicht (3,4) versehen ist, von denen zumindest eine Metallschicht (3) von einer flächig an der einen Oberflächenseite der Keramikschicht (2) befestigten Metallfolie oder -platine gebildet ist, wobei die Keramikschicht (2) wenigstens eine Kante (5') bildet, über die die eine Metallschicht (3) mit einem Teilbereich übersteht. Die Metallschicht (3) dieses Ausgangssubstrates (1) wird unter Verwendung eines Werkzeugs bleibend derart verformt, daß diese Metallschicht (3) an der Kante (5') von der einen Oberflächenseite der Keramikschicht (2) beabstandet und über einen Randbereich (7) vorgegebener Breite von der einen Oberflächenseite der Keramikschicht (2) abgehoben ist.

    Abstract translation: 本发明涉及一种用于制造陶瓷 - 金属基底,优选陶瓷 - 铜基底的新型方法,其具有至少一个陶瓷层,所述至少一个陶瓷层设置在两个表面上,在每种情况下至少有一个金属层,至少一个金属层至少 一个金属层由金属箔或金属板形成,该金属箔或金属板平坦地涂敷在陶瓷层的一个表面上,陶瓷层形成至少一个边缘,超过该边缘的一个金属层的一个区域突出。

    Verfahren zum Durchplattieren von Leiterfolien
    78.
    发明公开
    Verfahren zum Durchplattieren von Leiterfolien 失效
    Verfahren zum Durchplattieren von Leiterfolien。

    公开(公告)号:EP0608726A1

    公开(公告)日:1994-08-03

    申请号:EP94100505.0

    申请日:1994-01-14

    Inventor: Schmidt, Walter

    Abstract: Durchplattierungen in mehrschichtigen Leiterfolien werden durch Herstellen von vorbereiteten Durchplattierungen auf den später zu verarbeitenden Leiterfolien (1) vorbereitet, hierzu werden diese Leiterfolien (1) mit Photoresist (2) auflaminiert, derart, dass in einem photochemischen Verfahren ein frei wählbares Muster von Ausnehmungen (3,3') in dem Photoresist belichtet und ausentwickelt wird, dass in einem galvanischen Plattierungsprozess Metall (4,4') in diese Ausnehmungen (3,3') aufplattiert wird und dass der Photoresist (2) anschliessend entfernt wird, dass mindestens zwei Leiterfolien (1,10) gepresst, derart dass die Leiterfolien (1,10) durch mindestens eine intermediäre Klebefolie (5) als Klebemittel getrennt sind und dass jede Klebefolie (5) auf mindestens einer Leiterfolie (10) auflaminiert ist, jede dieser intermediären Klebefolien (5) liegt an mindestens eine mit vorbereiteten Durchplattierungen (4,4') gearbeitet Leiterfolie (1) an, derart, dass beim Pressen mindestens zweier Leiterfolien (1,10) die auf mindestens einer der Leiterfolien (1,10) vorbereiteten Durchplattierungen (4,4') jeweils die intermediäre Klebefolie (5) durchdringen und Durchplattierungen (15,15') zwischen diesen Leiterfolien (1,10) gebildet werden.

    Abstract translation: 在多层导体箔中的镀覆连接是通过在导体箔(1)上生产准备好的穿孔连接来制备的,这些连接将被稍后处理。 为此,这些导体箔(1)具有层压在其上的光致抗蚀剂(2),使得光致抗蚀剂中的可自由选择的凹槽(3,3')的图案在光化学过程中暴露和显影,该金属 (4,4')在电化学电镀工艺中被电镀到这些凹槽(3,3')中,随后去除光致抗蚀剂(2),至少两个导体箔(1,10)以这种方式被压缩 导体箔(1,10)由作为粘合剂的至少一个中间粘合膜(5)分开,并且将每个粘合膜(5)层压在至少一个导体箔(10)上,这些中间体 粘合剂膜(5)靠在至少一个导体箔(1)上,所述导体箔(1)以已制备的穿通连接(4,4')进行加工,使得在至少两个导体箔(1,10 ),已经在至少一个导体箔(1,10)上制备的镀覆连接(4,4') 在每种情况下通过中间粘合膜(5),并且在这些导体箔(1,10)之间形成通孔连接(15,15')。

Patent Agency Ranking