公开(公告)号：US20100266751A1

公开(公告)日：2010-10-21

申请号：US12820633

申请日：2010-06-22

申请人： Matti Putkonen

发明人： Matti Putkonen

IPC分类号： B05D5/12

CPC分类号： H01L21/0228 ,  C23C16/405 ,  C23C16/45531 ,  C23C16/45553 ,  H01L21/02189 ,  H01L21/02192 ,  H01L21/02194 ,  H01L21/28167 ,  H01L21/28194 ,  H01L21/28211 ,  H01L21/3141 ,  H01L21/31604 ,  H01L21/31641 ,  H01L29/517 ,  H01M8/1253 ,  Y02E60/525 ,  Y02P70/56

摘要： This invention concerns a process for producing oxide thin film on a substrate by an ALD type process. According to the process, alternating vapour-phase pulses of at least one metal source material, and at least one oxygen source material are fed into a reaction space and contacted with the substrate. According to the invention, an yttrium source material and a zirconium source material are alternately used as the metal source material so as to form an yttrium-stabilised zirconium oxide (YSZ) thin film on a substrate.

摘要翻译： 本发明涉及通过ALD型工艺在衬底上生产氧化物薄膜的方法。 根据该方法，将至少一种金属源材料和至少一种氧源材料的交替气相脉冲进料到反应空间中并与基底接触。 根据本发明，交替使用钇源材料和锆源材料作为金属源材料，以在衬底上形成钇稳定的氧化锆（YSZ）薄膜。

公开(公告)号：US20080038524A1

公开(公告)日：2008-02-14

申请号：US11597357

申请日：2005-06-23

申请人： Markku Rajala ,  Matti Putkonen ,  Joe Pimenoff ,  Lauri Niinisto ,  Jani Paivasaari ,  Jouko Kurki

发明人： Markku Rajala ,  Matti Putkonen ,  Joe Pimenoff ,  Lauri Niinisto ,  Jani Paivasaari ,  Jouko Kurki

IPC分类号： B05D3/06 ,  B05C19/00 ,  C03C11/00

CPC分类号： C03C23/0005 ,  C03B37/01838 ,  C03B37/01853 ,  C03B2201/10 ,  C03B2201/12 ,  C03B2201/28 ,  C03B2201/30 ,  C03B2201/31 ,  C03B2201/32 ,  C03B2201/34 ,  C03C21/00 ,  C03C21/007 ,  C23C16/0263 ,  C23C16/40 ,  C23C16/45553 ,  C30B25/02 ,  C30B31/08 ,  C30B31/16 ,  Y10T428/24802 ,  Y10T428/24926

摘要： The invention relates to a method of selective doping of a material by a) radiating a predetermined pre-treated pattern/region into the material, b) treating the material for producing reactive groups in the pre-treated pattern/region, and c) doping the material by the atomic layer deposition method for producing a pattern/region doped with a dopant in the material. The invention further relates to a selectively doped material, a system for preparing a selectively doped material, and use of said method.

摘要翻译： 本发明涉及通过以下方法选择性掺杂材料：a）将预定的预处理图案/区域辐射到材料中，b）处理该材料以在预处理图案/区域中产生反应性基团，以及c）掺杂 该材料通过用于在材料中产生掺杂有掺杂剂的图案/区域的原子层沉积方法。 本发明还涉及选择性掺杂材料，用于制备选择性掺杂材料的系统以及所述方法的使用。

公开(公告)号：US20080014762A1

公开(公告)日：2008-01-17

申请号：US11864663

申请日：2007-09-28

申请人： Matti Putkonen

发明人： Matti Putkonen

IPC分类号： H01L21/31

CPC分类号： H01L21/0228 ,  C23C16/405 ,  C23C16/45531 ,  C23C16/45553 ,  H01L21/02189 ,  H01L21/02192 ,  H01L21/02194 ,  H01L21/28167 ,  H01L21/28194 ,  H01L21/28211 ,  H01L21/3141 ,  H01L21/31604 ,  H01L21/31641 ,  H01L29/517 ,  H01M8/1253 ,  Y02E60/525 ,  Y02P70/56

摘要： This invention concerns a process for producing oxide thin film on a substrate by an ALD type process. According to the process, alternating vapour-phase pulses of at least one metal source material, and at least one oxygen source material are fed into a reaction space and contacted with the substrate. According to the invention, an yttrium source material and a zirconium source material are alternately used as the metal source material so as to form an yttrium-stabilised zirconium oxide (YSZ) thin film on a substrate.

