公开(公告)号：US07760327B2

公开(公告)日：2010-07-20

申请号：US11395719

申请日：2006-03-31

申请人： Hans-Jürgen Scherle ,  Yim-Bun Patrick Kwan ,  Stefan Xalter ,  Johannes Lippert ,  Ulrich Weber ,  Bernhard Geuppert ,  Bernhard Gellrich ,  Jens Kugler ,  Franz Sorg ,  Willi Heintel ,  Harald Kirchner ,  Wolfgang Keller ,  Andreas Frommeyer ,  Fraser G. Morrison

发明人： Hans-Jürgen Scherle ,  Yim-Bun Patrick Kwan ,  Stefan Xalter ,  Johannes Lippert ,  Ulrich Weber ,  Bernhard Geuppert ,  Bernhard Gellrich ,  Jens Kugler ,  Franz Sorg ,  Willi Heintel ,  Harald Kirchner ,  Wolfgang Keller ,  Andreas Frommeyer ,  Fraser G. Morrison

IPC分类号： G03B27/42 ,  G03B27/54 ,  G03B27/32 ,  G02B5/10

CPC分类号： G03F7/70225 ,  G02B17/0812

摘要： There is provided an optical element comprising an optical element body, a reflecting area and an optical passageway. The optical element body defines an axis of rotational symmetry. The reflecting area is disposed on the optical element body and adapted to be optically used in an exposure process. The optical passageway is arranged within the optical element body and allows light to pass the optical element body, the optical passageway being arranged eccentrically with respect to the axis of rotational symmetry.

摘要翻译： 提供了一种包括光学元件主体，反射区域和光学通道的光学元件。 光学元件主体限定旋转对称轴。 反射区域设置在光学元件主体上并且适于在曝光过程中被光学地使用。 光学通道布置在光学元件主体内并允许光通过光学元件主体，光学通道相对于旋转对称轴线偏心地布置。

公开(公告)号：US07545483B2

公开(公告)日：2009-06-09

申请号：US12008879

申请日：2008-01-15

申请人： Bernhard Gellrich ,  Jens Kugler ,  Thomas Schletterer ,  Guido Limbach ,  Julian Kaller ,  Hans-Juergen Scherle ,  Detlev Mueller ,  Dieter Schmerek

发明人： Bernhard Gellrich ,  Jens Kugler ,  Thomas Schletterer ,  Guido Limbach ,  Julian Kaller ,  Hans-Juergen Scherle ,  Detlev Mueller ,  Dieter Schmerek

IPC分类号： G03B27/54

CPC分类号： G02B27/0006 ,  G02B1/18 ,  G02B7/023 ,  G03B27/52 ,  G03F7/70341 ,  G03F7/70808 ,  G03F7/70833 ,  G03F7/70933

摘要： An optical element unit is provided comprising an optical element group; a housing receiving said optical element group and having an inner housing part and an exit end; and a purge unit connected to said housing and providing a purge medium to said inner housing part. The optical element group comprises an ultimate optical element. The ultimate optical element is located at the exit end of housing and separates the inner housing part from an environment external to the housing. The ultimate optical element and the housing define a sealing gap. The purge unit provides purge medium to the sealing gap to prevent intrusion of contaminants into the inner housing part.

摘要翻译： 提供一种光学元件单元，包括光学元件组; 接收所述光学元件组并具有内部壳体部分和出口端的壳体; 以及净化单元，其连接到所述壳体并且向所述内壳体部件提供净化介质。 光学元件组包括极限光学元件。 最终的光学元件位于壳体的出口端处，并将内部壳体部件与壳体外部的环境分离。 最终的光学元件和壳体限定了密封间隙。 净化单元向密封间隙提供净化介质，以防止污染物侵入内壳体部分。

公开(公告)号：US20080002170A1

公开(公告)日：2008-01-03

申请号：US10580179

申请日：2004-11-22

申请人： Bernhard Gellrich ,  Andreas Wurmbrand ,  Jens Kugler ,  Armin Schoeppach ,  Christian Zengerling ,  Stephane Bruynooghe

发明人： Bernhard Gellrich ,  Andreas Wurmbrand ,  Jens Kugler ,  Armin Schoeppach ,  Christian Zengerling ,  Stephane Bruynooghe

IPC分类号： G03F7/20 ,  G02B7/02

CPC分类号： G03F7/70341 ,  G03F7/70808 ,  G03F7/70825 ,  G03F7/70891

摘要： A holding device for an optical element in an objective has a mount that is connected to the objective, on the one hand, and at least indirectly to the optical element, on the other hand. Arranged between the mount and the optical element is a reinforcing element whose coefficient of thermal expansion corresponds substantially to the coefficient of thermal expansion of the optical element.

