公开(公告)号：US09345145B2

公开(公告)日：2016-05-17

申请号：US13255392

申请日：2010-03-10

申请人： Ryota Iwai ,  Tomoaki Tokuhisa ,  Masaru Kato ,  Tokihiko Yokoshima ,  Masahiro Aoyagi ,  Yasuhiro Yamaji ,  Katsuya Kikuchi ,  Hiroshi Nakagawa

发明人： Ryota Iwai ,  Tomoaki Tokuhisa ,  Masaru Kato ,  Tokihiko Yokoshima ,  Masahiro Aoyagi ,  Yasuhiro Yamaji ,  Katsuya Kikuchi ,  Hiroshi Nakagawa

IPC分类号： H01L23/48 ,  H05K3/18 ,  C23C18/16 ,  C23C18/44 ,  C23C18/18

CPC分类号： H05K3/187 ,  C23C18/1605 ,  C23C18/1607 ,  C23C18/165 ,  C23C18/1834 ,  C23C18/1844 ,  C23C18/1851 ,  C23C18/44

摘要： An electroless gold plating solution with which one or more openings formed in a resist overlying a substrate can be filled in a short time, the openings having a width on the order of micrometer, in particular, 100 μm or smaller, in terms of the width of the exposed substrate area, and having a height of 3 μm or larger. The electroless gold plating solution contains a deposition accelerator for deposition in fine areas, and a microfine pattern of 100 μm or finer is formed therefrom.

摘要翻译： 可以在短时间内填充形成在覆盖基板的抗蚀剂中形成的一个或多个开口的无电镀金液，所述开口宽度在数量级以上，特别是100μm以下 的暴露的基板区域，并且具有3μm或更大的高度。 无电镀金液含有用于在微细区域中沉积的沉积促进剂，由此形成100μm以上的微细图案。

公开(公告)号：US09334470B2

公开(公告)日：2016-05-10

申请号：US13705575

申请日：2012-12-05

申请人： Kanto Kagaku Kabushiki Kaisha

发明人： Yumiko Taniguchi ,  Kikue Morita ,  Chiyoko Horike ,  Takuo Ohwada

IPC分类号： C11D7/32 ,  C11D7/36 ,  C11D11/00 ,  C23G1/18 ,  C23G1/20 ,  H01L21/02 ,  C11D3/30 ,  C11D3/36

CPC分类号： C11D7/3209 ,  C11D3/30 ,  C11D3/361 ,  C11D7/36 ,  C11D11/0047 ,  C23G1/18 ,  C23G1/20 ,  H01L21/02052 ,  H01L21/02068

摘要： [Purpose]To provide a cleaning liquid composition that has excellent removability for metallic impurities and particulates, does not cause corrosion of Cu, and can clean a semiconductor substrate having copper wiring in a production process for an electronic device such as a semiconductor device.[Solution means]A cleaning liquid composition for cleaning a semiconductor substrate having copper wiring, the cleaning liquid composition containing one or more types of basic compound containing no metal, and one or more types of phosphonic acid-based chelating agent, and having a hydrogen ion concentration (pH) of 8 to 10.

摘要翻译： [目的]提供一种对于金属杂质和微粒具有优异的除去性的清洗液组合物，不会引起Cu的腐蚀，并且可以在半导体装置等电子器件的制造工序中清洗具有铜布线的半导体基板。 [解决方案]一种用于清洗具有铜布线的半导体衬底的清洗液组合物，含有一种或多种不含金属的碱性化合物的洗涤液组合物，以及一种或多种类型的膦酸类螯合剂，并具有氢 离子浓度（pH）为8〜10。

公开(公告)号：US09211533B2

公开(公告)日：2015-12-15

申请号：US13911188

申请日：2013-06-06

申请人： Kanto Kagaku Kabushiki Kaisha

发明人： Masahito Watanabe ,  Junichi Hori ,  Kunihiko Murata

IPC分类号： C07F15/00 ,  B01J31/12 ,  B01J31/22 ,  C07C209/78

CPC分类号： B01J31/2295 ,  C07C209/78 ,  C07F15/004 ,  C07F15/0053 ,  C07F15/008

摘要： [Problem]The present invention aims to provide a novel organometallic compound that can be used as a general-use highly active catalyst with superior selectivity for functional groups.[Means for Solving Problem]The present invention relates to an organometallic compound having a novel specific structure of general formula (1): and to a general-use highly active catalyst used in reductive amination reaction with superior selectivity for functional groups that comprises said organometallic compound, and to a process for preparing amine compounds by reductive amination reaction using said catalyst.

