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    Pattern forming method, actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition, resist film, method for manufacturing electronic device, electronic device, and compound
    95.
    发明专利
    Pattern forming method, actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition, resist film, method for manufacturing electronic device, electronic device, and compound 有权
    图案形成方法，抗紫外线敏感性或辐射敏感性树脂组合物，电阻膜，制造电子器件的方法，电子器件和化合物

    公开(公告)号：JP2014194534A

    公开(公告)日：2014-10-09

    申请号：JP2014030830

    申请日：2014-02-20

    申请人： Fujifilm Corp ,  富士フイルム株式会社

    发明人： KATAOKA SHOHEI ,  SHIBUYA AKINORI ,  FUKUHARA TOSHIAKI ,  FURUYA SO ,  SHIRAKAWA MICHIHIRO

    IPC分类号： G03F7/004 ,  C07C311/51 ,  C08F20/18 ,  G03F7/038 ,  G03F7/039 ,  H01L21/027

    CPC分类号： G03F7/038 ,  C07C25/18 ,  C07C233/04 ,  C07C235/88 ,  C07C311/03 ,  C07C311/06 ,  C07C311/51 ,  C07C311/53 ,  C07C381/12 ,  C07C2601/14 ,  C07C2603/74 ,  C07D327/06 ,  C07D333/46 ,  C07D333/76 ,  C07D411/06 ,  C08F220/26 ,  G03F7/0392 ,  G03F7/0397 ,  G03F7/20 ,  G03F7/325 ,  H01L21/0275

    摘要： PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a pattern forming method, a photosensitive or radiation-sensitive resin composition, a resist film and a compound, a method for manufacturing an electronic device, and an electronic device, which exhibit high roughness performance and defocusing performance in the formation of an ultrafine pattern (particularly a trench pattern or a hole pattern in a size of 50 nm or less), and excellent resolution and exposure latitude.SOLUTION: The pattern forming method includes steps of (1) forming a film comprising the following photosensitive or radiation-sensitive resin composition, (2) exposing the film, and (3) developing the film with an organic solvent-containing developer to form a negative pattern. The photosensitive or radiation-sensitive resin composition comprises a compound (A) expressed by general formula (I-1), a compound (B) which is different from the compound (A) and generates an acid by irradiation with actinic rays or radiation, and a resin (P) which does not react with an acid generated from the compound (A) but shows decrease in the solubility with an organic solvent-containing developer by an action of an acid from the compound (B). Also disclosed are the photosensitive or radiation-sensitive resin composition, a resist film, the compound (A), a method for manufacturing an electronic device, and an electronic device.

    摘要翻译： 要解决的问题：为了提供图案形成方法，感光性或辐射敏感性树脂组合物，抗蚀剂膜和化合物，电子器件的制造方法和电子器件，其具有高的粗糙度性能和散焦性能 超细图案（特别是50nm以下的沟槽图案或孔图案）的形成，以及优异的分辨率和曝光宽容度。图案形成方法包括以下步骤：（1）形成包含以下 感光或辐射敏感性树脂组合物，（2）曝光该膜，和（3）用含有机溶剂的显影剂显影该膜以形成负型图案。 光敏或辐射敏感性树脂组合物包含由通式（I-1）表示的化合物（A），与化合物（A）不同的化合物（B）），并通过用光化射线或辐射照射产生酸， 和不与化合物（A）产生的酸反应的树脂（P），但是通过化合物（B）的酸作用，与含有机溶剂的显影剂的溶解度降低。 还公开了光敏或辐射敏感性树脂组合物，抗蚀剂膜，化合物（A），电子器件的制造方法和电子器件。