摘要翻译： 另一方面，用于目标中的光学元件的保持装置具有一方面连接到物镜并且至少间接连接到光学元件的安装座。 在安装件和光学元件之间布置的是其热膨胀系数基本上对应于光学元件的热膨胀系数的增强元件。

公开(公告)号：US20060262704A1

公开(公告)日：2006-11-23

申请号：US11395719

申请日：2006-03-31

申请人： Hans-Jurgen Scherle ,  Yim-Bun Kwan ,  Stefan Xalter ,  Johannes Lippert ,  Ulrich Weber ,  Bernhard Geuppert ,  Bernhard Gellrich ,  Jens Kugler ,  Franz Sorg ,  Willi Heintel ,  Harald Kirchner ,  Wolfgang Keller ,  Andreas Frommeyer ,  Fraser Morrison

发明人： Hans-Jurgen Scherle ,  Yim-Bun Kwan ,  Stefan Xalter ,  Johannes Lippert ,  Ulrich Weber ,  Bernhard Geuppert ,  Bernhard Gellrich ,  Jens Kugler ,  Franz Sorg ,  Willi Heintel ,  Harald Kirchner ,  Wolfgang Keller ,  Andreas Frommeyer ,  Fraser Morrison

IPC分类号： G11B7/135

CPC分类号： G03F7/70225 ,  G02B17/0812

摘要： There is provided an optical element comprising an optical element body, a reflecting area and an optical passageway. The optical element body defines an axis of rotational symmetry. The reflecting area is disposed on the optical element body and adapted to be optically used in an exposure process. The optical passageway is arranged within the optical element body and allows light to pass the optical element body, the optical passageway being arranged eccentrically with respect to the axis of rotational symmetry.

摘要翻译： 提供了一种包括光学元件主体，反射区域和光学通道的光学元件。 光学元件主体限定旋转对称轴。 反射区域设置在光学元件主体上并且适于在曝光过程中被光学地使用。 光学通道布置在光学元件主体内并允许光通过光学元件主体，光学通道相对于旋转对称轴线偏心地布置。

公开(公告)号：US06844994B2

公开(公告)日：2005-01-18

申请号：US09956715

申请日：2001-09-19

申请人： Frank Melzer ,  Michael Mühlbeyer ,  Bernhard Gellrich ,  Franz Sorg ,  Stefan Xalter ,  Thomas Ittner

发明人： Frank Melzer ,  Michael Mühlbeyer ,  Bernhard Gellrich ,  Franz Sorg ,  Stefan Xalter ,  Thomas Ittner

IPC分类号： G02B26/00 ,  G02B5/10 ,  G02B13/24 ,  G02B26/06 ,  G02B26/08 ,  G02B27/00 ,  G02B27/18 ,  G03F7/20 ,  H01L21/027 ,  G02B7/02

CPC分类号： G03F7/70258 ,  G02B26/06 ,  G02B27/0068

摘要： In a system for specific deformation of optical elements in an imaging device, in particular in a projection exposure machine having a projection lens for micro-lithography, for the purpose of eliminating image errors or for active adjustment, piezoelectric elements are applied as actuators in the form of thin plates, films or layers to surfaces to be deformed, or integrated into them. In conjunction with an adaptronic servo loop having sensors, forces and/or moments are exerted on the optical elements for their specific deformation by means of a controlled activation of the piezoelectric elements as actuators.