摘要翻译： 本发明的目的在于提供一种新的有机金属化合物，其可以用作对官能团具有优异选择性的通用高活性催化剂。 解决问题的手段本发明涉及具有通式（1）的新特异性结构的有机金属化合物：和用于还原胺化反应中的一般用途的高活性催化剂，对包含所述有机金属的官能团具有优异的选择性 化合物，以及通过使用所述催化剂的还原胺化反应制备胺化合物的方法。

公开(公告)号：US20150086473A1

公开(公告)日：2015-03-26

申请号：US14380088

申请日：2013-02-22

申请人： Kanto Kagaku Kabushiki Kaisha

发明人： Ryohei Yamaguchi ,  Ken-ichi Fujita

IPC分类号： B01J31/22 ,  C01B3/32 ,  C07C45/00 ,  C01B3/06

CPC分类号： C07F17/02 ,  B01J7/02 ,  B01J31/2295 ,  B01J2231/763 ,  B01J2231/766 ,  B01J2531/827 ,  C01B3/0015 ,  C01B3/06 ,  C01B3/22 ,  C01B3/326 ,  C01B2203/02 ,  C01B2203/0227 ,  C01B2203/0277 ,  C01B2203/1041 ,  C01B2203/1064 ,  C01B2203/1205 ,  C01B2203/1211 ,  C01B2203/1217 ,  C01B2203/1223 ,  C01B2203/1229 ,  C07B41/06 ,  C07B41/08 ,  C07C45/002 ,  C07C51/16 ,  C07C201/12 ,  C07C2601/08 ,  C07C2601/14 ,  C07J13/007 ,  Y02E60/328 ,  Y02E60/36 ,  Y02P20/132 ,  C07C47/02 ,  C07C47/06 ,  C07C47/32 ,  C07C47/52 ,  C07C49/04 ,  C07C49/213 ,  C07C49/395 ,  C07C49/403

摘要： Objects of the present invention are to provide a novel dehydrogenation reaction catalyst, to provide a method that can produce a ketone, an aldehyde, and a carboxylic acid with high efficiency from an alcohol, and to provide a method for efficiently producing hydrogen from an alcohol, formic acid, or a formate, and they are accomplished by a catalyst containing an organometallic compound of Formula (1).

摘要翻译： 本发明的目的是提供一种新颖的脱氢反应催化剂，以提供一种能够从醇高效地生产酮，醛和羧酸的方法，并提供一种从醇中高效生产氢的方法 ，甲酸或甲酸酯，并且它们通过含有式（1）的有机金属化合物的催化剂完成。

公开(公告)号：US20140091052A1

公开(公告)日：2014-04-03

申请号：US14039221

申请日：2013-09-27

申请人： Kanto Kagaku Kabushiki Kaisha

发明人： Kazuaki Nagashima ,  Hideki Takahashi

IPC分类号： C09K13/00 ,  C23F1/44 ,  C23F1/42

CPC分类号： C09K13/00 ,  C23F1/42 ,  C23F1/44

摘要： Technical ProblemThe present invention aims to provide an iodine-based etching solution having a high ratio of etching rate of a palladium material to that of a metal material other than the palladium material, in particular, an iodine-based etching solution capable of relatively decreasing the concentration of an organic solvent in the etching solution.Solution to ProblemThe iodine-based etching solution of the present invention is an iodine-based etching solution to etch a material in which a palladium material and a metal material other than the palladium material coexist, and comprises a water-compatible organic solvent and a water-soluble polymer compound.