摘要翻译： 本发明涉及通过ALD型工艺在衬底上生产氧化物薄膜的方法。 根据该方法，将至少一种金属源材料和至少一种氧源材料的交替气相脉冲进料到反应空间中并与基底接触。 根据本发明，交替使用钇源材料和锆源材料作为金属源材料，以在衬底上形成钇稳定的氧化锆（YSZ）薄膜。

公开(公告)号：US20060088660A1

公开(公告)日：2006-04-27

申请号：US10974487

申请日：2004-10-26

申请人： Matti Putkonen ,  Jenni Harjuoja

发明人： Matti Putkonen ,  Jenni Harjuoja

IPC分类号： C23C16/00

CPC分类号： C23C16/45531 ,  C23C16/409 ,  C23C16/45553

摘要： Lead containing oxide thin films by Atomic Layer Deposition, comprising using a metal-organic lead compound, having organic ligands bonded to a lead atom by carbon-lead bonds, as a source material for the lead oxide. Stoichiometric PbTiO3 thin films with excellent uniformity can be deposited on substrates by ALD growth using, for example, Ph4Pb, O3, Ti(OiPr)4 and H2O as precursors at 250 and 300° C.

摘要翻译： 含有铅的氧化物薄膜通过原子层沉积，包括使用具有通过碳 - 铅键键合到引线原子的有机配体的金属有机铅化合物作为氧化铅的源材料。 具有优异均匀性的化学计量的PbTiO 3 N 3薄膜可以通过ALD生长沉积在基底上，例如使用Ph 4，Pb 3 O 3，Ti （O 1）Pr）4 H 2和H 2 O 2作为前体在250和300℃下反应

公开(公告)号：US08894723B2

公开(公告)日：2014-11-25

申请号：US12810897

申请日：2008-12-23

申请人： Ola Nilsen ,  Helmer Fjellvåg ,  Mari Endresen Alnes ,  Titta Aaltonen ,  Matti Putkonen

发明人： Ola Nilsen ,  Helmer Fjellvåg ,  Mari Endresen Alnes ,  Titta Aaltonen ,  Matti Putkonen

IPC分类号： C23C16/40 ,  H01M6/18 ,  C23C16/455 ,  H01M10/0562 ,  H01M6/40

CPC分类号： H01M10/0562 ,  C23C16/40 ,  C23C16/409 ,  C23C16/45531 ,  C23C16/45553 ,  H01M6/185 ,  H01M6/188 ,  H01M6/40 ,  H01M2300/0068 ,  Y02E60/12 ,  Y10T29/49115

摘要： A method for the formation of lithium includes a layer on a substrate using an atomic layer deposition method. The method includes the sequential pulsing of a lithium precursor through a reaction chamber for deposition upon a substrate. Using further oxidizing pulses and or other metal containing precursor pulses, an electrolyte suitable for use in thin film batteries may be manufactured.

摘要翻译： 用于形成锂的方法包括使用原子层沉积方法在衬底上的层。 该方法包括通过用于沉积在基底上的反应室的锂前体的顺序脉冲。 使用另外的氧化脉冲和/或其它含金属前驱体脉冲，可以制造适用于薄膜电池的电解质。

公开(公告)号：US07998883B2

公开(公告)日：2011-08-16

申请号：US12820633

申请日：2010-06-22

申请人： Matti Putkonen

发明人： Matti Putkonen

IPC分类号： H01L21/314

CPC分类号： H01L21/0228 ,  C23C16/405 ,  C23C16/45531 ,  C23C16/45553 ,  H01L21/02189 ,  H01L21/02192 ,  H01L21/02194 ,  H01L21/28167 ,  H01L21/28194 ,  H01L21/28211 ,  H01L21/3141 ,  H01L21/31604 ,  H01L21/31641 ,  H01L29/517 ,  H01M8/1253 ,  Y02E60/525 ,  Y02P70/56

摘要： This invention concerns a process for producing oxide thin film on a substrate by an ALD type process. According to the process, alternating vapour-phase pulses of at least one metal source material, and at least one oxygen source material are fed into a reaction space and contacted with the substrate. According to the invention, an yttrium source material and a zirconium source material are alternately used as the metal source material so as to form an yttrium-stabilised zirconium oxide (YSZ) thin film on a substrate.

