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    Photosensitive compound, photosensitive composition, method for forming resist pattern, and method for processing board
    1.
    发明专利
    Photosensitive compound, photosensitive composition, method for forming resist pattern, and method for processing board 审中-公开
    感光性化合物，感光性组合物，形成耐药性图案的方法以及加工板的方法

    公开(公告)号：JP2008201724A

    公开(公告)日：2008-09-04

    申请号：JP2007040004

    申请日：2007-02-20

    申请人： Canon Inc ,  キヤノン株式会社

    发明人： ITO TOSHIKI

    IPC分类号： C07C69/753 ,  C07D311/84 ,  G03F7/039 ,  H01L21/027

    CPC分类号： G03F7/039 ,  C07D311/84 ,  C08G8/32

    摘要： PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a photosensitive compound capable of forming a low-line-edge-roughness (LER) resist pattern, to provide a photosensitive composition containing the same, and to provide a method for forming such a resist pattern.
    SOLUTION: The photosensitive compound comprises two or more of a structural unit represented by formula (1) in the molecule. The photosensitive composition comprises dissolving one or more of the above compound or the like in an organic solvent.
    COPYRIGHT: (C)2008,JPO&INPIT

    摘要翻译： 要解决的问题：为了提供能够形成低线边缘粗糙度（LER）抗蚀剂图案的光敏化合物，以提供含有该光致抗蚀剂图案的光敏组合物，并提供形成这种抗蚀剂图案的方法 。 解决方案：光敏化合物包含分子中由式（1）表示的结构单元中的两种或更多种。 光敏组合物包括将上述化合物等中的一种或多种溶解在有机溶剂中。 版权所有（C）2008，JPO＆INPIT

    Acid generator containing aromatic ring
    3.
    发明专利
    Acid generator containing aromatic ring 有权
    酸性发生器含有芳香环

    公开(公告)号：JP2010106236A

    公开(公告)日：2010-05-13

    申请号：JP2009101787

    申请日：2009-04-20

    申请人： Korea Kumho Petrochem Co Ltd ,  コリア クンホ ペトロケミカル カンパニー リミテッド

    发明人： OH JUNG-HOON ,  SEO DONG-CHEOL ,  SHIN JIN-BONG

    IPC分类号： C09K3/00 ,  C07C309/12 ,  C07C323/52 ,  C07C381/12 ,  G03F7/004 ,  H01L21/027

    CPC分类号： C07C25/18 ,  C07C309/08 ,  C07C309/12 ,  C07C313/04 ,  C07C323/52 ,  C07C381/12 ,  C07C2601/08 ,  C07C2603/08 ,  C07C2603/18 ,  C07C2603/24 ,  C07C2603/26 ,  C07D311/84 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/0397

    摘要： PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a novel acid generator which has excellent resolution and line width roughness in a chemically amplified resist composition, and has less effluence into water in ArF immersion processes, and also to provide a production method for synthesizing intermediate substances used in the production of the acid generator. SOLUTION: An acid generator is represented by the chemical formula indicated by the figure. X represents an alkylene group having 1-10C, -X 1 -O-X 2 -, or a heteroatom selected from the group consisting of nitrogen, sulfur and fluorine; X 1 and X 2 each independently represent an alkylene group having 1-10C; Y represent a cyclic hydrocarbon group having 5-30C and containing one or more aromatic rings, while one or more hydrogen atoms on the ring of the cyclic hydrocarbon group may be substituted by one or more members selected from the group consisting of -O-Y 1 , -CO-Y 2 , a 1-6C alkyl group, a 1-6C alkoxy group, and the like; Y 1 and Y 2 each independently represent a 1-6C alkyl group; n represents an integer of 0 or 5; and A+ represents an organic counterion. COPYRIGHT: (C)2010,JPO&INPIT

    摘要翻译： 要解决的问题：提供一种在化学放大型抗蚀剂组合物中具有优异的分辨率和线宽粗糙度的新型酸产生剂，并且在ArF浸渍方法中对水的流失少，并且还提供了一种合成中间体 用于生产酸产生剂的物质。 解决方案：酸产生器由图中所示的化学式表示。 X表示具有1-10C的亚烷基，-X -O-X 2或选自氮，硫和氟的杂原子; X 1 和X 2 各自独立地表示具有1-10C的亚烷基; Y代表具有5-30℃的环状烃基并含有一个或多个芳环，而环状烃基环上的一个或多个氢原子可以被一个或多个选自-OY SB > 1 ，-CO-Y 2 ，1-6C烷基，1-6C烷氧基等; Y 1 和Y 2 各自独立地表示1-6C烷基; n表示0或5的整数; A +代表有机抗衡离子。 版权所有（C）2010，JPO＆INPIT