摘要翻译： 技术问题本发明的目的是提供一种碘化物蚀刻溶液，其具有钯材料的蚀刻速率与除钯材料以外的金属材料的蚀刻速率高的碘基蚀刻溶液，特别是能够相对减少的碘基蚀刻溶液 腐蚀溶液中有机溶剂的浓度。 解决问题的方法本发明的碘系蚀刻溶液是用于蚀刻其中钯材料和除钯材料之外的金属材料共存的材料的碘基蚀刻溶液，并且包含水相容性有机溶剂和 水溶性高分子化合物。

公开(公告)号：US08105998B2

公开(公告)日：2012-01-31

申请号：US12311951

申请日：2007-10-24

申请人： Takuo Ohwada

发明人： Takuo Ohwada

IPC分类号： C11D7/08

CPC分类号： H01L21/31133 ,  G03F7/426 ,  H01L21/02071

摘要： Provided is a liquid composition for, at a low temperature in a short time, removing a photoresist residue and a polymer residue generated in a semiconductor circuit element manufacturing process A residue removing method using such composition is also provided. The composition removes the photoresist residue and/or the polymer residue generated in the manufacturing process of a semiconductor circuit element having a metal wiring. The composition includes a fluorine compound of 0.5-3.0 mass % and water not over 30 mass %, and has a pH of 4 or less.

摘要翻译： 本发明提供了一种在短时间内的低温下除去光致抗蚀剂残留物和在半导体电路元件制造方法A中产生的聚合物残渣的液体组合物。还提供了使用这种组合物的残留物去除方法。 该组合物除去在具有金属布线的半导体电路元件的制造过程中产生的光致抗蚀剂残留物和/或聚合物残留物。 该组合物包含0.5-3.0质量％的氟化合物和不超过30质量％的水，并且具有4以下的pH。

公开(公告)号：US20110319671A1

公开(公告)日：2011-12-29

申请号：US13170347

申请日：2011-06-28

申请人： Takeaki Katayama ,  Toshihide Takemoto ,  Kunihiko Murata

发明人： Takeaki Katayama ,  Toshihide Takemoto ,  Kunihiko Murata

IPC分类号： C07C29/143

CPC分类号： C07C29/143 ,  C07B2200/07 ,  C07C31/38

摘要： The problem to be resolved by the present invention is to provide a method for efficiently synthesizing optically active lower aliphatic alcohols that have difficulty in separation from organic solvents, without using a special reactor.The present invention relates to a method for producing an optically active aliphatic alcohol having a fluorine atom at α position, wherein an optically active alcohol is produced by reacting an aliphatic ketone having a fluorine atom at α position in water using a formate, under the presence of an asymmetric catalyst represented by general formula (1) and an acid.

摘要翻译： 本发明要解决的问题是提供一种高效合成难以与有机溶剂分离的光学活性低级脂族醇的方法，而不使用特殊的反应器。 本发明涉及一种在α位具有氟原子的光学活性脂肪醇的制造方法，其特征在于，在甲酸盐存在下，使甲酸酯在水中的α位置具有氟原子的脂肪族酮， 的由通式（1）表示的不对称催化剂和酸。

公开(公告)号：US20110297873A1

公开(公告)日：2011-12-08

申请号：US13201955

申请日：2010-02-23

申请人： Kenji Kuroiwa ,  Kazuaki Nagashima ,  Masaru Kato ,  Nohara Masahiro

发明人： Kenji Kuroiwa ,  Kazuaki Nagashima ,  Masaru Kato ,  Nohara Masahiro

IPC分类号： C09K13/08 ,  C23F1/26 ,  C23F1/20 ,  C09K13/00 ,  C23F1/00

CPC分类号： C23F1/20 ,  C23F1/26 ,  C23F1/44 ,  H01L21/32134

摘要： Disclosed are etching solution compositions that comprise fluorine compounds and iron ions, which are used for bulk etching of metal laminate films wherein a layer comprising aluminum or an aluminum alloy is laminated on top and a layer comprising titanium or a titanium alloy on bottom, and an etching method using said etching solution compositions.