摘要翻译： 本发明涉及通过ALD型工艺在衬底上生产氧化物薄膜的方法。 根据该方法，将至少一种金属源材料和至少一种氧源材料的交替气相脉冲进料到反应空间中并与基底接触。 根据本发明，交替使用钇源材料和锆源材料作为金属源材料，以在衬底上形成钇稳定的氧化锆（YSZ）薄膜。

公开(公告)号：US20110041556A1

公开(公告)日：2011-02-24

申请号：US12811714

申请日：2009-02-17

申请人： Markku Rajala ,  Matti Putkonen ,  Sampo Ahonen ,  Joe Pimenoff ,  Anssi Hovinen ,  Sami Sneck

发明人： Markku Rajala ,  Matti Putkonen ,  Sampo Ahonen ,  Joe Pimenoff ,  Anssi Hovinen ,  Sami Sneck

IPC分类号： C03C17/23

CPC分类号： C03C17/25 ,  C03C23/006 ,  C03C2217/214 ,  C03C2217/22 ,  C23C16/403 ,  C23C16/405 ,  C23C16/453 ,  C23C16/56

摘要： Process for improving the chemical durability of glass by modifying at least one surface of a glass substrate. The modification process utilizes crystalline metal oxide particles with a mean aerodynamic particle diameter of less than 1000 nm, which are at least partially embedded on and into the glass surface. Apparatus for depositing crystalline metal oxide particles on glass surface.

摘要翻译： 通过改变玻璃基板的至少一个表面来提高玻璃的化学耐久性的方法。 改性方法使用平均气动力学粒径小于1000nm的结晶金属氧化物颗粒，其至少部分地嵌入玻璃表面和玻璃表面。 用于在玻璃表面上沉积结晶金属氧化物颗粒的装置。

公开(公告)号：US20070218290A1

公开(公告)日：2007-09-20

申请号：US11597358

申请日：2005-06-23

申请人： Markku Rajala ,  Pekka Soininen ,  Lauri Niinisto ,  Matti Putkonen ,  Joe Pimenoff ,  Jani Paivasaari

发明人： Markku Rajala ,  Pekka Soininen ,  Lauri Niinisto ,  Matti Putkonen ,  Joe Pimenoff ,  Jani Paivasaari

IPC分类号： C03C17/09 ,  C03B25/02

CPC分类号： C03C21/00 ,  C03B37/01853 ,  C03B2201/10 ,  C03B2201/12 ,  C03B2201/28 ,  C03B2201/30 ,  C03B2201/31 ,  C03B2201/32 ,  C03B2201/34 ,  C03B2201/36 ,  C03C11/00 ,  C03C21/007 ,  C03C23/0005 ,  C23C16/40 ,  C23C16/45525 ,  C23C16/45531 ,  C23C16/45555 ,  C30B25/02 ,  C30B31/08 ,  C30B31/16 ,  Y10T428/31504

摘要： The invention relates to a method for doping material, the method being characterized by depositing at least one dopant deposition layer or a part thereof on the surface of the material and/or on a surface of a part or parts thereof with the atom layer deposition (ALD) method, and further processing the material coated with a dopant in such a manner that the original structure of the dopant layer is changed to obtain new properties for the doped material. The material to be doped is preferably glass, ceramic, polymer, metal, or a composite material made thereof, and the further processing of the material coated with the dopant is a mechanical, chemical, radiation, or heat treatment, whereby the aim is to change the refraction index, absorbing power, electrical and/or heat conductivity, colour, or mechanical or chemical durability of the doped material.

