積體電路之製造方法
    5.
    发明专利
    積體電路之製造方法 审中-公开
    集成电路之制造方法

    公开(公告)号:TW201543247A

    公开(公告)日:2015-11-16

    申请号:TW104113249

    申请日:2015-04-24

    IPC分类号: G06F17/50

    摘要: 提供一種積體電路之製造方法。此方法包含接收積體電路之設計布局,其中設計布局包含不重疊之複數個積體電路區,且每個積體電路區包含相同之初始積體電路圖案。此方法更包含根據位置效應分析將這些積體電路區分成複數群組,如此使位於個別群組中的所有積體電路區具有實質相同之位置效應。此方法更包含利用一修正模型對每個群組中之一積體電路區進行修正,修正模型包含位置效應;以及將修正後之積體電路區複製到各別群組中的其它積體電路區。此方法更包含將修正後之積體電路設計布局儲存在有形電腦可讀取媒體中,以供進一步之積體電路處理階段使用。

    简体摘要: 提供一种集成电路之制造方法。此方法包含接收集成电路之设计布局,其中设计布局包含不重叠之复数个集成电路区,且每个集成电路区包含相同之初始集成电路图案。此方法更包含根据位置效应分析将这些集成电路区分成复数群组,如此使位于个别群组中的所有集成电路区具有实质相同之位置效应。此方法更包含利用一修正模型对每个群组中之一集成电路区进行修正,修正模型包含位置效应;以及将修正后之集成电路区复制到各别群组中的其它集成电路区。此方法更包含将修正后之集成电路设计布局存储在有形电脑可读取媒体中,以供进一步之集成电路处理阶段使用。