摘要翻译： 公开了包含氟化合物和铁离子的蚀刻溶液组合物，其用于金属层压膜的体蚀刻，其中包含铝或铝合金的层在顶部层压，并且包括底部包含钛或钛合金的层，以及 使用所述蚀刻溶液组合物的蚀刻方法。

公开(公告)号：US20110282077A1

公开(公告)日：2011-11-17

申请号：US13104156

申请日：2011-05-10

申请人： Taito Hatakeyama ,  Kunihiko Murata ,  Kunihiko Tsutsumi ,  Noriyuki Utsumi

发明人： Taito Hatakeyama ,  Kunihiko Murata ,  Kunihiko Tsutsumi ,  Noriyuki Utsumi

IPC分类号： C07D311/22 ,  C07C253/30 ,  C07C67/31 ,  C07C29/145

CPC分类号： C07B53/00 ,  C07B2200/07 ,  C07C29/143 ,  C07C29/157 ,  C07C67/31 ,  C07C253/30 ,  C07C33/26 ,  C07C33/46 ,  C07C69/732 ,  C07C255/36

摘要： The object of the present invention is to solve the problems in the prior arts, and to find more improved reaction conditions for suppressing the racemization of the product and obtaining an optically active alcohol at a high optical purity. The inventors achieved to solve the above problems by using a solvent system that is capable of resolving both an asymmetric catalyst and a formate salt, allowing the hydrogen source and the asymmetric catalyst to be present in the same phase.

摘要翻译： 本发明的目的是解决现有技术中的问题，并找到更好的反应条件来抑制产物的外消旋化并获得光学纯度高的光学活性醇。 本发明人通过使用能够分解不对称催化剂和甲酸盐的溶剂体系来实现上述问题，使得氢源和不对称催化剂以相同的相存在。

公开(公告)号：US07619125B2

公开(公告)日：2009-11-17

申请号：US11547002

申请日：2005-03-30

申请人： Junichi Hori ,  Kunihiko Murata ,  Nobuhito Kurono ,  Takeshi Ohkuma ,  Ryoji Noyori

发明人： Junichi Hori ,  Kunihiko Murata ,  Nobuhito Kurono ,  Takeshi Ohkuma ,  Ryoji Noyori

IPC分类号： B01J31/00

CPC分类号： B01J31/2291 ,  B01J23/44 ,  B01J31/2286 ,  B01J35/0013 ,  B01J35/006 ,  B01J2231/645 ,  B01J2531/824 ,  B82Y30/00 ,  C07C5/09 ,  C07C17/354 ,  C07C29/17 ,  C07C2531/22 ,  C07F15/006 ,  C07F15/0066 ,  C07C11/02 ,  C07C21/04 ,  C07C33/046 ,  C07C33/044 ,  C07C33/042 ,  C07C33/025

摘要： A hydrogenation promoter of the present invention is produced by reacting an alkyne compound or an alkene compound, a palladium compound represented by a general formula Pd(II)XjLk (where L represents a monodentate ligand or a polydendate ligand other than a phosphorus-containing ligand (when two or more Ls are present in the compound, the Ls may be the same or different), X represents an anionic group, j represents a value determined according to the valence of X so that Xj has a valence of −2 as a whole, and k represents an integer in the range of 0 to 4), and a base in an organic solvent. Specifically, The hydrogenation promoter of the invention includes palladium nanoparticles containing the alkyne compound or the alkene compound as an agglomeration-preventing agent.

摘要翻译： 本发明的氢化促进剂是通过使炔烃化合物或烯烃化合物，通式Pd（II）XjLk（其中L代表单配体或除了含磷配体之外的多齿配位体）表示的钯化合物 （当化合物中存在两个或更多个L时，L可以相同或不同），X表示阴离子基团，j表示根据X的化合价确定的值，使得Xj的化合价为-2，为 整数，k表示0〜4的整数）和有机溶剂中的碱。 具体地说，本发明的氢化促进剂包括含有炔化合物或烯化合物作为防结块剂的钯纳米颗粒。