摘要翻译： 在用于成像装置中的光学元件的特定变形的系统中，特别是在具有用于微光刻的投影透镜的投影曝光机中，为了消除图像误差或主动调节，压电元件作为致动器 形式的薄板，薄膜或层到要变形的表面或整合到它们中。 结合具有传感器的自适应伺服回路，通过作为致动器的压电元件的受控激活，力和/或力矩被施加在光学元件上用于其特定变形。

公开(公告)号：US06700715B2

公开(公告)日：2004-03-02

申请号：US10016704

申请日：2001-12-11

申请人： Franz Sorg ,  Stefan Xalter ,  Michael Muehlbeyer ,  Bernhard Gellrich ,  Frank Melzer ,  Thomas Ittner

发明人： Franz Sorg ,  Stefan Xalter ,  Michael Muehlbeyer ,  Bernhard Gellrich ,  Frank Melzer ,  Thomas Ittner

IPC分类号： G02B702

CPC分类号： G03F7/709 ,  F16F15/005 ,  F16F15/02 ,  G02B27/646

摘要： In an oscillation damping system, the oscillations which act on an optical element in an imaging device, in particular on deformation-decoupled mounts and manipulators in a projection illumination arrangement, in particular in a projection objective for microlithographic projection exposure objective lithography, are detected by sensors, by actuators waves with same or at least similar frequencies and amplitudes of anti-phases to the disturbing oscillations are generated and introduced in said mount.

摘要翻译： 在振荡阻尼系统中，作用在成像装置中的光学元件，特别是在投影照明装置中的变形解耦安装件和操纵器上的振荡，特别是用于微光刻投影曝光物镜光刻的投影物镜中的振荡被检测 通过致动器产生具有与干扰振荡相同或至少相似的频率和反相振幅的致动器传感器，并将其引入到所述安装件中。

公开(公告)号：US09298111B2

公开(公告)日：2016-03-29

申请号：US13405882

申请日：2012-02-27

申请人： Viktor Kulitzki ,  Bernhard Gellrich ,  Stefan Xalter ,  Yim-Bun Patrick Kwan ,  Peter Deufel ,  Andreas Wurmbrand

发明人： Viktor Kulitzki ,  Bernhard Gellrich ,  Stefan Xalter ,  Yim-Bun Patrick Kwan ,  Peter Deufel ,  Andreas Wurmbrand

IPC分类号： G03B27/52 ,  G03B27/54 ,  G03B27/32 ,  G03F7/20 ,  G02B7/00

CPC分类号： G03F7/70916 ,  G02B7/00 ,  G03F7/70233 ,  G03F7/70808 ,  G03F7/70825 ,  G03F7/70891

摘要： An optical arrangement includes a multiplicity of optical elements and a carrier structure which carries the optical elements. The carrier structure is composed of at least two releasably interconnected modules. Each module is composed of at least one carrier structure subelement. A subhousing is produced by a multiplicity of carrier structure subelements and/or modules. The subhousing has a geometry that varies, at least in regions, in correspondence to a usable beam path in the projection exposure apparatus, the usable beam path being defined as an envelope of all light bundles which can propagate from all field points in a field plane to an image plane of the projection exposure apparatus. A projection exposure apparatus for EUV lithography includes such an optical arrangement.

摘要翻译： 光学装置包括多个光学元件和承载光学元件的载体结构。 载体结构由至少两个可释放地互连的模块组成。 每个模块由至少一个载体结构子元件组成。 子载体由多个载体结构子元件和/或模块产生。 子结构具有至少在区域中对应于投影曝光装置中的可用光束路径而变化的几何形状，可用光束路径被定义为可以在场平面中从所有场点传播的所有光束的包络 到投影曝光装置的像平面。 用于EUV光刻的投影曝光装置包括这种光学装置。

公开(公告)号：US08860922B2

公开(公告)日：2014-10-14

申请号：US13356231

申请日：2012-01-23

申请人： Christiaan Alexander Hoogendam ,  Erik Roelof Loopstra ,  Bob Streefkerk ,  Bernhard Gellrich ,  Andreas Wurmbrand

发明人： Christiaan Alexander Hoogendam ,  Erik Roelof Loopstra ,  Bob Streefkerk ,  Bernhard Gellrich ,  Andreas Wurmbrand

IPC分类号： G03F7/20

CPC分类号： G03F7/70341

摘要： Liquid is supplied to a space between the projection system of a lithographic apparatus and a substrate. A flow of gas towards a vacuum inlet prevents the humid gas from escaping to other parts of the lithographic apparatus. This may help to protect intricate parts of the lithographic apparatus from being damaged by the presence of humid gas.