摘要翻译： 本发明涉及一种用于掺杂材料的方法，该方法的特征在于：在原料层沉积物的一部分或多个表面上沉积至少一种掺杂剂沉积层或其一部分在材料表面上和/或其表面上 ALD）方法，并且进一步处理涂覆有掺杂剂的材料，使得改变掺杂剂层的原始结构以获得掺杂材料的新特性。 待掺杂的材料优选是玻璃，陶瓷，聚合物，金属或由其制成的复合材料，并且用掺杂剂涂覆的材料的进一步加工是机械，化学，辐射或热处理，其目的是 改变掺杂材料的折射率，吸收能力，电导率和/或热导率，颜色或机械或化学耐久性。

公开(公告)号：US20130130044A1

公开(公告)日：2013-05-23

申请号：US13512722

申请日：2010-11-19

申请人： Jarmo Maula ,  Matti Putkonen

发明人： Jarmo Maula ,  Matti Putkonen

IPC分类号： A44C17/00 ,  C04B41/50

CPC分类号： A44C17/007 ,  A44C17/00 ,  A44C27/006 ,  C04B41/009 ,  C04B41/4531 ,  C04B41/50 ,  C04B2111/82 ,  C23C16/18 ,  C23C16/32 ,  C23C16/40 ,  C23C16/45527 ,  Y10T428/31678 ,  C04B41/5061 ,  C04B41/5057 ,  C04B41/5105 ,  C04B41/5031 ,  C04B41/5041 ,  C04B14/00

摘要： A decorative coating and a method for forming a decorative coating on a gemstone to change the natural visual appearance of the gemstone. The decorative coating comprises an optically absorbing film. Depositing the absorbing film on the substrate comprises the alternating steps of introducing a first precursor to the reaction space such that at least a portion of the first precursor gets adsorbed onto the surface of the substrate, and subsequently purging the reaction space, and introducing a second precursor to the reaction space such that at least a portion of the second precursor reacts with the portion of the first precursor adsorbed onto the surface of the substrate to form a conformal absorbing film on the substrate comprising the gemstone, and subsequently purging the reaction space. The material of the absorbing film is selected from the group of oxides, carbides, noble metals or a mixture thereof.

摘要翻译： 一种装饰涂层和在宝石上形成装饰涂层以改变宝石的自然视觉外观的方法。 装饰性涂层包括光学吸收膜。 将吸收膜沉积在基底上包括将第一前体引入反应空间的交替步骤，使得第一前体的至少一部分被吸附到基底的表面上，随后清洗反应空间，并引入第二前体 反应空间的前体，使得第二前体的至少一部分与吸附在基底表面上的第一前体的部分反应，在包含宝石的基底上形成共形吸收膜，随后吹扫反应空间。 吸收膜的材料选自氧化物，碳化物，贵金属或其混合物。

公开(公告)号：US20120307193A1

公开(公告)日：2012-12-06

申请号：US13576590

申请日：2011-01-31

申请人： Olli Jylhä ,  Matti Putkonen ,  Arto Pakkala

发明人： Olli Jylhä ,  Matti Putkonen ,  Arto Pakkala

IPC分类号： G02F1/1339 ,  B32B37/02

CPC分类号： C23C16/45555 ,  C03C17/245 ,  C03C27/10 ,  C03C2217/214 ,  G02F1/133308 ,  G02F1/1339 ,  G02F2001/133311 ,  G02F2201/503

摘要： A strengthened structural module (2) and a method for fabricating a strengthened structural module(2). The module comprises an essentially planar glass substrate (1), an essentially planar second substrate (3), and at least one spacer element (5) in between the glass substrate (1) and the second substrate (3). The at least one spacer element (5) keeps the glass substrate (1) and the second substrate (3) separated from each other from the edges of the two substrates and defines a space (7) in between the two substrates in the inside of the module. The module comprises a coating (9) surrounding the module around the outside of the module. The coating (9) is arranged conformally on the surfaces facing the outside of the module, for increasing the strength of the module.

摘要翻译： 一种加强结构模块（2）和一种加强结构模块（2）的制造方法。 该模块包括基本上平面的玻璃基板（1），基本上平面的第二基板（3）和在玻璃基板（1）和第二基板（3）之间的至少一个间隔元件（5）。 所述至少一个间隔元件（5）使玻璃基板（1）和第二基板（3）彼此从两个基板的边缘分离开，并且在两个基板之间的内侧限定了空间（7） 模块。 模块包括围绕模块外部的模块的涂层（9）。 涂层（9）保形地布置在面向模块外部的表面上，以增加模块的强度。