摘要翻译： 将液体供应到光刻设备的投影系统和基板之间的空间。 朝向真空入口的气体流阻止湿气逸出到光刻设备的其它部分。 这可能有助于保护光刻设备的复杂部分免受潮湿气体的损坏。

公开(公告)号：US08456616B2

公开(公告)日：2013-06-04

申请号：US12993540

申请日：2009-04-07

申请人： Daniel Kraehmer ,  Wilhelm Ulrich ,  Matthias Manger ,  Bernhard Gellrich

发明人： Daniel Kraehmer ,  Wilhelm Ulrich ,  Matthias Manger ,  Bernhard Gellrich

IPC分类号： G02B3/02 ,  G02B7/02 ,  G03B27/32 ,  G03B27/42 ,  G03B27/54

CPC分类号： G03F7/70308

摘要： An optical system, in particular a projection objective, for microlithography, has an optical axis and at least one optical correction arrangement, which has a first optical correction element and at least one second optical correction element, wherein the first correction element is provided with a first aspherical surface contour, and wherein the second correction element is provided with a second aspherical surface contour, wherein the first surface contour and the second surface contour add up at least approximately to zero, wherein the correction arrangement has at least one drive for movement of at least one of the two correction elements. In this case, at least one of the two correction elements can rotate about a rotation axis which is at least approximately parallel to the optical axis, and the at least one drive is a rotary drive for rotation of one or both of the correction elements about the rotation axis.

摘要翻译： 用于微光刻的光学系统，特别是投影物镜具有光轴和至少一个光学校正装置，其具有第一光学校正元件和至少一个第二光学校正元件，其中第一校正元件设置有 第一非球面表面轮廓，并且其中所述第二校正元件设置有第二非球面轮廓，其中所述第一表面轮廓和所述第二表面轮廓至少近似为零，其中所述校正装置具有至少一个驱动器， 两个校正元素中的至少一个。 在这种情况下，两个校正元件中的至少一个可以围绕至少近似平行于光轴的旋转轴线旋转，并且至少一个驱动器是用于一个或两个校正元件旋转的旋转驱动器 旋转轴。

公开(公告)号：US20120188523A1

公开(公告)日：2012-07-26

申请号：US13405882

申请日：2012-02-27

申请人： Viktor Kulitsky ,  Bernhard Gellrich ,  Stefan Xalter ,  Yim-Bun Patrick Kwan ,  Peter Deufel ,  Andreas Wurmbrand

发明人： Viktor Kulitsky ,  Bernhard Gellrich ,  Stefan Xalter ,  Yim-Bun Patrick Kwan ,  Peter Deufel ,  Andreas Wurmbrand

IPC分类号： G03B27/70 ,  G02B7/182

CPC分类号： G03F7/70916 ,  G02B7/00 ,  G03F7/70233 ,  G03F7/70808 ,  G03F7/70825 ,  G03F7/70891

摘要： An optical arrangement includes a multiplicity of optical elements and a carrier structure which carries the optical elements. The carrier structure is composed of at least two releasably interconnected modules. Each module is composed of at least one carrier structure subelement. A subhousing is produced by a multiplicity of carrier structure subelements and/or modules. The subhousing has a geometry that varies, at least in regions, in correspondence to a usable beam path in the projection exposure apparatus, the usable beam path being defined as an envelope of all light bundles which can propagate from all field points in a field plane to an image plane of the projection exposure apparatus. A projection exposure apparatus for EUV lithography includes such an optical arrangement.

摘要翻译： 光学装置包括多个光学元件和承载光学元件的载体结构。 载体结构由至少两个可释放地互连的模块组成。 每个模块由至少一个载体结构子元件组成。 子载体由多个载体结构子元件和/或模块产生。 子结构具有至少在区域中对应于投影曝光装置中的可用光束路径而变化的几何形状，可用光束路径被定义为可以在场平面中从所有场点传播的所有光束的包络 到投影曝光装置的像平面。 用于EUV光刻的投影曝光装置包括这种光学装置。